JPH0212753A - 反射被膜を有する無電極形hidランプ用の励起コイル - Google Patents
反射被膜を有する無電極形hidランプ用の励起コイルInfo
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- JPH0212753A JPH0212753A JP8416589A JP8416589A JPH0212753A JP H0212753 A JPH0212753 A JP H0212753A JP 8416589 A JP8416589 A JP 8416589A JP 8416589 A JP8416589 A JP 8416589A JP H0212753 A JPH0212753 A JP H0212753A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/048—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using an excitation coil
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明はプラズマ放電を励起するための高周波(RF)
コイルに関するものである。更に詳しく言えば本発明は
、無tf!形の高光度放電(HID)ランプにおいて可
視光を発生するプラズマを励起するために役立つと共に
、該ランプから発生された光のほぼ全部がコイルによっ
てほとんど遮断されることなしに放射されるようにする
ための鏡面反射性または拡散反射性の表面被膜を有する
新規なRFコイルに関する。
コイルに関するものである。更に詳しく言えば本発明は
、無tf!形の高光度放電(HID)ランプにおいて可
視光を発生するプラズマを励起するために役立つと共に
、該ランプから発生された光のほぼ全部がコイルによっ
てほとんど遮断されることなしに放射されるようにする
ための鏡面反射性または拡散反射性の表面被膜を有する
新規なRFコイルに関する。
現在、RF電流によって励起されたプラズマ放電から可
視光が発生され得ることは公知である。
視光が発生され得ることは公知である。
かかるRF電流は一般に放電を生起させるべきランプの
外部に配置された励起コイルによって供給され、そして
放電プラズマに結合される。その場合の励起コイルは、
RF抵抗損失が小さいばかりでなく、プラズマ放電から
放出される光の大部分がコイル自体によって遮断されず
に利用されることを可能にするような物理的特性をも有
することが極めて重要である。すなわち、励起コイルに
よる光の遮断は光源の総合効率を低下させるから、励起
コイルによって遮断されかつ吸収される光の量をできる
だけ少なくすることが望ましいのである。
外部に配置された励起コイルによって供給され、そして
放電プラズマに結合される。その場合の励起コイルは、
RF抵抗損失が小さいばかりでなく、プラズマ放電から
放出される光の大部分がコイル自体によって遮断されず
に利用されることを可能にするような物理的特性をも有
することが極めて重要である。すなわち、励起コイルに
よる光の遮断は光源の総合効率を低下させるから、励起
コイルによって遮断されかつ吸収される光の量をできる
だけ少なくすることが望ましいのである。
発明の要約
本発明に従えば、(a)一般に高光度放電プラズマを励
起すべき円柱状空間の外部に配置された少なくとも1巻
きの導線と、(b)約0.85より大きくかつ好ましく
はできるだけ1に近い可視光反射係数を有する材料を用
いて上記導線の外面上に形成された少なくとも1つの層
とから成ることを特徴とする、無電補形放電ランプにお
いて高光度放電プラズマを発生させるための励起コイル
が提供される。詳しく述べれば、銅、アルミニウムなど
から成る導線を用いて作製された励起コイルに対し、窒
化ゲイ素の薄層を鏡面反射層として使用することができ
る。かかる鏡面反射層は単独で使用してもよいし、ある
いはそれの下方に形成された銀層と併用してもよい。ま
た、硫酸バリウム、チタニア、アルミナまたはマグネシ
アの粉末から成る拡散反射層を使用することもできる。
起すべき円柱状空間の外部に配置された少なくとも1巻
きの導線と、(b)約0.85より大きくかつ好ましく
はできるだけ1に近い可視光反射係数を有する材料を用
いて上記導線の外面上に形成された少なくとも1つの層
とから成ることを特徴とする、無電補形放電ランプにお
いて高光度放電プラズマを発生させるための励起コイル
が提供される。詳しく述べれば、銅、アルミニウムなど
から成る導線を用いて作製された励起コイルに対し、窒
化ゲイ素の薄層を鏡面反射層として使用することができ
る。かかる鏡面反射層は単独で使用してもよいし、ある
いはそれの下方に形成された銀層と併用してもよい。ま
た、硫酸バリウム、チタニア、アルミナまたはマグネシ
アの粉末から成る拡散反射層を使用することもできる。
かかる拡散反射層は単独で使用してもよいし、あるいは
それの下方に設置された密着性向上用の中間層と併用し
てもよい。
それの下方に設置された密着性向上用の中間層と併用し
てもよい。
本発明の目的は、反射被膜を有する無電極形HIDラン
プ用の新規な励起コイルを提供することにある。
プ用の新規な励起コイルを提供することにある。
本発明の上記およびその他の目的は、添付の図面を参照
しながら以下の詳細な説明を読むことによって明らかと
なろう。
しながら以下の詳細な説明を読むことによって明らかと
なろう。
発明の詳細な説明
先ず第1図を見ると、本発明を適用し得る高光度放電(
HID)ランプ10が示されている。かかるHIDラン
プ10は、少なくとも1種の気体の一定量を封入した空
間11aを規定する透明な外被11を含んでいる。空間
11a内においては、外被11の外部に配置された励起
コイル14中を流れる高周波(RF)電流に応答してア
ーク放電プラズマ12が発生される。RF電流Irfは
、励起コイルの両端14aおよび14b間にRF電圧V
rfを供給する励起電源16に応答して生起される0通
例、アーク放電プラズマ12は励起コイル14によって
誘導される磁界Bの方向に対して実質的に垂直な平面内
においてトーラス状(またはドーナツ状)の形態を有し
ている。励起コイル14とプラズマ12との間における
適切な磁気結合を達成するためには、プラズマ12は励
起コイル14から発生したできるだけ多くの磁力線を横
切る必要があるから、プラズマ12は励起コイル14に
かなり近接して配置されるのが普通である。
HID)ランプ10が示されている。かかるHIDラン
プ10は、少なくとも1種の気体の一定量を封入した空
間11aを規定する透明な外被11を含んでいる。空間
11a内においては、外被11の外部に配置された励起
コイル14中を流れる高周波(RF)電流に応答してア
ーク放電プラズマ12が発生される。RF電流Irfは
、励起コイルの両端14aおよび14b間にRF電圧V
rfを供給する励起電源16に応答して生起される0通
例、アーク放電プラズマ12は励起コイル14によって
誘導される磁界Bの方向に対して実質的に垂直な平面内
においてトーラス状(またはドーナツ状)の形態を有し
ている。励起コイル14とプラズマ12との間における
適切な磁気結合を達成するためには、プラズマ12は励
起コイル14から発生したできるだけ多くの磁力線を横
切る必要があるから、プラズマ12は励起コイル14に
かなり近接して配置されるのが普通である。
そのため、プラズマ12によって発生される光の全てが
遠隔地点にまで到達することは妨げられる。
遠隔地点にまで到達することは妨げられる。
すなわち、一部の光は励起コイル14によって遮断され
るため、HIDランプ10の総合効率は低下するのであ
る。それ故、励起コイル14による光の吸収を低減させ
ることは極めて望ましいわけである。ところで、RF電
流は導線の表面部分(すなわち、RF表皮厚さとして知
られる深さまでの部分)のみを流れるから、励起コイル
14の導線は中実のものであっても中空のものであって
もよい、銅製の導線を(HIDランプの駆動用としてし
ばしば使用される標準的な「工業用」周波数である)約
13.56MHzの周波数で使用した場合、表皮深さは
約0.2 amである。このように表皮深さが小さいた
め、導線はできるだけ高い導電率を有することが必要で
ある。それ故、通例は銅が使用されると共に、RF損失
を低減させるために銀または金から成る表面層が設置さ
れることも多い、このような材料の多くは光学的な反射
係数が小さいのであって、唯一の例外は磨かれた銀表面
である。とは言え、銀やその他の材料(たとえば銅)の
十分に磨かれた表面も熱、放射または大気中のガスに暴
露された状態では長持ちしないのが普通である。すなわ
ち、銅や銀のごときコイル材料を使用した場合、コイル
表面は直ぐに光吸収の大きい状態に変化してしまうので
ある。要するに、少なくとも可視光に対する非常に高い
反射係数は最初から得られないか、あるいは得られても
持続させることができないわけである。
るため、HIDランプ10の総合効率は低下するのであ
る。それ故、励起コイル14による光の吸収を低減させ
ることは極めて望ましいわけである。ところで、RF電
流は導線の表面部分(すなわち、RF表皮厚さとして知
られる深さまでの部分)のみを流れるから、励起コイル
14の導線は中実のものであっても中空のものであって
もよい、銅製の導線を(HIDランプの駆動用としてし
ばしば使用される標準的な「工業用」周波数である)約
13.56MHzの周波数で使用した場合、表皮深さは
約0.2 amである。このように表皮深さが小さいた
め、導線はできるだけ高い導電率を有することが必要で
ある。それ故、通例は銅が使用されると共に、RF損失
を低減させるために銀または金から成る表面層が設置さ
れることも多い、このような材料の多くは光学的な反射
係数が小さいのであって、唯一の例外は磨かれた銀表面
である。とは言え、銀やその他の材料(たとえば銅)の
十分に磨かれた表面も熱、放射または大気中のガスに暴
露された状態では長持ちしないのが普通である。すなわ
ち、銅や銀のごときコイル材料を使用した場合、コイル
表面は直ぐに光吸収の大きい状態に変化してしまうので
ある。要するに、少なくとも可視光に対する非常に高い
反射係数は最初から得られないか、あるいは得られても
持続させることができないわけである。
次に第2aおよび2b図を見ると、本発明に従って無電
極形HIDランプ用の励起コイル14の外面上に反射係
数の大きい材料から成る少なくとも1つの層を形成する
ことによって得られた鏡面反射性または拡散反射性の表
面が示されている。
極形HIDランプ用の励起コイル14の外面上に反射係
数の大きい材料から成る少なくとも1つの層を形成する
ことによって得られた鏡面反射性または拡散反射性の表
面が示されている。
好適な実施の一態様に従えば、表面の不活性化をもたら
す光透過性の誘電体(たとえば、アルミナ、シリカ、窒
化ケイ素など)から成る薄層18(第2a図)を励起コ
イル14の導線の外面14s上に直接に形成することが
できる。第2a図に示された実施の態様においては、薄
い導電性管壁14Cおよび中空の内部14dを有する管
状の導線が使用されている。この場合には、熱を除去す
るため、コイル中に冷却液を流すことができる。なお、
第2b図に示された中実の導線14′Cと同様な中実の
導線も使用し得ることは言うまでもない。
す光透過性の誘電体(たとえば、アルミナ、シリカ、窒
化ケイ素など)から成る薄層18(第2a図)を励起コ
イル14の導線の外面14s上に直接に形成することが
できる。第2a図に示された実施の態様においては、薄
い導電性管壁14Cおよび中空の内部14dを有する管
状の導線が使用されている。この場合には、熱を除去す
るため、コイル中に冷却液を流すことができる。なお、
第2b図に示された中実の導線14′Cと同様な中実の
導線も使用し得ることは言うまでもない。
かかるコイル導線のRF電流通過部分がどのような横断
面形状および特性を有するにせよ、それの外面は同様な
処理を施せばよいのである。実例を挙げれば、壱かれた
アルミニウム導線から成るコイル上に窒化ケイ素の薄層
を形成したところ、0゜89の正味反射係数が得られる
ことくすなわち、被覆済みのコイル導線に入射した全光
量の85%が反射されること)が判明した。
面形状および特性を有するにせよ、それの外面は同様な
処理を施せばよいのである。実例を挙げれば、壱かれた
アルミニウム導線から成るコイル上に窒化ケイ素の薄層
を形成したところ、0゜89の正味反射係数が得られる
ことくすなわち、被覆済みのコイル導線に入射した全光
量の85%が反射されること)が判明した。
第2b図に示されるような別の好適な実施の態様に従え
ば、導線14′C上に先ず中間層20が形成される。な
お、導線14′c は中空のものであっても中実のもの
であってもよく、また円形、矩形もしくはその他の横断
面形状のいずれを有していてもよい。上記のごとき中間
層20は、(大部分のRF電流が銅から成る導線表面を
流れるように約1000オングストロームの厚さに形成
されたクロムの保護めっき層の場合のごとく)下方のコ
イル導線を保護するために役立つが、あるいはくかつま
た)下方のコイル導線の外面14′sに対する外側の反
射層22の密着性を向上させるために役立つ0反射層2
2は、反射率の大きい鏡面反射被膜から成るばかりでな
く、拡散反射性の被膜を与えるような材料から成ってい
てもよい。
ば、導線14′C上に先ず中間層20が形成される。な
お、導線14′c は中空のものであっても中実のもの
であってもよく、また円形、矩形もしくはその他の横断
面形状のいずれを有していてもよい。上記のごとき中間
層20は、(大部分のRF電流が銅から成る導線表面を
流れるように約1000オングストロームの厚さに形成
されたクロムの保護めっき層の場合のごとく)下方のコ
イル導線を保護するために役立つが、あるいはくかつま
た)下方のコイル導線の外面14′sに対する外側の反
射層22の密着性を向上させるために役立つ0反射層2
2は、反射率の大きい鏡面反射被膜から成るばかりでな
く、拡散反射性の被膜を与えるような材料から成ってい
てもよい。
たとえば、銅製のコイル導線14′c 上に硫酸バリウ
ムの層22を形成することができる。この場合、硫酸バ
リウムは積分球の内面を被覆するために通例使用される
ペイントの形態を有していればよいのであって、かかる
ペイントはイーストマンコダック社(Eastman
Kodak Co、)からNo、6080の名称で入手
することができる。銅に対する上記ペイントの密着性を
向上させるためには、中間層20として艶消し白色ペイ
ントの薄層を使用すればよい。その結果、0.982の
反射係数が得られることが判明した。無電極形HIDラ
ンプの周囲において見られる大気条件下において安定な
その他の拡散反射性粉末としては、たとえば、チタニア
、アルミナ、マグネシアなどが挙げられる。
ムの層22を形成することができる。この場合、硫酸バ
リウムは積分球の内面を被覆するために通例使用される
ペイントの形態を有していればよいのであって、かかる
ペイントはイーストマンコダック社(Eastman
Kodak Co、)からNo、6080の名称で入手
することができる。銅に対する上記ペイントの密着性を
向上させるためには、中間層20として艶消し白色ペイ
ントの薄層を使用すればよい。その結果、0.982の
反射係数が得られることが判明した。無電極形HIDラ
ンプの周囲において見られる大気条件下において安定な
その他の拡散反射性粉末としては、たとえば、チタニア
、アルミナ、マグネシアなどが挙げられる。
これらを使用した場合にも、可視スペクトル全域並びに
近赤外および赤外スペクトル領域の入射光に対して所要
の大きい反射係数を得ることができる。
近赤外および赤外スペクトル領域の入射光に対して所要
の大きい反射係数を得ることができる。
以上、本発明に従って外面上に鏡面反射性または拡散反
射性の被膜を有するHIDランプ用の新規なRF励起コ
イルを若干の好適な実施の態様に関連して説明したが、
数多くの変更態様が可能であることは当業者にとって自
明であろう。それ故、本発明の範囲は上記の説明中に記
載された特定の細部および手段によって制限されること
はなく、もっばら前記特許請求の範囲のみによって規定
されることを理解すべきである。
射性の被膜を有するHIDランプ用の新規なRF励起コ
イルを若干の好適な実施の態様に関連して説明したが、
数多くの変更態様が可能であることは当業者にとって自
明であろう。それ故、本発明の範囲は上記の説明中に記
載された特定の細部および手段によって制限されること
はなく、もっばら前記特許請求の範囲のみによって規定
されることを理解すべきである。
第1図は本発明を適用し得る環境を理解するために役立
つHIDランプ、RF励起コイルおよび励起電源の概略
側面図、第2a図は本発明の好適な実施の一態様に従っ
て形成された反射被膜を有する励起コイルの断面図、そ
して第2b図は本発明の別の好適な実施の態様に従って
形成された反射被膜を有する励起コイルの断面図である
。 図中、10はHIDランプ、11は外被、12はプラズ
マ、14は励起コイル、16は励起電源、18は反射層
、20は中間層、そして22は反射層を表わす。
つHIDランプ、RF励起コイルおよび励起電源の概略
側面図、第2a図は本発明の好適な実施の一態様に従っ
て形成された反射被膜を有する励起コイルの断面図、そ
して第2b図は本発明の別の好適な実施の態様に従って
形成された反射被膜を有する励起コイルの断面図である
。 図中、10はHIDランプ、11は外被、12はプラズ
マ、14は励起コイル、16は励起電源、18は反射層
、20は中間層、そして22は反射層を表わす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)高光度放電プラズマを閉込めるための空間を
規定する仮想表面の周囲に配置されかつ外面を有する少
なくとも1巻きの導線と、 (b)約0.85より大きい反射係数を与えるような材
料を用いて前記導線の外面上に形成された反射層とから
成ることを特徴とする、無電極形放電ランプにおいて高
光度放電プラズマを発生させるための励起コイル。 2、前記反射層が鏡面反射性の外面を有する請求項1記
載の励起コイル。 3、前記導線が銅およびアルミニウムから成る群より選
ばれた材料製のものである請求項2記載の励起コイル。 4、前記反射層の材料が表面の不活性化をもたらす光透
過性の誘電体である請求項3記載の励起コイル。 5、前記誘電体がアルミナ、シリカおよび窒化ケイ素か
ら成る群より選ばれる請求項4記載の励起コイル。 6、前記導線の外面と前記反射層との間に別種の材料か
ら成る中間層が追加包含される請求項4記載の励起コイ
ル。 7、前記中間層がクロムから成る請求項6記載の励起コ
イル。 8、クロムから成る前記中間層が約1000オングスト
ロームの厚さを有する請求項7記載の励起コイル。 9、前記反射層が窒化ケイ素から成り、かつ前記中間層
が前記導線の外面上かつ前記反射層の下方に形成された
磨き銀層である請求項6記載の励起コイル。 10、前記反射層が拡散反射性の外面を有する請求項1
記載の励起コイル。 11、前記導線が銅およびアルミニウムから成る群より
選ばれた材料製のものである請求項10記載の励起コイ
ル。 12、前記反射層の材料が硫酸バリウム、チタニア、ア
ルミナおよびマグネシアから成る群より選ばれる請求項
11記載の励起コイル。 13、前記反射層の材料が粉末である請求項12記載の
励起コイル。 14、前記導線の外面と前記反射層との間に別種の材料
から成る中間層が追加包含される請求項10記載の励起
コイル。 15、前記中間層の材料が前記導線の材料に対する前記
反射層の密着性を向上させるように選ばれる請求項14
記載の励起コイル。 16、前記中間層の材料がエナメルペイントである請求
項15記載の励起コイル。
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