JPS5987794A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPS5987794A
JPS5987794A JP19922282A JP19922282A JPS5987794A JP S5987794 A JPS5987794 A JP S5987794A JP 19922282 A JP19922282 A JP 19922282A JP 19922282 A JP19922282 A JP 19922282A JP S5987794 A JPS5987794 A JP S5987794A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roller
ring
heating chamber
motor
rotary plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP19922282A
Other languages
English (en)
Inventor
和美 平井
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子レンジなどの高周波加熱装置に関するも
のである。
従来の構成とその問題点 第1図は従来の構成の高周波加熱装置の構造を示す断面
図である。第1図において加熱♀1の前面にはドアー2
を開閉自在に設けている・加熱室1には導波管3を連動
しで設け、これにマグネトロン4を設けている。マグネ
トロン4から発振した電波は導波管3不−介して加熱室
1内に照射する。
被加熱物6は回転台6の」二に載置され、均一加熱を行
なうために加熱中はモータ7により回転させる11回転
皿6の周囲には加熱室底面に回転自在に支持したローラ
8を設け、回転皿6の荷重を支持している。9はローラ
8の回転軸である。
このような従来の構成によると、被加熱物6及び回転皿
6の荷重は、ローラ8に加わり回転軸9に加わる。この
ローラ8と回転軸9は荷重が加わ−た状態で回転するの
で摺動摩擦抵抗が大きくなり・モータ7は大きなトルク
が必要で大型となり高価となるばかりでなく、加熱室下
部に広いスペースが必要となり、装置全体が大きくなり
、使い勝手の面からも好−!ニジ<なかった3また一部
ではローラ8を用いないでモータ7の軸だけで回転皿6
を支持する構成もあったが、この場合はモータ7に全荷
重か加わジ、モータ7の強度が必要でこれも丑たモータ
7の大型化につながるだけでなく、被加熱物5を回転皿
6に偏心して置いた場合などは、回転が不安定となる、
第2図は従来の他の例を示す部分断面図である。
第2図においては、ローラ8′は加熱室底面に載置した
リング10に軸9′で取(=Jけて設け、移動 □自在
に設置したものである。このような促来例では回転皿6
′の荷重が軸9′に加わらないので回転はより軽くなる
が、リング1oは鈑金あるいは剛性を持たせた合成樹脂
で構成されている。このために、鈑金では十分な強度を
侍ら゛れず、変形しやすい魚加工工程が多くかかる点な
どの欠点があり、合成樹脂で構成した場合には耐熱温度
が低く加熱室1内が高温になった場合などは使用できな
くなるなど、いずれの場合も好寸しくなかった。
発明の目的 本発明は上記従来の欠点を解消す乃もので、モータの小
型化を図り、安価に構成し・消費電力を低減し、省エネ
ルギーとすると共に、回転皿の回転を安定させ、耐久性
の高い高周波加熱装置全実現することを目的とする。
発明の構成 上記目的を達成するため1本発明の高周波加熱装置は回
転皿と加熱室の底面との間に、角形断面の金属棒によっ
て構成しタリングを移動自在に設け、コ(71)リング
にピンによって回転自在に支持したl−1−ラを複数個
設け、とのローラによって回転皿を回転自在に支持する
構成であり、ローラ(・1回転皿の回転に従って自由に
位置を移動し、ころがりながら回転皿の荷重を受けるた
め、ローラの軸(では荷重が加わらず、大きな摩擦抵抗
が生じることはなく、回転トルクは極めて小さくてきる
という効果を有するものである。
実施例の説明 以下、本発明の一実施例につ′ハて図面に基づいて説明
する1、第3図は本発明による高周波加熱装置猷の回転
皿の部分を拡大した断面図である。
第3薗において、加熱室11の底部には被加熱物12を
回転載置するための回転皿13を設ける・回転皿13は
被加熱物12への電波の照射金良くするためにガラス°
、磁器など電波を透過しやすい利料である非金属で構成
する。回転皿13の中央部にはモータ14の軸15と嵌
合する嵌合部16を設け、1111115の回転トルク
を回転皿13に伝える。回転皿13のと加熱室底面17
との間には、金属相料で構成したリング18を設け・こ
のリング18には、プラスチック、磁器などの低誘電率
材料で構成したローラ19を複数個設け、金属材料によ
って構成したピン20によってリング18に対して回転
自在に支持する。
加熱室底面1γの外周部は、ローラ19が回転するとき
にガイドとなるように立上り部を設け、リング−i8を
加熱室底面17に載置したときに位置が決まるようにし
ている。
第4図は本発明における高周波加熱装置のリング及びロ
ーラ部分の詳細な構成を示す部分断面図である1、第4
図においてリング18は厚さa・幅すの角形断面形状を
した金属棒によって構成している。ローラ19は先端に
大径部21’((−持ったピン20によって回転自在K
l持され、ピン2oの細径部23はリング18に設けた
穴23に貫通挿入し1、先端をかしめることによ−・で
固定している・tコーラ19&;jピン20の太径部2
1が収まるように凹部24を設けている。リング18′
ff:構成する金属棒の断面i、i a < bの偏重
角形としており、穴23の加工、ピン20のかしめ等の
加工を容易にしでいる。
以下上記構成における作用について説明する。
被加熱物12及び回転皿13の荷重は、ローラ20に加
わり・このローラ2oによって加熱室底面17どの間で
直超荷重を受けるものである。リング18とピン20は
ローラ2oの円周上の位置全規制すると共6て、ローラ
20を回転支持体として一体に構成する役目をする。モ
ータ14の回転トルクは軸15を介して回転皿13の嵌
合部16に伝わり、回転皿1・3を回転させる。回転皿
13の回転によりローラ19は加熱室底面17上をころ
がシながら荷重を支持し、回転移動する。このローラ1
9の移動につれてリング18が回転移動するものである
。  ゛ このように本実施例によれば、被加熱物12および回転
皿13の荷重、は全てローラ19によって加熱室底面1
7との間で直接受けるので、ピン20部分の回転摩擦・
抵抗は極めて小さくなる。、いわゆるローラ19がころ
がシ軸受の作用をし、回転皿は極めて小さいトルクで回
転させることができるという効果を有する。
発明の効果 以上の。Lうに本発明によizば次の効!4!−’ff
i得ることができる6゜ (1)  ローラ19がころがυ軸受の作用ヲシ7、ピ
ン部分の回転摩擦抵抗が極めて小さくなるのて、回転皿
は極めて小さいトルクで回転するので、モータ14は軽
負荷用の小型のものにできる。またこれによりモータの
消費電力が少なくて済み、省エネルギーの装置が実現で
きる。さらに加熱室の底部分のスペースが少なくて済み
・コンパクトな装置全実現できることになり、置き場所
ととらない使いやすい装置となる。またさらにモータの
小型化コンパクト設剖の実現は安価て経済的に構成でA
ることにつながる。
(2)リング全金属相別で構成しているので、?A度が
強く堅牢である。特に角形断面の金属棒によ−・て構成
することにより、鈑金で構成するのに比べ、ねじれに対
する強度が高するので、取扱い上において変形させる故
障もなくなる。加工も鈑金で構成するのに比べると金属
棒を円形に一巻いて継ぐだけで済むので簡単に加工でき
る。
偏平角形断面にすることによって穴はプレス加工によっ
て簡単にあけることができ、ピンのか(7め加工も容易
に確実にできる。従ってかしめ部で電波によってスパー
クを起し発熱するような危険がなくなる。
ピンをかしめに」、って固定する構成であればピンだけ
てローラケ固定できるので、ビスや止め輪を使うことな
とに比べ構造がす−きりとなり、食品かすなとで汚れた
ときでも簡単に水洗いで清掃でき、使い勝手が良くなる
(3)耐熱性にも優れているので、例えば加熱室内にヒ
ータを設けた。ヒータ付の高周波加熱装置に用いても十
分にその作用−t ヒ;h揮することができる。
(4)金属棒によるリングは電界の反射、集中の作用が
あり、その寸法、形状を適宜(τ選へは、被加熱物に対
して最も好ましい電タマ分布にすることも可能となる。
特にこのリングは被加熱物に対して極めて近い位置に設
けているので、この7効果は大きい。
(6)捷たリングは回転皿13の半分の回転5となるの
で、リングと被加熱物及び加熱室との相関関係が刻々と
変化することになり、ビンなどによっても電界を攪拌す
る作用が生じ均一加熱となる。
(6)  リング18を金篇棒で構成しても、ローラ1
9を低誘電率材料で構成し、加熱室底面17から浮かせ
た位置に保たれているので、電波によるスパークを起す
危険もない。
(7)ローラにより回転皿の外周面を支持し°Cいるの
で被加熱物を偏心させて載置したとしても安定して回転
させることができる。
(鴫 リング、ローラなどの回転支持体は、カロ熱室底
面の上に載置しているたけなので、自在に着脱ができ、
回転皿、回転支持体をとり外せば・加熱室底面には軸だ
けとなり、底面はす−・きりとなり、汚れも簡単に拭き
とることができ、極めて使い勝手が良くなる。
【図面の簡単な説明】
卯、1図は従来の高周波加熱装置の側面断面図、第2図
は従来の装置の他の例を示す要部断面図、第3図は本発
明の一実施例である高周波加熱装置の回転皿部分の構成
を示す要部拡大断面図、第4閣シ1.同装置におけるリ
ング及びローラ部分の要部拡大断面図である。 13・・・・・回k 皿、14・・・・・モータ、15
・・・・・軸、18・・・・・・リンク、  1’9°
°°・・・ローラ、20・ ・ビン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 非金属体で構成した回転皿と加熱′BI底面との間に角
    形断面の金属棒によって構成し瓦!ノングを設け、前記
    リングには低誘電率相別で構成したローラを金属材料で
    構成したピンにより回転自在に固定して設け、前記ロー
    ラにより回転皿全回転自在に支持する構成とした高周波
    加熱装置。
JP19922282A 1982-11-12 1982-11-12 高周波加熱装置 Pending JPS5987794A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19922282A JPS5987794A (ja) 1982-11-12 1982-11-12 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19922282A JPS5987794A (ja) 1982-11-12 1982-11-12 高周波加熱装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5987794A true JPS5987794A (ja) 1984-05-21

Family

ID=16404169

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19922282A Pending JPS5987794A (ja) 1982-11-12 1982-11-12 高周波加熱装置

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