JPS5986240A - フオトマスク収納箱 - Google Patents
フオトマスク収納箱Info
- Publication number
- JPS5986240A JPS5986240A JP19619182A JP19619182A JPS5986240A JP S5986240 A JPS5986240 A JP S5986240A JP 19619182 A JP19619182 A JP 19619182A JP 19619182 A JP19619182 A JP 19619182A JP S5986240 A JPS5986240 A JP S5986240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- box
- storage box
- side plates
- dusts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67359—Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67386—Closed carriers characterised by the construction of the closed carrier
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は半導体装置製造に用いられるフォトマスクの
収納箱に関するものである。
収納箱に関するものである。
半導体装置の製造工程は熱酸化拡散処理工程と、フォト
レジスト・エツチング工程の繰り返しであり、特に半導
体基板表面にパターン食刻を行うフォトレジスト工程は
半導体装置製造における心臓部とも言われ非常に重要な
役割を果たしている。
レジスト・エツチング工程の繰り返しであり、特に半導
体基板表面にパターン食刻を行うフォトレジスト工程は
半導体装置製造における心臓部とも言われ非常に重要な
役割を果たしている。
このフォトレジスト工程におけるフォトマスクの役割は
半導体基板上に形成した酸化膜あるいは、金属蒸着膜上
にパターンを形成するため感光剤樹肥を塗布し、該半導
体基板とフォトマスクを重ね合せ、焼き付は転写作業を
行ない、後の現像工程で感光剤樹肥のパターンが形成さ
れる。つまり、ここで使用されるフォトマスクに付着し
たゴミはＩＫ接、半導体装置の性能・歩留に影響を与え
る為、フォトマスクのゴミ対策活動が年々活＠になって
きている。現在、このフォトマスクが収納されるフォト
マスク収納箱は、フォトマスクを数枚単位で収納できる
単なる箱型であり、収納されたフォトマスクが固定され
ておらず運搬時の撮動によって収納箱側面に付着してい
るゴミがフォトマスクへと付着しｆｃ、ｌ）、 ７オト
マスクを収納箱に収納するとき、溝部との摩擦によって
ゴミが付着したりして、焼き付は転写時に紫外線全遮断
し、除去せねばならない部分にパターン残りを発生させ
た力、ゴミが直接半導体基板に付着し、ピンホール・キ
ズなどの原因となり、半導体装置の歩留低下・品質低下
をもたらしていた。又、従来のマスク収納箱は清掃が困
難であるという欠点もあった。
半導体基板上に形成した酸化膜あるいは、金属蒸着膜上
にパターンを形成するため感光剤樹肥を塗布し、該半導
体基板とフォトマスクを重ね合せ、焼き付は転写作業を
行ない、後の現像工程で感光剤樹肥のパターンが形成さ
れる。つまり、ここで使用されるフォトマスクに付着し
たゴミはＩＫ接、半導体装置の性能・歩留に影響を与え
る為、フォトマスクのゴミ対策活動が年々活＠になって
きている。現在、このフォトマスクが収納されるフォト
マスク収納箱は、フォトマスクを数枚単位で収納できる
単なる箱型であり、収納されたフォトマスクが固定され
ておらず運搬時の撮動によって収納箱側面に付着してい
るゴミがフォトマスクへと付着しｆｃ、ｌ）、 ７オト
マスクを収納箱に収納するとき、溝部との摩擦によって
ゴミが付着したりして、焼き付は転写時に紫外線全遮断
し、除去せねばならない部分にパターン残りを発生させ
た力、ゴミが直接半導体基板に付着し、ピンホール・キ
ズなどの原因となり、半導体装置の歩留低下・品質低下
をもたらしていた。又、従来のマスク収納箱は清掃が困
難であるという欠点もあった。
この発明の目的は、マスク収納箱からのゴミを付着しに
＜＜、清掃の容易なフォトマスク収納箱を提供する事に
ある。
＜＜、清掃の容易なフォトマスク収納箱を提供する事に
ある。
この発明のマスク収納箱は、フォトマスクを数枚単位で
収納する事のできるフォトマスク収納箱で上部が開放し
て蓋を有しており、フォトマスクを受は入れられる様な
箱型であり、フォーマスクを収納する側の箱の底部及び
側面邪にフォトマスクを挾み込み固定する事のできる部
分が配電されており、該箱の４つの側面板の内、交わる
２つの側面板が開閉する構造會有している。
収納する事のできるフォトマスク収納箱で上部が開放し
て蓋を有しており、フォトマスクを受は入れられる様な
箱型であり、フォーマスクを収納する側の箱の底部及び
側面邪にフォトマスクを挾み込み固定する事のできる部
分が配電されており、該箱の４つの側面板の内、交わる
２つの側面板が開閉する構造會有している。
この発明のマスク収納箱は収納されたフォトマスクが固
定されるため、従来発生していたフォトマスク運搬時の
振動によって収納箱から付着したり、収納時に溝との摩
擦によって付着したシする次にこの発明の実施例につき
図を用いて説明する。
定されるため、従来発生していたフォトマスク運搬時の
振動によって収納箱から付着したり、収納時に溝との摩
擦によって付着したシする次にこの発明の実施例につき
図を用いて説明する。
第１図、第２Ｎは仁の発明の一実施例を説明するための
図である。この実施例のフォトマスク収納箱（第１１図
）は、フォトマスク５を受は入れられる様な箱型であり
蓋１含有しフォトマスクを挾み込み固定できる様な部品
２を収納箱底部３及び側面部４ｖｃ配置している。又、
フォトマスク５が収納時、収納箱をこすらない様に収納
箱の側面板４枚の内、交わる２枚６・７が開閉する構造
を有している。即ち、この実施例によれば従来使用され
ているフォトマスク収納箱には無いフォトマスク１挾み
込み固定する事のできる部分が配置されているため、フ
ォトマスク運搬時の撮動によって（ フォトマスクへ収納箱側からゴミが付着する事が減少し
、又、フォトマスクに９−け入れられる部分の４枚の側
面板の内、交わる２枚が開閉する構造となっているため
、従来の収納箱で起っていたフォトマスク収納時に溝と
の摩擦によって発生するゴミが無くなり、この２点によ
ってフォトマスクに付着するゴミが低減されフォトマス
クに付着し２ゴミによって生じるパターンのピンホール
、キズ、パターン残９が減少でき結果的に半導体Ｖ７ｅ
ｆｌｌｉの歩留向上１品質向上を図る事ができる。又、
フォトマスクを受は入れられる箱が横に開閉するため清
掃が容易であるという利点もある。
図である。この実施例のフォトマスク収納箱（第１１図
）は、フォトマスク５を受は入れられる様な箱型であり
蓋１含有しフォトマスクを挾み込み固定できる様な部品
２を収納箱底部３及び側面部４ｖｃ配置している。又、
フォトマスク５が収納時、収納箱をこすらない様に収納
箱の側面板４枚の内、交わる２枚６・７が開閉する構造
を有している。即ち、この実施例によれば従来使用され
ているフォトマスク収納箱には無いフォトマスク１挾み
込み固定する事のできる部分が配置されているため、フ
ォトマスク運搬時の撮動によって（ フォトマスクへ収納箱側からゴミが付着する事が減少し
、又、フォトマスクに９−け入れられる部分の４枚の側
面板の内、交わる２枚が開閉する構造となっているため
、従来の収納箱で起っていたフォトマスク収納時に溝と
の摩擦によって発生するゴミが無くなり、この２点によ
ってフォトマスクに付着するゴミが低減されフォトマス
クに付着し２ゴミによって生じるパターンのピンホール
、キズ、パターン残９が減少でき結果的に半導体Ｖ７ｅ
ｆｌｌｉの歩留向上１品質向上を図る事ができる。又、
フォトマスクを受は入れられる箱が横に開閉するため清
掃が容易であるという利点もある。
上述の実施例において、フォトマスクの固定方法はフォ
トマスクの固定が可能ならば、本実施例以外の形状であ
っても、又、配置が他の場所であっても、ゴミに対する
同様の効果が得られるのは言うまでもない。
トマスクの固定が可能ならば、本実施例以外の形状であ
っても、又、配置が他の場所であっても、ゴミに対する
同様の効果が得られるのは言うまでもない。
第１図は本実施例を説明するための図であり、第２図は
フォトマスクを収納している図である。 尚５図において。 １・・・・・・上蓋、２・・・・・・マスク全固定する
部分、３・・・・・・収納箱底部、４・・・・・・収納
箱側面部、５・・・・・・フォトマスク、６，７・・・
・・・開閉する側面板、８・・・・・・閉じた時のスト
ッパー（鍼）。
フォトマスクを収納している図である。 尚５図において。 １・・・・・・上蓋、２・・・・・・マスク全固定する
部分、３・・・・・・収納箱底部、４・・・・・・収納
箱側面部、５・・・・・・フォトマスク、６，７・・・
・・・開閉する側面板、８・・・・・・閉じた時のスト
ッパー（鍼）。
Claims (1)
- 半導体装ｔｉ造に用いられるフォトマスクｔ−？、１数
枚単位で収納する事のできるフォトマスク収納箱であっ
て、上部が開放せる蓋を有し、フォトマスクを収納する
側の箱の底部及び側面部にフォトマスクを挾み込み固定
する事のできる手段が配置されており、該箱の４つの側
面板の内、交わる２つの側面板が開閉する構造を有する
事を特徴とするフォトマスク収納箱。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19619182A JPS5986240A (ja) | 1982-11-09 | 1982-11-09 | フオトマスク収納箱 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19619182A JPS5986240A (ja) | 1982-11-09 | 1982-11-09 | フオトマスク収納箱 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5986240A true JPS5986240A (ja) | 1984-05-18 |
Family
ID=16353701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19619182A Pending JPS5986240A (ja) | 1982-11-09 | 1982-11-09 | フオトマスク収納箱 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5986240A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6159345U (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-21 |
-
1982
- 1982-11-09 JP JP19619182A patent/JPS5986240A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6159345U (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-21 |
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