JPS5987751A - 改善された充填材を有する遠uv線電球 - Google Patents
改善された充填材を有する遠uv線電球Info
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- JPS5987751A JPS5987751A JP58185219A JP18521983A JPS5987751A JP S5987751 A JPS5987751 A JP S5987751A JP 58185219 A JP58185219 A JP 58185219A JP 18521983 A JP18521983 A JP 18521983A JP S5987751 A JPS5987751 A JP S5987751A
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- 239000000945 filler Substances 0.000 title claims description 8
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 12
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 10
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 10
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 241000473391 Archosargus rhomboidalis Species 0.000 description 1
- 241000446406 Bathymasteridae Species 0.000 description 1
- 241000287227 Fringillidae Species 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- MGIUUAHJVPPFEV-ABXDCCGRSA-N magainin ii Chemical compound C([C@H](NC(=O)[C@H](CCCCN)NC(=O)CNC(=O)[C@@H](NC(=O)CN)[C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CC=1NC=NC=1)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CCSC)C(=O)N[C@@H](CC(N)=O)C(=O)N[C@@H](CO)C(O)=O)C1=CC=CC=C1 MGIUUAHJVPPFEV-ABXDCCGRSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70016—Production of exposure light, i.e. light sources by discharge lamps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/044—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by a separate microwave unit
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
未発1jliは、特に、遠紫外線光源(deep ul
travi。
travi。
let ligbt、)において使用するための改善さ
れた電球に関12、また改善された電球を内蔵する光源
に閏する。
れた電球に関12、また改善された電球を内蔵する光源
に閏する。
i全紫夕L (deep UV)線光源の屯黄な用途
は?1′導体フォトリトグラフの実施にある。従来のU
■フxI・リトグラフにおいては、製造される集積回路
の@徴と対応する光学的マスクにおけるパターンが、従
来周知の波長(、’260 ”−460nm)における
紫夕1線によるtJ V検知用フォトレジストでコーテ
ィングを施した半導体ウェーハに対して結像される。こ
のパターンがウェーハにに露出された後、このウェーハ
は更に処理されて、最後にはトランジスタ木子もしくは
集積回路となる。
は?1′導体フォトリトグラフの実施にある。従来のU
■フxI・リトグラフにおいては、製造される集積回路
の@徴と対応する光学的マスクにおけるパターンが、従
来周知の波長(、’260 ”−460nm)における
紫夕1線によるtJ V検知用フォトレジストでコーテ
ィングを施した半導体ウェーハに対して結像される。こ
のパターンがウェーハにに露出された後、このウェーハ
は更に処理されて、最後にはトランジスタ木子もしくは
集積回路となる。
より大きな構成素子密度を有する集積回路を製造するた
め、従来の紫外線により7与られるよりも細い線を有す
るパターンを半導体ノル板−];に結像させることが必
要であり、このため遠UVf、210〜24Q nm)
を生じる光源が提起され、ある程度利用されてSた。¥
導体フォトリトグラフ 用される改7りされた無電極型遠UV光源については
本K111と同じ譲受人に対1,iiJJ渡された係属
中のλ゛、国特許出願第3132.825号および同第
381,481号において開示されている。
め、従来の紫外線により7与られるよりも細い線を有す
るパターンを半導体ノル板−];に結像させることが必
要であり、このため遠UVf、210〜24Q nm)
を生じる光源が提起され、ある程度利用されてSた。¥
導体フォトリトグラフ 用される改7りされた無電極型遠UV光源については
本K111と同じ譲受人に対1,iiJJ渡された係属
中のλ゛、国特許出願第3132.825号および同第
381,481号において開示されている。
フォトリトグラフのための有効な無電極型遠UV光源を
?tfるためには、適切に励起された時速UV領域にお
いて、またある用途においては特に220〜23Onm
以内の帯域中の高度なスペクトル部分を有する非常に明
るい出力を生じることができる充填物をイIする電球を
提供することが必要である。既イfの4G ’Ij+:
極型電球および従)!技術によって構成されたjlL球
のこれ等の教jljは必要な遠U V llf力を有す
る必°〃なIJIるさのレベルにおいて実施する,7と
はでさないことが判った。
?tfるためには、適切に励起された時速UV領域にお
いて、またある用途においては特に220〜23Onm
以内の帯域中の高度なスペクトル部分を有する非常に明
るい出力を生じることができる充填物をイIする電球を
提供することが必要である。既イfの4G ’Ij+:
極型電球および従)!技術によって構成されたjlL球
のこれ等の教jljは必要な遠U V llf力を有す
る必°〃なIJIるさのレベルにおいて実施する,7と
はでさないことが判った。
このような従来の無電極型゛電球は、米国メリー゛ラー
/1・州ロンクウ゛イルのFusionSystems
社によりV >r)1される1業的硬化下程のための線
形電球,および米国時3′1第3,943.402号、
同第3,943,401−F、同第4.185.228
号、同第3,942,058号、同第3、H3.927
I−+および同第4,001,031号において聞ノ
I−、された他の幾何学的形状の無電極η1電球を含ん
でいる。111述の全ての電球は、水銀が電球の容積に
対し,て特定の体積比率で存在する水銀充填材を使i1
1 L.ている・ 4+’0 〕で、木発明の目的は、改善された遠U’V
無小極型゛屯抹を提供することである。
/1・州ロンクウ゛イルのFusionSystems
社によりV >r)1される1業的硬化下程のための線
形電球,および米国時3′1第3,943.402号、
同第3,943,401−F、同第4.185.228
号、同第3,942,058号、同第3、H3.927
I−+および同第4,001,031号において聞ノ
I−、された他の幾何学的形状の無電極η1電球を含ん
でいる。111述の全ての電球は、水銀が電球の容積に
対し,て特定の体積比率で存在する水銀充填材を使i1
1 L.ている・ 4+’0 〕で、木発明の目的は、改善された遠U’V
無小極型゛屯抹を提供することである。
本発明の別の目的は、スペクトルの遠UV部分における
比較的高い出力を有する高輝度レベルでhIJ用する遠
t+v電球を提供することである。
比較的高い出力を有する高輝度レベルでhIJ用する遠
t+v電球を提供することである。
、に発明の史に別の目的は、未発19jの改善された電
球を内蔵するI!uv光源を提供することである。
球を内蔵するI!uv光源を提供することである。
本、発明は、電球内に保有される水銀の体積が有効な遠
UV動作のために東要であるという発見に基づいている
。本発明によれば、室温(約22°C=72°F’)に
おいて電球の容積1m文当り0.5乃至0。
UV動作のために東要であるという発見に基づいている
。本発明によれば、室温(約22°C=72°F’)に
おいて電球の容積1m文当り0.5乃至0。
8yL文の体積比率をず1する水銀充填材が提供される
。
。
より、Xノ,い水銀圧力が電球に対・するより高いマイ
クロ波電力の結合をもたらす結果となり,その結す1よ
り高い潜在輝度をもたらすが、電球中の水銀j11が多
ければプラズマ自体による放射エネルギの一部を吸収す
ることになり、また特に、遠U■の波1スの優先的な吸
収をもたらす結果にもなる。本川に(7人により、前記
の電球の容積1m文−にり0.5乃至0.8w文の体積
比率の臨界領域内では、このような効果は適切に均衡さ
れ、電球が特に必要な220〜230r++++の範囲
内では比較釣用るい遠UV出力を47.H供することが
判定されt:。更に、245(IN)lzの周波数にお
いて所要の輝度レベルを提供するため必偲′とされる3
00ワツ)/ccを越える結合電力密111においては
、前記の水銀充填材の比率はまた11工抹における比較
的小さな皮殻深さをもたら12、その結果紫外線の実質
部分か電球の外径において、1々則され、これによりプ
ラズマのF体による達UV線の吸収およびプラズマを外
被部壁面から分離する中=1°l的な境界層を較小限度
にする。
クロ波電力の結合をもたらす結果となり,その結す1よ
り高い潜在輝度をもたらすが、電球中の水銀j11が多
ければプラズマ自体による放射エネルギの一部を吸収す
ることになり、また特に、遠U■の波1スの優先的な吸
収をもたらす結果にもなる。本川に(7人により、前記
の電球の容積1m文−にり0.5乃至0.8w文の体積
比率の臨界領域内では、このような効果は適切に均衡さ
れ、電球が特に必要な220〜230r++++の範囲
内では比較釣用るい遠UV出力を47.H供することが
判定されt:。更に、245(IN)lzの周波数にお
いて所要の輝度レベルを提供するため必偲′とされる3
00ワツ)/ccを越える結合電力密111においては
、前記の水銀充填材の比率はまた11工抹における比較
的小さな皮殻深さをもたら12、その結果紫外線の実質
部分か電球の外径において、1々則され、これによりプ
ラズマのF体による達UV線の吸収およびプラズマを外
被部壁面から分離する中=1°l的な境界層を較小限度
にする。
本発明については、添(;1図面を照合することにより
史によく理解されるであろう。
史によく理解されるであろう。
第1 Mにおいては無電極型電球1が示され、取(−t
ijフチl、3に対して取引けられた状、牲で示され
ている。′出:J求lは、4:として水銀、けガスおよ
び作動中外被部の壁面から離れて放電状態を維持するよ
うに4′1用する)IgC: lの如き物質からなる充
填材を保イー1オるり形状あるいはその他の形状の外被
部2を含む。
ijフチl、3に対して取引けられた状、牲で示され
ている。′出:J求lは、4:として水銀、けガスおよ
び作動中外被部の壁面から離れて放電状態を維持するよ
うに4′1用する)IgC: lの如き物質からなる充
填材を保イー1オるり形状あるいはその他の形状の外被
部2を含む。
マイクロ波のエネルギが電球と結合される時、水31−
は加熱し、てブラフ゛マを形成し、これが紫外線を成用
する。J U V kMフォトリトグラフを実施するた
めの光〃;(においては、ヌペクトルの遠UV部分にお
いて大きな輝瓜の出力か要求され、前述の特性を右する
完全な光源の実施例については第3図および第4図に関
して記述されている。
は加熱し、てブラフ゛マを形成し、これが紫外線を成用
する。J U V kMフォトリトグラフを実施するた
めの光〃;(においては、ヌペクトルの遠UV部分にお
いて大きな輝瓜の出力か要求され、前述の特性を右する
完全な光源の実施例については第3図および第4図に関
して記述されている。
前述の如ビ1本出願人により、電球における水銀の体積
比率が高い遠UV線スペクトル成分を有オーる輝度出力
を生じるために川、Wであることが判った。従っ−〔、
本発明によれば、室温において外被部の容積Lml当り
0−5乃至0.9井見の体積比率における水銀充填材を
内部に含む遠UV線電抹が471! (Jtされる。こ
の容積1+n9.当り0.5乃至0゜9p文の臨界範囲
が球体の物理学的力学が分析された後に到達したもので
あることを知ることが重曹である。
比率が高い遠UV線スペクトル成分を有オーる輝度出力
を生じるために川、Wであることが判った。従っ−〔、
本発明によれば、室温において外被部の容積Lml当り
0−5乃至0.9井見の体積比率における水銀充填材を
内部に含む遠UV線電抹が471! (Jtされる。こ
の容積1+n9.当り0.5乃至0゜9p文の臨界範囲
が球体の物理学的力学が分析された後に到達したもので
あることを知ることが重曹である。
第2図は、相対的な遠UV線球の出力の強さく220〜
230 nm)対水銀の充填比を示すグラフである。最
大出力は約0.85 h l / m Q、の比率にお
いてマl(られること、および前記の強さは0.5 g
文/n19.において最大値が約−一となり、 0.9
#L交/mflにおいて最大値が約−となることが観
察される。Iυ犬約−一の出力はある用途において充分
である。
230 nm)対水銀の充填比を示すグラフである。最
大出力は約0.85 h l / m Q、の比率にお
いてマl(られること、および前記の強さは0.5 g
文/n19.において最大値が約−一となり、 0.9
#L交/mflにおいて最大値が約−となることが観
察される。Iυ犬約−一の出力はある用途において充分
である。
無1し締型の電球の物理的分析によれば、水銀圧力か増
加すると電球に対するより高いマイクロ波電力し・ベル
の結合を生じる結果となり、これはもし他の変数が悪1
形響を及ぼされければ望ましいものである。しかし、゛
電球内の水銀の早が増加するに(r−い、プラズマ自体
により放射されたエネルギの吸収の増加を生じ、特に遠
UV波長の優先的な吸+1Vが〕1:しることが判定さ
れた。例えば、Fusion5ystems社により販
売されている−1.とじて従来の波技で紫外線を生じる
ため使用される高出力のランプである直線形無電極電球
においては、水銀光)−材の比4べはl’、IBμ見/
’ m lとなることが知られるが、これは良好な電力
結合を生じるのに充分な高いが遠UV線の過度の吸収を
ももたらすものと信1〕lうれている。−・方、前掲の
外米国特許に開示される比較的低電力の無電極管におい
ては、充填率は0.3乃至0.4p(L/m交であり、
これは充分な11°力結合を許容するものではない。
加すると電球に対するより高いマイクロ波電力し・ベル
の結合を生じる結果となり、これはもし他の変数が悪1
形響を及ぼされければ望ましいものである。しかし、゛
電球内の水銀の早が増加するに(r−い、プラズマ自体
により放射されたエネルギの吸収の増加を生じ、特に遠
UV波長の優先的な吸+1Vが〕1:しることが判定さ
れた。例えば、Fusion5ystems社により販
売されている−1.とじて従来の波技で紫外線を生じる
ため使用される高出力のランプである直線形無電極電球
においては、水銀光)−材の比4べはl’、IBμ見/
’ m lとなることが知られるが、これは良好な電力
結合を生じるのに充分な高いが遠UV線の過度の吸収を
ももたらすものと信1〕lうれている。−・方、前掲の
外米国特許に開示される比較的低電力の無電極管におい
ては、充填率は0.3乃至0.4p(L/m交であり、
これは充分な11°力結合を許容するものではない。
1−記の理論を念頭において、本出願人はtiIJ2図
に示される情報を得るため水銀の体積比率を変化させて
、示された遠UV出力に対する体積比率の臨界領域を限
定した。これは、遠UVフォ)・リトグラフを実施する
ための適切なランプ球を提供するごとができる臨界領域
内に妥当する比率を用いることによってのみi’i丁能
である。、第2図に示されるデータは18.5nuwの
内径を有する電球に対するものであるが、臨界体積比率
が電球の直径および電球の形状に依存することを知るこ
とは重要なことである。
に示される情報を得るため水銀の体積比率を変化させて
、示された遠UV出力に対する体積比率の臨界領域を限
定した。これは、遠UVフォ)・リトグラフを実施する
ための適切なランプ球を提供するごとができる臨界領域
内に妥当する比率を用いることによってのみi’i丁能
である。、第2図に示されるデータは18.5nuwの
内径を有する電球に対するものであるが、臨界体積比率
が電球の直径および電球の形状に依存することを知るこ
とは重要なことである。
更に、i詣U V線の放射の大部分が電球の外径部にお
いて生しることが望ましい。これは、石英の外被部の放
電面と内表面との間で中ヴ的な境界層が生じる故であり
、この層はプラズマ自体と共に遠u V 鯛を吸収し、
これにより放射出力を鍼シtする。
いて生しることが望ましい。これは、石英の外被部の放
電面と内表面との間で中ヴ的な境界層が生じる故であり
、この層はプラズマ自体と共に遠u V 鯛を吸収し、
これにより放射出力を鍼シtする。
外1イ部における紫外線の放射を生しるためには、Ig
k ’+Rの深さと即ちマイクロ波エネルギが吸収され
る電球の4′l披部内からの距膠ができるだけ小さいこ
とが8黄である。しかし、この皮凄深さが小さい程、’
l’l;力を電球内に結合することが難しくなり、il
Iび眉犬遠UV線出力を生し2るための妥協に’r’t
= Lなければならない。2450MHzのマイクロ波
周波数および300ワツト/ccを越える結合電力市川
におりる作動のためには、1m9.当り0.5乃金0.
8 μ9の臨界充填比率範囲は適切な小さな皮殻a:さ
を11じ、その結果遠UV線が外径部において放!+1
され、イラズマおよび中台−の境界層により最小の吸収
帽となる。
k ’+Rの深さと即ちマイクロ波エネルギが吸収され
る電球の4′l披部内からの距膠ができるだけ小さいこ
とが8黄である。しかし、この皮凄深さが小さい程、’
l’l;力を電球内に結合することが難しくなり、il
Iび眉犬遠UV線出力を生し2るための妥協に’r’t
= Lなければならない。2450MHzのマイクロ波
周波数および300ワツト/ccを越える結合電力市川
におりる作動のためには、1m9.当り0.5乃金0.
8 μ9の臨界充填比率範囲は適切な小さな皮殻a:さ
を11じ、その結果遠UV線が外径部において放!+1
され、イラズマおよび中台−の境界層により最小の吸収
帽となる。
望ま1.い実施態様においては、直径が18.5+*m
の石英の外被部は90トールのアルゴンを含む2.1m
gのHgで充填され、また約0.1mgの少jilのH
gCl 2を含むことができる。更に、外被部は長い作
動寿命となるよう合成無水石英から作られるが、これに
ついては更に詳細に本願と同じ譲受人に対し譲渡された
係属中の米国特許出願第□−呻において記述されている
ヮ 第3図においては、未発’J−1の改良された電球を使
用するマイクロ波を生じる光源の−・実施例が例示され
ている。この電源は、マイクロ波室4と、この室内に配
置された無電極型電球6からなる。
の石英の外被部は90トールのアルゴンを含む2.1m
gのHgで充填され、また約0.1mgの少jilのH
gCl 2を含むことができる。更に、外被部は長い作
動寿命となるよう合成無水石英から作られるが、これに
ついては更に詳細に本願と同じ譲受人に対し譲渡された
係属中の米国特許出願第□−呻において記述されている
ヮ 第3図においては、未発’J−1の改良された電球を使
用するマイクロ波を生じる光源の−・実施例が例示され
ている。この電源は、マイクロ波室4と、この室内に配
置された無電極型電球6からなる。
この電球の外被部は、電球内のプラズマを励起するため
使用されるマイクロ波エネルギの波長よりも°X質的に
短いhk大・1′法を有するように構成され、室4は電
球に対してマイクロ波エネルギを有効に結合するための
スロワI・8をイ゛Iしている。
使用されるマイクロ波エネルギの波長よりも°X質的に
短いhk大・1′法を有するように構成され、室4は電
球に対してマイクロ波エネルギを有効に結合するための
スロワI・8をイ゛Iしている。
マイクロ波エネルギは電源12により作動されるマグ、
ネトロンlOによりIJ1合され、このマグネトロ、パ
により生成されるマイクロ波エネルギは同調スタブ(s
tub) 1Bにより同調可能な矩形状の導波部14を
介してマイクロ波室4におけるスロット8に対して送ら
れる。
ネトロンlOによりIJ1合され、このマグネトロ、パ
により生成されるマイクロ波エネルギは同調スタブ(s
tub) 1Bにより同調可能な矩形状の導波部14を
介してマイクロ波室4におけるスロット8に対して送ら
れる。
マイクロ波室4の内側はUV線を反射する材料で接菌さ
れ、この室は′電球により放射される遠uvnかEii
記室から出ることを許容する開1−118をイ1してい
る。この間(−1は、放射される紫外線に対11、実′
t′1的に透明であるが前記室内のマイクロ波工2ルキ
に対しては実質的に不透り1である金属網20で覆われ
ている。
れ、この室は′電球により放射される遠uvnかEii
記室から出ることを許容する開1−118をイ1してい
る。この間(−1は、放射される紫外線に対11、実′
t′1的に透明であるが前記室内のマイクロ波工2ルキ
に対しては実質的に不透り1である金属網20で覆われ
ている。
パ!1まl−7い結束を得るため、前記室は電球を介在
することなく理想的な室を得るよう設J1される時J1
、振状逃;にはないが近似J(振(near−reso
nant)を11しるように構成されている。近似ノ(
振状態は小さな球部6に勾するエネルギの最大結合量を
生じることになり、その結果これから最大光出力星を+
+1::る。結合状態を最大にするため、前記室は倍数
の波長というよりは′yろ1つの波長において近似j(
、IJffl状態となるように構成され、このためマイ
クロ波エネルギの有効な吸収を容易にする。第4図に示
されるスロット8と開口18の相対的な位置決めは、金
#120を介する比較的均等なUV出力を提供する。
することなく理想的な室を得るよう設J1される時J1
、振状逃;にはないが近似J(振(near−reso
nant)を11しるように構成されている。近似ノ(
振状態は小さな球部6に勾するエネルギの最大結合量を
生じることになり、その結果これから最大光出力星を+
+1::る。結合状態を最大にするため、前記室は倍数
の波長というよりは′yろ1つの波長において近似j(
、IJffl状態となるように構成され、このためマイ
クロ波エネルギの有効な吸収を容易にする。第4図に示
されるスロット8と開口18の相対的な位置決めは、金
#120を介する比較的均等なUV出力を提供する。
マグネトロン1oは、2450M)Izの周波数におい
て約1500ワツI・のマイクロ波電力を提供し、この
電)Jの大部分はプラズマに対12て結合され、その結
果的500ワシト/ccの電力密度をもたらす。その結
果中じる光源は約8′36のスペクトルの遠tJV部分
における変換効率を有し、約190ワツl□/’ccに
おいて放射する明るい電源である。
て約1500ワツI・のマイクロ波電力を提供し、この
電)Jの大部分はプラズマに対12て結合され、その結
果的500ワシト/ccの電力密度をもたらす。その結
果中じる光源は約8′36のスペクトルの遠tJV部分
における変換効率を有し、約190ワツl□/’ccに
おいて放射する明るい電源である。
ランプが作動させられる高い重力密度が電球6の石英外
被部を非常な高温にさせることが理解されるであろう。
被部を非常な高温にさせることが理解されるであろう。
外被部を適当に冷却するため、複数の冷却力スの噴射が
これに向けられている間外被部が回転させられる冷却装
置が用いられている。
これに向けられている間外被部が回転させられる冷却装
置が用いられている。
第3図においては、゛電球の外被部4は電動機23によ
り回転させられるステム29を有する。電動機の軸は、
ステl、29がイ1効に1し動機軸の延長部となるよう
に機械的な継手を介してステムに対し、て連結されてお
り、第4図においてはフランジ21.電動機取利はフラ
ンジ24および離間ポスト22を用いる機械的形71.
が小されている。
り回転させられるステム29を有する。電動機の軸は、
ステl、29がイ1効に1し動機軸の延長部となるよう
に機械的な継手を介してステムに対し、て連結されてお
り、第4図においてはフランジ21.電動機取利はフラ
ンジ24および離間ポスト22を用いる機械的形71.
が小されている。
第4図は、外被部が回転する時この外被部に刻して冷却
ガスを向けるための装置を示し、圧縮空僑、(jt 給
xi 38により供給されるノズル40.42.44オ
よひ46を小していることが判る。このノズルは外被′
部の略す中心部に対して向けられており 実質的な冷却
効果を牛じるように゛回転と組合されているつl閾;I
Kシた実施例においては、全てのノズルはJSI体の中
心部を通る面内に配置されている。しかし、約25.4
mn+以1−の直径を有する゛電球では、ノズル4θか
室の中心面の片側に俤かに偏倚されノズル42が611
の側に憧かに偏倚され、そしてノズル44.46につい
ても同様であれば、更に有効な冷却効果をイ11ること
かできる。
ガスを向けるための装置を示し、圧縮空僑、(jt 給
xi 38により供給されるノズル40.42.44オ
よひ46を小していることが判る。このノズルは外被′
部の略す中心部に対して向けられており 実質的な冷却
効果を牛じるように゛回転と組合されているつl閾;I
Kシた実施例においては、全てのノズルはJSI体の中
心部を通る面内に配置されている。しかし、約25.4
mn+以1−の直径を有する゛電球では、ノズル4θか
室の中心面の片側に俤かに偏倚されノズル42が611
の側に憧かに偏倚され、そしてノズル44.46につい
ても同様であれば、更に有効な冷却効果をイ11ること
かできる。
第1図に示される光源の実際の実施態様においては、金
属製の室2は、金属網20により覆われた約71.1m
m (2,8インチ)の円形の開[」18を、11する
A′199.11(3,トインチ)の直径の球形部であ
る。
属製の室2は、金属網20により覆われた約71.1m
m (2,8インチ)の円形の開[」18を、11する
A′199.11(3,トインチ)の直径の球形部であ
る。
金属網20は、ワイヤの中心間の間隙的8.38mm
(0゜33インチ)をイIする約0.04?、2n+m
(0,001フインチ)の直径のワイヤの格子である
。球形のランプの外被部4は内径が18.511+11
1であり、 2.iBiの)Igと801・−ルのアル
ゴンの如き希有カスで充填され、また約0.1m3の小
部のHgC1□を含むものでもよい。
(0゜33インチ)をイIする約0.04?、2n+m
(0,001フインチ)の直径のワイヤの格子である
。球形のランプの外被部4は内径が18.511+11
1であり、 2.iBiの)Igと801・−ルのアル
ゴンの如き希有カスで充填され、また約0.1m3の小
部のHgC1□を含むものでもよい。
このように、改善された遠UV線電球ならびにこの電球
が使用(0止な光源を本願に開示した。
が使用(0止な光源を本願に開示した。
本発明のある実施態様を開示したが、本発明の範囲内に
該当する変更は当業者において起りうろことであり、本
発明は頭書の特許請求の範囲およびこれとN1のものに
よってのみ駆足されると理解されるべきである。
該当する変更は当業者において起りうろことであり、本
発明は頭書の特許請求の範囲およびこれとN1のものに
よってのみ駆足されると理解されるべきである。
第1図は無電極型電球の−・実施例を小才概略図、第2
図は第1図の無電極型電球に対する水銀光Jd材対遠U
V出力の関係を示すグラフ、第3図は本発明のqf1球
を内蔵する無電極型光源の一実施例を2■−す図、およ
び第4図は第3図の光源に対する7f、7却装置の概略
図である。 1・・・′1”rH、F;k、2・・・外被部、3・・
・取(=Jけステム、4・・・プ・fり口JI!7 ”
+<、6・・・電球、8・・・スo 、、、 Llo・
・・マグ2トロユ/12・・・電源、14・・・導波部
、16・・スタブ、18・・・開n、20・・・金属網
、21・・・フランジ、22・・・15間ボス;・、2
3・・・電動機、24・・・電動機取付はフラ゛′ン、
29・・・ステム、38・・・川幅空気供給源、4’1
.42.44.4B・・・ノズル。 IL P出■人 ツユ−・ンヨンΦンステムズ・コーホ
(艮 図面の?′II書(内容に変更なし) 1N80H59−87751(6) FIG、2 Jl/m! 電姉体#11;月4)水4fA元婦付の比キ手続補正書
防式) %式% 1、事件の表示 ’Frl1:111iii 58− 1 8521 9
号2、発明の名称 にイ1.:0.されプこ光」t−山tン■1″る姻てU
V Ar、+!’住り斡ト3、補正をする者 4代 理 人〒107 槌[)1:の杓、1!′出和人の欄、図面、安住状及び
その訳文手続補正書 昭和58年11月15日 特許庁長官着杉和夫 殿 l、事件の表示 Qki昭58−185219号 2、発明の名称 改善された充填材を肩する遠UV線−球3、補正をする
責 事件との関係 特許出願人 4、代 理 人〒107 (1) 明4111書ψ、9頁第2行に「最大値が約
となり、」とあるのを、「最大値が約0.93となり
、」に言]正する。 (2)同相1.9員第3行に「最大値が約 となる」と
あるのを、1「最大値が約0.85となる」に訂正する
。 (3)同第9頁第4行に「最大約 」とあるのを、F最
大約0.85 jに訂正する。 以上 261−
図は第1図の無電極型電球に対する水銀光Jd材対遠U
V出力の関係を示すグラフ、第3図は本発明のqf1球
を内蔵する無電極型光源の一実施例を2■−す図、およ
び第4図は第3図の光源に対する7f、7却装置の概略
図である。 1・・・′1”rH、F;k、2・・・外被部、3・・
・取(=Jけステム、4・・・プ・fり口JI!7 ”
+<、6・・・電球、8・・・スo 、、、 Llo・
・・マグ2トロユ/12・・・電源、14・・・導波部
、16・・スタブ、18・・・開n、20・・・金属網
、21・・・フランジ、22・・・15間ボス;・、2
3・・・電動機、24・・・電動機取付はフラ゛′ン、
29・・・ステム、38・・・川幅空気供給源、4’1
.42.44.4B・・・ノズル。 IL P出■人 ツユ−・ンヨンΦンステムズ・コーホ
(艮 図面の?′II書(内容に変更なし) 1N80H59−87751(6) FIG、2 Jl/m! 電姉体#11;月4)水4fA元婦付の比キ手続補正書
防式) %式% 1、事件の表示 ’Frl1:111iii 58− 1 8521 9
号2、発明の名称 にイ1.:0.されプこ光」t−山tン■1″る姻てU
V Ar、+!’住り斡ト3、補正をする者 4代 理 人〒107 槌[)1:の杓、1!′出和人の欄、図面、安住状及び
その訳文手続補正書 昭和58年11月15日 特許庁長官着杉和夫 殿 l、事件の表示 Qki昭58−185219号 2、発明の名称 改善された充填材を肩する遠UV線−球3、補正をする
責 事件との関係 特許出願人 4、代 理 人〒107 (1) 明4111書ψ、9頁第2行に「最大値が約
となり、」とあるのを、「最大値が約0.93となり
、」に言]正する。 (2)同相1.9員第3行に「最大値が約 となる」と
あるのを、1「最大値が約0.85となる」に訂正する
。 (3)同第9頁第4行に「最大約 」とあるのを、F最
大約0.85 jに訂正する。 以上 261−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、フベクトルの1jiUV部分において比較的高い出
力を生ずるための無電極型電球において、イ、英の外被
部と、 室温において前記外被部の体積の1m9.当り0.5乃
至帆epL文の範囲の比率の水銀を含む前記侶被部の内
側の充填材とを含むことを特徴とする電工五〇 2 、 iii記充填材がアルゴンをも含む特許請求の
範囲第1J1′1記載の電球。 3、前記外被部が球形状であり、lO乃至35IIlf
flの内1イを有する特許請求の範囲第2項記載の電球
。 4、スペクトルの遠UV部分において比較的高い出ノl
を11するための比較的明るいS電極型電球におい−C
、 マイクロ波エネルギを生ずる手段と。 ・11英の外被部と、室温において前記外被部の体積の
1m、(L当り0.5乃至0.8μ文の範囲の比率の水
銀を含む前記外被部の内側の充填材とを含む電球と、 前記の生成されたマイクロ波エネルギを前記′電球に対
して結合するための手段とを含むことを特6にとする無
電極型電球。 5、前記の結合1段が、 前記マイクロ波エネルギ)250ワッ+−、/’CCを
越える゛rtt力密度において前記゛電球に対して結合
するための−り段を含む特許請求の範囲第4項記載の無
゛1゛L極型電球。 6、前記結合手段は前記電球が配置されるマイクロ波室
を含み、該室が内部に前記マイクロ波エネルギを導入す
るためのスロットを有している特許請求の範囲第5項記
載の無電極型電球。 7、前記電球の外被部が前記マイクロ波エネルギの波長
より実質的に小さな最大寸法を有している特許請求の範
囲第6項記載の電球。 8、前記マイクロ波室が遠Uv線を逃がすための開1−
1を右し、訪問11が遠UV線に対しては実質的に透明
であるがマイクロ波エネルギに対しては実質的にイ:透
明である金網により覆われ、前記外被部なその内部に持
たない前記マイクロ波室が近似1(振腔部である特許請
求の範囲第7項記載の゛電柱。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/433,069 US4859906A (en) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | Deep UV lamp bulb with improved fill |
US433069 | 1982-10-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5987751A true JPS5987751A (ja) | 1984-05-21 |
JPH0423378B2 JPH0423378B2 (ja) | 1992-04-22 |
Family
ID=23718738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58185219A Granted JPS5987751A (ja) | 1982-10-06 | 1983-10-05 | 改善された充填材を有する遠uv線電球 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4859906A (ja) |
JP (1) | JPS5987751A (ja) |
DE (1) | DE3336473A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01105500A (ja) * | 1987-07-15 | 1989-04-21 | Fusion Syst Corp | 無電極ランプの射出特性を変化させる方法及び装置 |
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USRE34492E (en) * | 1988-10-11 | 1993-12-28 | General Electric Company | Combination lamp and integrating sphere for efficiently coupling radiant energy from a gas discharge to a lightguide |
US5798611A (en) * | 1990-10-25 | 1998-08-25 | Fusion Lighting, Inc. | Lamp having controllable spectrum |
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KR100379873B1 (ko) * | 1995-07-11 | 2003-08-21 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 막질개량방법 |
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- 1982-10-06 US US06/433,069 patent/US4859906A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-10-05 JP JP58185219A patent/JPS5987751A/ja active Granted
- 1983-10-06 DE DE19833336473 patent/DE3336473A1/de active Granted
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