JPS5988701A - 光ファイバの被覆方法 - Google Patents
光ファイバの被覆方法Info
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- JPS5988701A JPS5988701A JP57197761A JP19776182A JPS5988701A JP S5988701 A JPS5988701 A JP S5988701A JP 57197761 A JP57197761 A JP 57197761A JP 19776182 A JP19776182 A JP 19776182A JP S5988701 A JPS5988701 A JP S5988701A
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- G02B6/4488—Protective covering using metallic tubes
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- Optics & Photonics (AREA)
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は耐久性が高く、伝送損失の少ない光ファイバ
およびその製造方法に関するものである。
およびその製造方法に関するものである。
一般に、ガラス製のコアとクラッドからなる光フアイバ
素線は、その材質強度が比較的低いため長期間荷重を受
けた状態にあると、当然のこと寿から切断する確率が高
くなる。また、この光フアイバ素線のままであると、水
分の浸蝕を受けたり、し、上記有機高分子材料は耐熱性
、長期耐久性に劣っている。そのため、従来、高温下な
どの悪環境条件下でも充分使用することができる信頼性
の高い光ファイバを得るためには、金属によりコーティ
ングして光フアイバ素線を密封（ハーメチックシール）
するのがよいとされている。しかし、金属被覆はその表
面において極部電池を形成して腐食しやすい。そこで腐
食に耐えられるように、金属のコーティング層を厚くす
ると、光ファイ／ｓ（’の伝送損失が増大してしまう。
素線は、その材質強度が比較的低いため長期間荷重を受
けた状態にあると、当然のこと寿から切断する確率が高
くなる。また、この光フアイバ素線のままであると、水
分の浸蝕を受けたり、し、上記有機高分子材料は耐熱性
、長期耐久性に劣っている。そのため、従来、高温下な
どの悪環境条件下でも充分使用することができる信頼性
の高い光ファイバを得るためには、金属によりコーティ
ングして光フアイバ素線を密封（ハーメチックシール）
するのがよいとされている。しかし、金属被覆はその表
面において極部電池を形成して腐食しやすい。そこで腐
食に耐えられるように、金属のコーティング層を厚くす
ると、光ファイ／ｓ（’の伝送損失が増大してしまう。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
は耐久性が高く、伝送損失の少ない金属コート光ファイ
バおよびその製造方法を提供することにあシ、光フアイ
バ素線上に金属により第１のコーティング層を形成し、
この第１のコーティング層上にガラス状の第２のコーテ
ィング層を形成することによって、シール性の高い金属
コーティング層を腐食作用から保護し、この金属コーテ
ィング層の厚みが薄くても支障の々いようにしたもので
ある。
は耐久性が高く、伝送損失の少ない金属コート光ファイ
バおよびその製造方法を提供することにあシ、光フアイ
バ素線上に金属により第１のコーティング層を形成し、
この第１のコーティング層上にガラス状の第２のコーテ
ィング層を形成することによって、シール性の高い金属
コーティング層を腐食作用から保護し、この金属コーテ
ィング層の厚みが薄くても支障の々いようにしたもので
ある。
以下、この発明の詳細な説明する。この発明を構成する
金属による第１のコーティング層は、前記のように厚く
形成すると、光ファイバに大きな伝送損失を生じてしま
うので、薄く形成する。その厚みは通常１０μｍ以下で
ある。この第１のコーティング層の形成方法としては、
ディップ法あるいはＣＶＤ法が考えられるが、周知のよ
うに、ディップ法は厚くコーティングするのに向いてお
シ、ＣＶＤ法は薄くコーティングするのに向いているの
で、この発明ではＣＶＤ法により第１のコーティング層
を形成する。
金属による第１のコーティング層は、前記のように厚く
形成すると、光ファイバに大きな伝送損失を生じてしま
うので、薄く形成する。その厚みは通常１０μｍ以下で
ある。この第１のコーティング層の形成方法としては、
ディップ法あるいはＣＶＤ法が考えられるが、周知のよ
うに、ディップ法は厚くコーティングするのに向いてお
シ、ＣＶＤ法は薄くコーティングするのに向いているの
で、この発明ではＣＶＤ法により第１のコーティング層
を形成する。
この第１のコーティング層の上に、この第１のコーティ
ング層を構成する金属を腐食作用から保護する目的で形
成するガラス状の第２のコーティング層は、ガラスまた
はガラス状金属酸化物によシ構成する。これらガラスま
だはガラス状金属酸化物は、金属アルコレートまたは／
および金属酸エステルを加水分解して得るものである。
ング層を構成する金属を腐食作用から保護する目的で形
成するガラス状の第２のコーティング層は、ガラスまた
はガラス状金属酸化物によシ構成する。これらガラスま
だはガラス状金属酸化物は、金属アルコレートまたは／
および金属酸エステルを加水分解して得るものである。
さらに詳しくは、金属アルコレートまたは／および金属
酸エステルを加水分解してコロイド状とし、これを上記
第１のコーティング層上に塗布し、つづいてこの塗布層
を加熱することによって脱水、焼結して、ガラス層また
はガラス状の金属酸化物層を得るものである。
酸エステルを加水分解してコロイド状とし、これを上記
第１のコーティング層上に塗布し、つづいてこの塗布層
を加熱することによって脱水、焼結して、ガラス層また
はガラス状の金属酸化物層を得るものである。
上記金属アルコレートとじては、例えばＳ ］（ＯＣＨ
３） ４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ａｔ（ＯＣ４Ｈ，）
３、Ｔｌ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓ ｒ Ｔ Ｉ （ｏ
Ｃ３Ｈｙ ） ２ （ＯＣｓ Ｈ１１）４、Ｍｇ〔Ａｔ
（ＯＣ２Ｈ５）４〕２々どが利用でき、金属酸エステル
としては、例えばＴｉＣｌ２（ＯＣ２Ｈ５）２などが利
用できる。これらの化合物は溶媒（Ｈ２Ｏ）に溶解する
ため、コロイド状にすることができ、このコロイドは適
当な粘度を持つことができるので、第１のコーティング
層上に容易に塗布することができる。
３） ４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ａｔ（ＯＣ４Ｈ，）
３、Ｔｌ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓ ｒ Ｔ Ｉ （ｏ
Ｃ３Ｈｙ ） ２ （ＯＣｓ Ｈ１１）４、Ｍｇ〔Ａｔ
（ＯＣ２Ｈ５）４〕２々どが利用でき、金属酸エステル
としては、例えばＴｉＣｌ２（ＯＣ２Ｈ５）２などが利
用できる。これらの化合物は溶媒（Ｈ２Ｏ）に溶解する
ため、コロイド状にすることができ、このコロイドは適
当な粘度を持つことができるので、第１のコーティング
層上に容易に塗布することができる。
上記コロイドは塗布後しばらくすると、ケ゛ル化し、脱
水するとガラス質の膜とがるので、コーティングにまこ
とに適しているものである。これを反応式で示すと、下
式（Ａ） 、 （Ｂ）のようになる。
水するとガラス質の膜とがるので、コーティングにまこ
とに適しているものである。これを反応式で示すと、下
式（Ａ） 、 （Ｂ）のようになる。
２Ｍ（ＯＲ）ｘ ＋ ｘ Ｈ２０
→Ｍ２ ｏＸ＋ ２ ｘ ＲＯＨ・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・（４）２ＭＣ４ｘ（ＯＲ）ｙ＋（Ｘ
十ｙ）Ｈ２０→Ｍ２０（Ｘ＋３ｙ）＋２ｘＨＣ１＋２ｙ
ＲＯＨ・・・・・・・・・・・・・（Ｂ）上記のように
して得られた塗布膜を加熱すれば、脱水、焼結して下記
のようなガラスまたはガラス状酸化物が得られる。すな
わち、５ｉ０２、ＡＬ２０３、ＴｉＯ５ｒＴｉ０３など
であシ、その膜厚は０．５μ以上１ （５） 付着させることが可能である。
・・・・・・・・・（４）２ＭＣ４ｘ（ＯＲ）ｙ＋（Ｘ
十ｙ）Ｈ２０→Ｍ２０（Ｘ＋３ｙ）＋２ｘＨＣ１＋２ｙ
ＲＯＨ・・・・・・・・・・・・・（Ｂ）上記のように
して得られた塗布膜を加熱すれば、脱水、焼結して下記
のようなガラスまたはガラス状酸化物が得られる。すな
わち、５ｉ０２、ＡＬ２０３、ＴｉＯ５ｒＴｉ０３など
であシ、その膜厚は０．５μ以上１ （５） 付着させることが可能である。
以上の製造工程を第１図に示す製造装置を参照しつつま
とめてみると、下記のようになる。まず、コアとクラッ
ドを有する大径の光ファイ／ぐ素線母材１をヒータ２に
よシ加熱しつつ細線に引き延して光フアイバ素線３を形
成する。この光フアイバ素線３をＣＶＤ装置４内に導き
、とのＣＶＤ装置４によって光フアイバ素線３上に金属
をコーティングする（第１のコーティング層形成）。ひ
きつづいて、金属アルコレートまだは／および金属酸エ
ステルを加水分解して得たコロイド５を塗布用アプリケ
ータ６によυ上記第１のコーティング層上に塗布する。
とめてみると、下記のようになる。まず、コアとクラッ
ドを有する大径の光ファイ／ぐ素線母材１をヒータ２に
よシ加熱しつつ細線に引き延して光フアイバ素線３を形
成する。この光フアイバ素線３をＣＶＤ装置４内に導き
、とのＣＶＤ装置４によって光フアイバ素線３上に金属
をコーティングする（第１のコーティング層形成）。ひ
きつづいて、金属アルコレートまだは／および金属酸エ
ステルを加水分解して得たコロイド５を塗布用アプリケ
ータ６によυ上記第１のコーティング層上に塗布する。
次にこの塗膜を焼付炉７によシ脱水。
焼結して、ガラス状の第２のコーティング層を形成する
。このようにして、第１および第２のコーティング層を
形成した金属コート光ファイバ８は引取機９を介して巻
取デビン１０に巻き取る。なお、上記焼付炉７は第２の
コーティング層の脱水。
。このようにして、第１および第２のコーティング層を
形成した金属コート光ファイバ８は引取機９を介して巻
取デビン１０に巻き取る。なお、上記焼付炉７は第２の
コーティング層の脱水。
焼結を完全に行なうことができるように２段以上の温度
分布を有するように形成されたものの方が（６） 好ましい。また、上記コロイド５は、第２図に示すよう
に、攪拌機１］を有する加熱槽］２中に、例えばＭ（Ｏ
Ｒ）ｘ、 Ｈ２０、ＨＡｃを混合して用意する。
分布を有するように形成されたものの方が（６） 好ましい。また、上記コロイド５は、第２図に示すよう
に、攪拌機１］を有する加熱槽］２中に、例えばＭ（Ｏ
Ｒ）ｘ、 Ｈ２０、ＨＡｃを混合して用意する。
反応後はゾル状の溶液５となる。
以上説明したように、この発明は光フアイバ素線上に金
属により第１のコーティング層を形成し、この第１のコ
ーティング層上にガラス状の第２のコーティング層を形
成することによって、シール性の高い金属コーティング
層を腐食作用から保護し、この金属コーティング層の厚
みが薄くても支障のないものなので、耐久性が高く、伝
送損失の少ない金属コート光ファイバを得ることができ
る。
属により第１のコーティング層を形成し、この第１のコ
ーティング層上にガラス状の第２のコーティング層を形
成することによって、シール性の高い金属コーティング
層を腐食作用から保護し、この金属コーティング層の厚
みが薄くても支障のないものなので、耐久性が高く、伝
送損失の少ない金属コート光ファイバを得ることができ
る。
次に実施例によυこの発明をさらに詳細に説明する。
〔実施例１〕
第１図に示す装置によシ直径１２５μｍの光フアイバ素
線３を速度２０〜’ｍ ｉｎで紡糸し、その紡糸直後他
の固形物にふれる前にＣＶＤ装置４に上ｐＴ＋金属を上
記光フアイバ素線３」二に形成した。その被覆厚は０．
２μｍであった（第１のコーティング層形成）。次に第
２図に示す装置にょシ、アルミニウムイソプロポキシド
Ａｔ（ＱＣ３Ｈ７）３１６０ ’ｇと、水Ｈ２Ｏ１８０
，９と、ＩＮ塩酸ＨＣｔ２０ 、！９とを混合し、１０
０℃で攪拌しながら３０分はど加熱してアルミニウム水
酸化物ゾル（コロイド５）を得た。このコロイド５を、
上記第１のコーティング層上に塗布用アプリケータ６に
よシ塗布し、５ｏｏ℃、後に１０００℃に昇温した焼付
炉７内を通過させ、上記塗膜を脱水、焼結させた。この
ようにして第１のコーティング層上に焼付けられたアル
ミナ（第２のコーティング層）は、その焼成が不足であ
ったため、第１図に示すように金属コート光ファイバ８
を巻取ボビンに巻き取った後、さらに２時間、１０００
℃で焼成し、透明アルミナとした。その結果、約０．５
μｍの第２のコーティング層が形成された。
線３を速度２０〜’ｍ ｉｎで紡糸し、その紡糸直後他
の固形物にふれる前にＣＶＤ装置４に上ｐＴ＋金属を上
記光フアイバ素線３」二に形成した。その被覆厚は０．
２μｍであった（第１のコーティング層形成）。次に第
２図に示す装置にょシ、アルミニウムイソプロポキシド
Ａｔ（ＱＣ３Ｈ７）３１６０ ’ｇと、水Ｈ２Ｏ１８０
，９と、ＩＮ塩酸ＨＣｔ２０ 、！９とを混合し、１０
０℃で攪拌しながら３０分はど加熱してアルミニウム水
酸化物ゾル（コロイド５）を得た。このコロイド５を、
上記第１のコーティング層上に塗布用アプリケータ６に
よシ塗布し、５ｏｏ℃、後に１０００℃に昇温した焼付
炉７内を通過させ、上記塗膜を脱水、焼結させた。この
ようにして第１のコーティング層上に焼付けられたアル
ミナ（第２のコーティング層）は、その焼成が不足であ
ったため、第１図に示すように金属コート光ファイバ８
を巻取ボビンに巻き取った後、さらに２時間、１０００
℃で焼成し、透明アルミナとした。その結果、約０．５
μｍの第２のコーティング層が形成された。
〔実施例２〕
第１図に示す装置にょシ１２５μｍの光フアイバ素線上
３にモノシランＳ ＋ Ｈ４を加熱分解してシリコンの
被膜（第１のコーティング層）を形成した。
３にモノシランＳ ＋ Ｈ４を加熱分解してシリコンの
被膜（第１のコーティング層）を形成した。
この第１のコーティング層の膜厚は０．２５μｍであっ
た。次に第２図の装置によって１００ｇのテトラメトキ
シシランｓ ｒ （ＯＣＲ−、） ４と５０．９のエタ
ノールＣ２Ｈ５０Ｈとの混合液と、１ｏｏｃＣのエタノ
ールＣ２Ｈ５０Ｈに１２．９のホウ酸Ｈ３Ｂｏ３を溶解
したものとを混合加熱し、これに水Ｈ２ｏを加えて加水
分解しケ８ル状固体（コロイド５）を得た。このコロイ
ド５を上記第１のコーティング層上に塗布アプリケータ
６によシ塗布し、焼付炉７で乾燥した。この時の温度は
２００℃と５ｏｏ℃であった。このようにして形成した
金属コート光ファイバ８を巻取ボビン１０に巻取シ、こ
れをさらに５００℃１時間焼成し５１０２−Ｂ２０３ガ
ラス膜（第２のコーティング層）を形成した。この第２
のコーティング層の組成はＳｉ０ ８５％、８２０３１
５％であシ、その膜厚は０５μｍであった。
た。次に第２図の装置によって１００ｇのテトラメトキ
シシランｓ ｒ （ＯＣＲ−、） ４と５０．９のエタ
ノールＣ２Ｈ５０Ｈとの混合液と、１ｏｏｃＣのエタノ
ールＣ２Ｈ５０Ｈに１２．９のホウ酸Ｈ３Ｂｏ３を溶解
したものとを混合加熱し、これに水Ｈ２ｏを加えて加水
分解しケ８ル状固体（コロイド５）を得た。このコロイ
ド５を上記第１のコーティング層上に塗布アプリケータ
６によシ塗布し、焼付炉７で乾燥した。この時の温度は
２００℃と５ｏｏ℃であった。このようにして形成した
金属コート光ファイバ８を巻取ボビン１０に巻取シ、こ
れをさらに５００℃１時間焼成し５１０２−Ｂ２０３ガ
ラス膜（第２のコーティング層）を形成した。この第２
のコーティング層の組成はＳｉ０ ８５％、８２０３１
５％であシ、その膜厚は０５μｍであった。
第１図はこの発明を実施するに好適な金属コート光フア
イバ製造装置の構成図、第２図はこの発明に使われる塗
布用のコロイドを調製するに好適（９） な加熱槽の構成図である。 ３・・・光フアイバ素線。
イバ製造装置の構成図、第２図はこの発明に使われる塗
布用のコロイドを調製するに好適（９） な加熱槽の構成図である。 ３・・・光フアイバ素線。
Claims (4)
- （１） 光フアイバ素線と、この光フアイバ素線上に
金属によシ形成されている第１のコーティング層と、こ
の第１のコーティング層上に形成されているガラス状の
第２のコーティング層とを具備してなる金属コート光フ
ァイバ。 - （２） 第２のコーティング層がガラスまたはガラス
状金属酸化物によシ構成されている特許請求の範囲第１
項記載の金属コート光ファイバ。 - （３） 光フアイバ素線上に金属によシ第１のコーテ
ィング層を形成し、その上にガラス状の第２のコーティ
ング層を形成することを特徴とする金属コート光ファイ
バの製造方法。 - （４） 金属アルコレートまたは／および金属酸エス
テルを加水分解してコロイド状化合物とし、これを第１
のコーティング層上に塗布し、これを脱水、焼結してガ
ラスまたはガラス状金属酸化物と（１） することによって第２のコーティング層を形成する特許
請求の範囲第３項記載の金属コート光ファイバの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197761A JPS5988701A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 光ファイバの被覆方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197761A JPS5988701A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 光ファイバの被覆方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5988701A true JPS5988701A (ja) | 1984-05-22 |
| JPH039057B2 JPH039057B2 (ja) | 1991-02-07 |
Family
ID=16379905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57197761A Granted JPS5988701A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 光ファイバの被覆方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5988701A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0166649A2 (en) * | 1984-06-26 | 1986-01-02 | Alcatel N.V. | Hermetic coating for an optical fiber and method of forming the same |
| EP0214331A1 (en) * | 1985-09-10 | 1987-03-18 | Aetna Telecommunications Laboratories | Aluminum oxide optical fiber coating |
| JPH05192821A (ja) * | 1991-08-02 | 1993-08-03 | Trefimetaux | 放電加工用電極及びその製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4924442A (ja) * | 1972-06-28 | 1974-03-04 | ||
| JPS5098849A (ja) * | 1973-12-27 | 1975-08-06 | ||
| JPS5168842A (ja) * | 1974-12-12 | 1976-06-14 | Sumitomo Electric Industries | |
| JPS5599506U (ja) * | 1979-01-05 | 1980-07-10 |
-
1982
- 1982-11-12 JP JP57197761A patent/JPS5988701A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4924442A (ja) * | 1972-06-28 | 1974-03-04 | ||
| JPS5098849A (ja) * | 1973-12-27 | 1975-08-06 | ||
| JPS5168842A (ja) * | 1974-12-12 | 1976-06-14 | Sumitomo Electric Industries | |
| JPS5599506U (ja) * | 1979-01-05 | 1980-07-10 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0166649A2 (en) * | 1984-06-26 | 1986-01-02 | Alcatel N.V. | Hermetic coating for an optical fiber and method of forming the same |
| JPS6120915A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-29 | アルカテル・エヌ・ブイ | 光フアイバーのハーメチツクコーテングとその形成方法 |
| EP0214331A1 (en) * | 1985-09-10 | 1987-03-18 | Aetna Telecommunications Laboratories | Aluminum oxide optical fiber coating |
| JPH05192821A (ja) * | 1991-08-02 | 1993-08-03 | Trefimetaux | 放電加工用電極及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH039057B2 (ja) | 1991-02-07 |
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