JPH039057B2 - - Google Patents
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- JPH039057B2 JPH039057B2 JP57197761A JP19776182A JPH039057B2 JP H039057 B2 JPH039057 B2 JP H039057B2 JP 57197761 A JP57197761 A JP 57197761A JP 19776182 A JP19776182 A JP 19776182A JP H039057 B2 JPH039057 B2 JP H039057B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/44—Mechanical structures for providing tensile strength and external protection for fibres, e.g. optical transmission cables
- G02B6/4479—Manufacturing methods of optical cables
- G02B6/4486—Protective covering
- G02B6/4488—Protective covering using metallic tubes
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は耐久性が高く、伝送損失の少ない光
フアイバの被覆方法に関するものである。
フアイバの被覆方法に関するものである。
一般に、ガラス製のコアとクラツドからなる光
フアイバ素線は、その材質強度が比較的低いため
長期間荷重を受けた状態にあると、当然のことな
がら切断する確率が高くなる。また、この光フア
イバ素線のままであると、水分の浸蝕を受けた
り、表面が傷がついてしまう。そこで、従来のほ
とんどの光フアイバは、その素線上に有機高分子
材料を被覆して表面を保護するようにしている。
しかし、上記有機高分子材料は耐熱性、長期耐久
性に劣つている。そのため、従来、高温下などの
悪環境条件下でも充分使用することができる信頼
性の高い光フアイバを得るためには、金属により
コーテイングして光フアイバ素線を密封（ハーメ
チツクシール）するのがよいとされている。しか
し、金属被覆はその表面において極部電池を形成
して腐食しやすい。そこで腐食に耐えられるよう
に、金属のコーテイング層を厚くすると、光フア
イバの伝送損失が増大してしまう。
フアイバ素線は、その材質強度が比較的低いため
長期間荷重を受けた状態にあると、当然のことな
がら切断する確率が高くなる。また、この光フア
イバ素線のままであると、水分の浸蝕を受けた
り、表面が傷がついてしまう。そこで、従来のほ
とんどの光フアイバは、その素線上に有機高分子
材料を被覆して表面を保護するようにしている。
しかし、上記有機高分子材料は耐熱性、長期耐久
性に劣つている。そのため、従来、高温下などの
悪環境条件下でも充分使用することができる信頼
性の高い光フアイバを得るためには、金属により
コーテイングして光フアイバ素線を密封（ハーメ
チツクシール）するのがよいとされている。しか
し、金属被覆はその表面において極部電池を形成
して腐食しやすい。そこで腐食に耐えられるよう
に、金属のコーテイング層を厚くすると、光フア
イバの伝送損失が増大してしまう。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、
その目的は耐久性が高く、光フアイバの被覆方法
を提供することにあり、光フアイバ素線上に、そ
の紡糸直後に金属により第１のコーテイング層を
形成し、ひきつづいてこの金属コートフアイバ上
に、金属アルコレートまたは／および金属酸エス
テル加水分解して得られるコロイド状化合物を塗
布し、ついでこれを加熱することにより脱水、燒
結してガラスまたはガラス状金属酸化物からなる
第２のコーテイング層を形成することにある。こ
のようにすることによつて、シール性の高い金属
コーテイング層を腐食作用から保護し、この金属
コーテイング層の厚みが薄くても支障のないよう
にしたものである。
その目的は耐久性が高く、光フアイバの被覆方法
を提供することにあり、光フアイバ素線上に、そ
の紡糸直後に金属により第１のコーテイング層を
形成し、ひきつづいてこの金属コートフアイバ上
に、金属アルコレートまたは／および金属酸エス
テル加水分解して得られるコロイド状化合物を塗
布し、ついでこれを加熱することにより脱水、燒
結してガラスまたはガラス状金属酸化物からなる
第２のコーテイング層を形成することにある。こ
のようにすることによつて、シール性の高い金属
コーテイング層を腐食作用から保護し、この金属
コーテイング層の厚みが薄くても支障のないよう
にしたものである。
以下、この発明を詳しく説明する。この発明を
構成する金属による第１のコーテイング層は、前
記のように厚く形成すると、光フアイバに大きな
伝送損失を生じてしまうので、薄く形成する。そ
の厚みは通常10μｍ以下である。この第１のコー
テイング層の形成方法としては、デイツプ法ある
いはCVD法が考えられるが、周知のように、デ
イツプ法は厚くコーテイングするのに向いてお
り、CVD法は薄くコーテイングするのに向いて
いるので、この発明ではCVD法により第１のコ
ーテイング層を形成する。
構成する金属による第１のコーテイング層は、前
記のように厚く形成すると、光フアイバに大きな
伝送損失を生じてしまうので、薄く形成する。そ
の厚みは通常10μｍ以下である。この第１のコー
テイング層の形成方法としては、デイツプ法ある
いはCVD法が考えられるが、周知のように、デ
イツプ法は厚くコーテイングするのに向いてお
り、CVD法は薄くコーテイングするのに向いて
いるので、この発明ではCVD法により第１のコ
ーテイング層を形成する。
この第１のコーテイング層の上に、この第１の
コーテイング層を構成する金属を腐食作用から保
護する目的で形成するガラス状の第２のコーテイ
ング層は、ガラスまたはガラス状金属酸化物によ
り構成する。これらガラスまたはガラス状金属酸
化物は、金属アルコレートまたは／および金属酸
エステルを加水分解して得るものである。さらに
詳しくは、金属アルコレートまたは／および金属
酸エステルを加水分解してコロイド状とし、これ
を上記第１のコーテイング層上に塗布し、つづい
ての塗布層を加熱することによつて脱水、焼結し
て、ガラス層またはガラス状の金属酸化物層を得
るものである。
コーテイング層を構成する金属を腐食作用から保
護する目的で形成するガラス状の第２のコーテイ
ング層は、ガラスまたはガラス状金属酸化物によ
り構成する。これらガラスまたはガラス状金属酸
化物は、金属アルコレートまたは／および金属酸
エステルを加水分解して得るものである。さらに
詳しくは、金属アルコレートまたは／および金属
酸エステルを加水分解してコロイド状とし、これ
を上記第１のコーテイング層上に塗布し、つづい
ての塗布層を加熱することによつて脱水、焼結し
て、ガラス層またはガラス状の金属酸化物層を得
るものである。
上記金属アルコレートとしては、例えばSi
（OCH3）4、Si（OC2H5）4、Al（OC4H9）3、Ti
（OC3H7）4、SrTi（OC3H7）2（OC5H11）4、Mg〔Al
（OC2H5）4〕2などが利用でき、金属酸エステルと
しては、例えばTiCl2（OC2H5）2などが利用でき
る。これらの化合物は溶媒（H2O）に溶解する
ため、コロイド状にすることができ、このコロイ
ドは適当な粘度を持つことができるので、第１の
コーテイング層上に容易に塗布することができ
る。上記コロイドは塗布後しばらくすると、ゲル
化し、脱水するとガラス質の膜となるので、コー
テイングにまことに適しているものである。これ
を反応式で示すと、下式(A)、(B)のようになる。
（OCH3）4、Si（OC2H5）4、Al（OC4H9）3、Ti
（OC3H7）4、SrTi（OC3H7）2（OC5H11）4、Mg〔Al
（OC2H5）4〕2などが利用でき、金属酸エステルと
しては、例えばTiCl2（OC2H5）2などが利用でき
る。これらの化合物は溶媒（H2O）に溶解する
ため、コロイド状にすることができ、このコロイ
ドは適当な粘度を持つことができるので、第１の
コーテイング層上に容易に塗布することができ
る。上記コロイドは塗布後しばらくすると、ゲル
化し、脱水するとガラス質の膜となるので、コー
テイングにまことに適しているものである。これ
を反応式で示すと、下式(A)、(B)のようになる。
2M（OR）x＋xH2O→M2Ox＋2xROH ……(A)
2MClx（OR）y＋（ｘ＋ｙ）H2O
→M2O(x+3y)＋2xHCl＋2yROH ……(B)
上記のようにして得られた塗布膜を加熱すれ
ば、脱水、焼結して下記のようなガラスまたはガ
ラス状酸化物が得られる。すなわち、SiO2、
Al2O3、TiO2、SrTiO3などであり、その膜厚は
0.5μ以上付着させることが可能である。
ば、脱水、焼結して下記のようなガラスまたはガ
ラス状酸化物が得られる。すなわち、SiO2、
Al2O3、TiO2、SrTiO3などであり、その膜厚は
0.5μ以上付着させることが可能である。
以上の製造工程を第１図に示す製造装置を参照
しつつまとめてみると、下記のようになる。ま
ず、コアとクラツドを有する大径の光フアイバ素
線母材１とヒータ２により加熱しつつ細線に引き
延して光フアイバ素線３を形成する。この光フア
イバ素線３をCVD装置４内に導き、このCVD装
置４によつて光フアイバ素線３上に金属をコーテ
イングする（第１のコーテイング層形成）。ひき
つづいて、金属アルコレートまたは／および金属
酸エステルを加水分解して得たコロイド５を塗布
用アプリケータ６により上記第１のコーテイング
層上に塗布する。次にこの塗膜を焼付炉７により
脱水、焼結して、ガラス状の第２のコーテイング
層を形成する。このようにして、第１および第２
のコーテイング層を形成した金属コート光フアイ
バ８は引取機９を介して巻取ボビン１０に巻き取
る。なお、上記焼付炉７は第２のコーテイング層
の脱水、焼結を完全に行なうことができるように
２段以上の温度分布を有するように形成されたも
のの方が好ましい。また、上記コロイド５は、第
２図に示すように、撹拌機１１を有する加熱槽１
２中に、例えばＭ（OR）x、H2O、HAcを混合し
て用意する。反応後はゾル状の溶液５となる。
しつつまとめてみると、下記のようになる。ま
ず、コアとクラツドを有する大径の光フアイバ素
線母材１とヒータ２により加熱しつつ細線に引き
延して光フアイバ素線３を形成する。この光フア
イバ素線３をCVD装置４内に導き、このCVD装
置４によつて光フアイバ素線３上に金属をコーテ
イングする（第１のコーテイング層形成）。ひき
つづいて、金属アルコレートまたは／および金属
酸エステルを加水分解して得たコロイド５を塗布
用アプリケータ６により上記第１のコーテイング
層上に塗布する。次にこの塗膜を焼付炉７により
脱水、焼結して、ガラス状の第２のコーテイング
層を形成する。このようにして、第１および第２
のコーテイング層を形成した金属コート光フアイ
バ８は引取機９を介して巻取ボビン１０に巻き取
る。なお、上記焼付炉７は第２のコーテイング層
の脱水、焼結を完全に行なうことができるように
２段以上の温度分布を有するように形成されたも
のの方が好ましい。また、上記コロイド５は、第
２図に示すように、撹拌機１１を有する加熱槽１
２中に、例えばＭ（OR）x、H2O、HAcを混合し
て用意する。反応後はゾル状の溶液５となる。
以上説明したように、この発明は光フアイバ素
線上に金属により、第１のコーテイング層を形成
し、その上に金属アルコレートまたは／および金
属酸エステル加水分解して得られるコロイド状化
合物を塗布し、ついでこれを加熱することにより
脱水、燒結してガラスまたはガラス状金属酸化物
からなる第２のコーテイング層を形成することに
よつて、シール性の高い金属コーテイング層を腐
食作用から保護し、この金属コーテイング層の厚
みが薄くても支障のないものなので、耐久性が高
く、伝送損失の少ない金属コート光フアイバを得
ることができる。
線上に金属により、第１のコーテイング層を形成
し、その上に金属アルコレートまたは／および金
属酸エステル加水分解して得られるコロイド状化
合物を塗布し、ついでこれを加熱することにより
脱水、燒結してガラスまたはガラス状金属酸化物
からなる第２のコーテイング層を形成することに
よつて、シール性の高い金属コーテイング層を腐
食作用から保護し、この金属コーテイング層の厚
みが薄くても支障のないものなので、耐久性が高
く、伝送損失の少ない金属コート光フアイバを得
ることができる。
次に実施例によりこの発明をさらに詳細に説明
する。
する。
実施例 １
第１図に示す装置により直径125μｍの光フア
イバ素線３を速度20ｍ／minで紡糸し、その紡糸
直後他の固形物にふれる前にCVD装置４に上り
Ti金属を上記光フアイバ素線３上に形成した。
その被覆厚は0.2μｍであつた（第１のコーテイン
グ層形成）。次に第２図に示す装置により、アル
ミニウムイソプロポキシドAl（OC3H7）3160ｇと、
水H2O180ｇと、1N塩酸HCl20ｇとを混合し、
100℃で撹拌しながら30分ほど加熱してアルミニ
ウム水酸化物ゾル（コロイド５）を得た。このコ
ロイド５を、上記第１のコーテイング層上に塗布
用アプリケータ６により塗布し、500℃、後に
1000℃に昇温した焼付炉７内を通過させ、上記塗
膜を脱水、焼結させた。このようにして第１のコ
ーテイング層上に焼付けられたアルミナ（第２の
コーテイング層）は、その焼成が不足であつたた
め、第１図に示すように金属コート光フアイバ８
を巻取ボビンに巻き取つた後、さらに２時間、
1000℃で焼成し、透明アルミナとした。その結
果、0.5μｍの第２のコーテイング層が形成され
た。
イバ素線３を速度20ｍ／minで紡糸し、その紡糸
直後他の固形物にふれる前にCVD装置４に上り
Ti金属を上記光フアイバ素線３上に形成した。
その被覆厚は0.2μｍであつた（第１のコーテイン
グ層形成）。次に第２図に示す装置により、アル
ミニウムイソプロポキシドAl（OC3H7）3160ｇと、
水H2O180ｇと、1N塩酸HCl20ｇとを混合し、
100℃で撹拌しながら30分ほど加熱してアルミニ
ウム水酸化物ゾル（コロイド５）を得た。このコ
ロイド５を、上記第１のコーテイング層上に塗布
用アプリケータ６により塗布し、500℃、後に
1000℃に昇温した焼付炉７内を通過させ、上記塗
膜を脱水、焼結させた。このようにして第１のコ
ーテイング層上に焼付けられたアルミナ（第２の
コーテイング層）は、その焼成が不足であつたた
め、第１図に示すように金属コート光フアイバ８
を巻取ボビンに巻き取つた後、さらに２時間、
1000℃で焼成し、透明アルミナとした。その結
果、0.5μｍの第２のコーテイング層が形成され
た。
実施例 ２
第１図に示す装置により125μｍの光フアイバ
素線上３にモノシランSiH4を加熱分解してシリ
コンの被膜（第１のコーテイング層）を形成し
た。この第１のコーテイング層の膜厚は0.25μｍ
であつた。次に第２図の装置によつて100ｇのテ
トラメトキシシランSi（OCH3）4と50ｇのエタノ
ールC2H5OHとの混合液と、100c.c.のエタノール
C2H5OHに12ｇのホウ酸H3BO3を溶解したもの
とを混合加熱し、これに水H2Oを加えて加水分
解しゲル状固体（コロイド５）を得た。このコロ
イド５を上記第１のコーテイング層上に塗布アプ
リケータ６により塗布し、焼付炉７で乾燥した。
この時の温度は200℃と500℃であつた。このよう
にして形成した金属コート光フアイバ８を巻取ボ
ビン１０に巻取り、これをさらに500℃１時間焼
成しSiO2−B2O3ガラス膜（第２のコーテイング
層）を形成した。この第２のコーテイング層の組
成はSiO285％、B2O315％であり、その膜厚は
0.5μｍであつた。
素線上３にモノシランSiH4を加熱分解してシリ
コンの被膜（第１のコーテイング層）を形成し
た。この第１のコーテイング層の膜厚は0.25μｍ
であつた。次に第２図の装置によつて100ｇのテ
トラメトキシシランSi（OCH3）4と50ｇのエタノ
ールC2H5OHとの混合液と、100c.c.のエタノール
C2H5OHに12ｇのホウ酸H3BO3を溶解したもの
とを混合加熱し、これに水H2Oを加えて加水分
解しゲル状固体（コロイド５）を得た。このコロ
イド５を上記第１のコーテイング層上に塗布アプ
リケータ６により塗布し、焼付炉７で乾燥した。
この時の温度は200℃と500℃であつた。このよう
にして形成した金属コート光フアイバ８を巻取ボ
ビン１０に巻取り、これをさらに500℃１時間焼
成しSiO2−B2O3ガラス膜（第２のコーテイング
層）を形成した。この第２のコーテイング層の組
成はSiO285％、B2O315％であり、その膜厚は
0.5μｍであつた。
第１図はこの発明を実施するに好適な金属コー
ト光フアイバ製造装置の構成図、第２図はこの発
明に使われる塗布用のコロイドを調製するに好適
な加熱槽の構成図である。 ３……光フアイバ素線。
ト光フアイバ製造装置の構成図、第２図はこの発
明に使われる塗布用のコロイドを調製するに好適
な加熱槽の構成図である。 ３……光フアイバ素線。
Claims (1)
- １ 光フアイバ素線上に、その紡糸直後に金属に
より第１のコーテイング層を形成し、ひきつづい
てこの金属コートフアイバ上に、金属アルコレー
トまたは／および金属酸エステルを加水分解して
得られるコロイド状化合物を塗布し、ついでこれ
を加熱することにより脱水、燒結してガラスまた
はガラス状金属酸化物からなる第２のコーテイン
グ層を形成することを特徴とする光フアイバの被
覆方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197761A JPS5988701A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 光ファイバの被覆方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197761A JPS5988701A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 光ファイバの被覆方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5988701A JPS5988701A (ja) | 1984-05-22 |
| JPH039057B2 true JPH039057B2 (ja) | 1991-02-07 |
Family
ID=16379905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57197761A Granted JPS5988701A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 光ファイバの被覆方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5988701A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU579638B2 (en) * | 1984-06-26 | 1988-12-01 | Alcatel N.V. | Coating optical fibres |
| EP0214331A1 (en) * | 1985-09-10 | 1987-03-18 | Aetna Telecommunications Laboratories | Aluminum oxide optical fiber coating |
| FR2679806B1 (fr) * | 1991-08-02 | 1995-04-07 | Trefimetaux | Electrode en alliage de cuivre a hautes performances pour usinage par electroerosion et procede de fabrication. |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4924442A (ja) * | 1972-06-28 | 1974-03-04 | ||
| JPS5098849A (ja) * | 1973-12-27 | 1975-08-06 | ||
| JPS5168842A (ja) * | 1974-12-12 | 1976-06-14 | Sumitomo Electric Industries |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5599506U (ja) * | 1979-01-05 | 1980-07-10 |
-
1982
- 1982-11-12 JP JP57197761A patent/JPS5988701A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4924442A (ja) * | 1972-06-28 | 1974-03-04 | ||
| JPS5098849A (ja) * | 1973-12-27 | 1975-08-06 | ||
| JPS5168842A (ja) * | 1974-12-12 | 1976-06-14 | Sumitomo Electric Industries |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5988701A (ja) | 1984-05-22 |
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