JPS598946B2 - 電界放出型電子銃におけるクリ−ニング装置 - Google Patents
電界放出型電子銃におけるクリ−ニング装置Info
- Publication number
- JPS598946B2 JPS598946B2 JP54038103A JP3810379A JPS598946B2 JP S598946 B2 JPS598946 B2 JP S598946B2 JP 54038103 A JP54038103 A JP 54038103A JP 3810379 A JP3810379 A JP 3810379A JP S598946 B2 JPS598946 B2 JP S598946B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron gun
- emitter
- extraction electrode
- field emission
- cleaning device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電界放出型電子銃のクリーニングに関するもの
である。
である。
電子顕微鏡等における電子銃のクリーニングを行う場合
には、一般には電子銃を分解して溶剤等により汚れを除
去することが行なわれている。
には、一般には電子銃を分解して溶剤等により汚れを除
去することが行なわれている。
しかし乍ら斯様な方法ではクリーニングを行うたびに電
子銃を分解して組立てなければならないため、取扱いが
非常に厄介である。
子銃を分解して組立てなければならないため、取扱いが
非常に厄介である。
そこで近時電子銃を分解することなくクリーニングを行
うために、電子銃室に不活性ガスを導入せしめて１０”
Ｔｏｒｒ程度の圧力に保った状態で強制的にグロー放電
を発生させることによりイオン化し、生成されたイオン
を電極等に衝撃せしめて汚れを取り除くような方法が提
案されている。
うために、電子銃室に不活性ガスを導入せしめて１０”
Ｔｏｒｒ程度の圧力に保った状態で強制的にグロー放電
を発生させることによりイオン化し、生成されたイオン
を電極等に衝撃せしめて汚れを取り除くような方法が提
案されている。
しかし乍ら斯かるイオン衝撃によるクリーニング法はフ
ィラメント先端の尖鋭度を必要としない熱電子放出型電
子銃においては何等支障をきたすことなく実施すること
ができるが、エミツター先端の尖鋭度を必要とする電界
放出型電子銃に実施しようとした場合、尖鋭なエミッタ
ーにイオンや電子が衝撃してこのエミツターを破損させ
てしまう不都合が生ずる。
ィラメント先端の尖鋭度を必要としない熱電子放出型電
子銃においては何等支障をきたすことなく実施すること
ができるが、エミツター先端の尖鋭度を必要とする電界
放出型電子銃に実施しようとした場合、尖鋭なエミッタ
ーにイオンや電子が衝撃してこのエミツターを破損させ
てしまう不都合が生ずる。
本発明は斯様な点に鑑み、電界放出型電子銃においてエ
ミッターを破損することなくイオン衝撃によるクリーニ
ングを行うことのできる装置を提供するもので、以上図
面に基づき詳説する。
ミッターを破損することなくイオン衝撃によるクリーニ
ングを行うことのできる装置を提供するもので、以上図
面に基づき詳説する。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ断面図であり、１は電子銃室である。
図のＡ−Ａ断面図であり、１は電子銃室である。
該電子銃室１の上面１ａには穴２が形成してあり、この
穴２内には隙間を保って碍子３が挿入される。
穴２内には隙間を保って碍子３が挿入される。
４は該碍子３を保持するための碍子取付板は第２図に示
すように電子銃室１上面に対向して設けられた突出部５
ａ，５ｂとの間に回転６ａ及び６ｂを介して傾動可能に
保持されている。
すように電子銃室１上面に対向して設けられた突出部５
ａ，５ｂとの間に回転６ａ及び６ｂを介して傾動可能に
保持されている。
又該碍子取付板４下面と電子銃室上面１ａの穴２の縁部
との間には真空シール用の金属ベローズ７が設置してあ
る。
との間には真空シール用の金属ベローズ７が設置してあ
る。
更に該碍子取付板４の端部にはこの碍子取付板を前記回
転軸６ ａ ｔ ６ ｂを中心にして傾動させるための
調整ネジ８が螺合されている。
転軸６ ａ ｔ ６ ｂを中心にして傾動させるための
調整ネジ８が螺合されている。
９は該調整ネジ８の先端を常に電子銃室の上面１ａに係
合させるためのスプリングである。
合させるためのスプリングである。
１０は前記碍子３の下端にステム１１ａ，１ｌｂ及びフ
ィラメント１２を介して保持され且つ先端が尖鋭に加工
されたエミツターである。
ィラメント１２を介して保持され且つ先端が尖鋭に加工
されたエミツターである。
１３は該エミツター１０の先端に電界放出を行うために
必要な電界強度を発生させるための引出電極で、エミツ
タ−１０を包囲するようにおかれている。
必要な電界強度を発生させるための引出電極で、エミツ
タ−１０を包囲するようにおかれている。
１４及び１５は前記エミツタ−１０から放出された電子
を加速するための第１及び第２の陽極である。
を加速するための第１及び第２の陽極である。
前記引出電極１３、第１及び第２の陽極１４及び１５は
絶縁体１６を介して順次積重ねられている。
絶縁体１６を介して順次積重ねられている。
１７は乾燥したアルゴンガス又は窒素ガス等の不活性ガ
ス（不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスでもよい）を内
蔵したガスボンベで、該ガスボンベはパイプ１８を介し
て電子銃室１内に接続されている。
ス（不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスでもよい）を内
蔵したガスボンベで、該ガスボンベはパイプ１８を介し
て電子銃室１内に接続されている。
該パイプ１８には電子銃室１内に導入される不活性ガス
の流量を調整する可変リークバルプ１９が設けてある。
の流量を調整する可変リークバルプ１９が設けてある。
２０はリード線２１ａ，２ｌｂ及びスイッチ２２を介し
て前記隣接する引出電極１３と第１の陽極１４、第１の
陽極１４と第２の陽極１５との間に例えばｌｋｖ程度の
交流電圧（直流電圧でもよい）を印加するための交流電
源である。
て前記隣接する引出電極１３と第１の陽極１４、第１の
陽極１４と第２の陽極１５との間に例えばｌｋｖ程度の
交流電圧（直流電圧でもよい）を印加するための交流電
源である。
尚図示はしないが電子銃室１は超高真空ポンプに接続さ
れていて、超高真空に保つことができる。
れていて、超高真空に保つことができる。
しかして、今クリーニングを行う場合には、先ず調整ネ
ジ８を回して後進させることにより第３図にその状態を
示すように碍子３を回転軸６ａ，６ｂを中心にして傾動
させ、エミツタ−１０の先端を引出電極１３の電子銃通
過孔１３ａ部分から離れるように移動させる。
ジ８を回して後進させることにより第３図にその状態を
示すように碍子３を回転軸６ａ，６ｂを中心にして傾動
させ、エミツタ−１０の先端を引出電極１３の電子銃通
過孔１３ａ部分から離れるように移動させる。
しかる後、可変リークバルプ１９を開放し、電子銃室１
内に不活性ガスを導入することによりこの電子銃室内を ＩＸＩＯ ’Ｔｏｒｒ 〜５Ｘ１０ ” Ｔｏｒｒ
のガス雰囲気にする。
内に不活性ガスを導入することによりこの電子銃室内を ＩＸＩＯ ’Ｔｏｒｒ 〜５Ｘ１０ ” Ｔｏｒｒ
のガス雰囲気にする。
斯くした状態においてスイッチ２２をオンにすると交流
電源２０から約１ｋｖ程度の交流電圧が各電極１３と１
４．１４と１５との間に印加されるため、強制的にグロ
ー放電が起こる。
電源２０から約１ｋｖ程度の交流電圧が各電極１３と１
４．１４と１５との間に印加されるため、強制的にグロ
ー放電が起こる。
該放電により不活性ガスは電離されてイオンとなり、こ
のイオンは前記交流電源２０の周期に従って各電極間を
交番的に衝撃するので、引出電極１３の外側や第１及び
第２の陽極表面の汚れが除去される。
のイオンは前記交流電源２０の周期に従って各電極間を
交番的に衝撃するので、引出電極１３の外側や第１及び
第２の陽極表面の汚れが除去される。
このときエミツタ−１０の先端は引出電極１３の電子線
通過孔１３ａ部分から遠ざけられているため、放電中に
発生するイオンや電子の衝撃を受けることがない。
通過孔１３ａ部分から遠ざけられているため、放電中に
発生するイオンや電子の衝撃を受けることがない。
しかしてクリーニングが終了した後は、先ずスイッチ２
２をオフにする，と共に可変リークバルプ１９を閉鎖し
、電子銃室１内を排気する。
２をオフにする，と共に可変リークバルプ１９を閉鎖し
、電子銃室１内を排気する。
しかる後、調整ネジ８を前述とは逆の方向に回転させる
ことによりエミツター１０を第１図で示す位置つまり光
軸上に位置せしめる。
ことによりエミツター１０を第１図で示す位置つまり光
軸上に位置せしめる。
以上の如く構成することにより本発明は電界放出型電子
銃においてエミツターを破損させることなくイオン衝撃
によるクリーニングを行うことができ、実用性大なる効
果を有する。
銃においてエミツターを破損させることなくイオン衝撃
によるクリーニングを行うことができ、実用性大なる効
果を有する。
尚、前述の実施例ではエミツターを引出電極の電子線通
過孔から遠ざけるために碍子を傾動させるように構成し
たが、これに限定されることなく、例えば碍子を水平移
動又は回動させるように構成してもよい。
過孔から遠ざけるために碍子を傾動させるように構成し
たが、これに限定されることなく、例えば碍子を水平移
動又は回動させるように構成してもよい。
又、斯かるエミツターを引出電極の電子線通過孔から遠
ざけるための移動手段はエミツターを光軸と直交する平
面内で微動させるための微動機構内に組み込むように構
成すれば、エミツターの位置合せを正確に行うことが可
能となる。
ざけるための移動手段はエミツターを光軸と直交する平
面内で微動させるための微動機構内に組み込むように構
成すれば、エミツターの位置合せを正確に行うことが可
能となる。
更にエミツターから放出された電子を加速するための陽
極は２つ使用したが、１つ又は３つ以上使用してもよい
ことは言うまでもない。
極は２つ使用したが、１つ又は３つ以上使用してもよい
ことは言うまでもない。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ断面図、第３図は本発明の動作を説明するた
めの図である。 図中、１は電子銃室、２は穴、３は碍子、４は碍子取付
板、５ａ及び５ｂは突出部、６ａ及び６ｂは回転軸、７
は金属ベローズ、８は調整ネジ、９はバネ、１０はエミ
ツター、１３は引出電極、１４及び１５は第１及び第２
の陽極、１６は絶縁体、１７はガスボンベ、１８はパイ
プ、１９は可変リークバルプ、２０は交流電源、２２は
スイッチである。
図のＡ−Ａ断面図、第３図は本発明の動作を説明するた
めの図である。 図中、１は電子銃室、２は穴、３は碍子、４は碍子取付
板、５ａ及び５ｂは突出部、６ａ及び６ｂは回転軸、７
は金属ベローズ、８は調整ネジ、９はバネ、１０はエミ
ツター、１３は引出電極、１４及び１５は第１及び第２
の陽極、１６は絶縁体、１７はガスボンベ、１８はパイ
プ、１９は可変リークバルプ、２０は交流電源、２２は
スイッチである。
Claims (1)
- １ 電界放出を行うエミッターと、該エミッ２一先端に
電界放出を行うに必要な電界強度を発生させるための引
出電極と、前記エミッターから放出された電子を加速す
るための少なくとも１つの陽極と、前記エミツター、引
出電極及び陽極を収納する電子銃室と、該電子銃室内に
グロー放電を発生させるための気体を導入するための手
段と、前記引出電極と陽極との間にグロー放電用電圧を
印加するための手段と、前記エミッターを引出電極に設
けた電子線通過孔部分から遠ざけるための手段とからな
る電界放出型電子銃におけるクリ一二ング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54038103A JPS598946B2 (ja) | 1979-03-30 | 1979-03-30 | 電界放出型電子銃におけるクリ−ニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54038103A JPS598946B2 (ja) | 1979-03-30 | 1979-03-30 | 電界放出型電子銃におけるクリ−ニング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55130052A JPS55130052A (en) | 1980-10-08 |
| JPS598946B2 true JPS598946B2 (ja) | 1984-02-28 |
Family
ID=12516129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54038103A Expired JPS598946B2 (ja) | 1979-03-30 | 1979-03-30 | 電界放出型電子銃におけるクリ−ニング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS598946B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10134559B2 (en) | 2015-07-28 | 2018-11-20 | Nuflare Technology, Inc. | Method of cleaning electron source and electron beam writing apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2312609B1 (en) | 2009-10-13 | 2013-08-28 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Method and apparatus of pretreatment of an electron gun chamber |
-
1979
- 1979-03-30 JP JP54038103A patent/JPS598946B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10134559B2 (en) | 2015-07-28 | 2018-11-20 | Nuflare Technology, Inc. | Method of cleaning electron source and electron beam writing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55130052A (en) | 1980-10-08 |
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