JPS5984920A - ポリジハイドロジエンシロキサンの製法 - Google Patents
ポリジハイドロジエンシロキサンの製法Info
- Publication number
- JPS5984920A JPS5984920A JP19329682A JP19329682A JPS5984920A JP S5984920 A JPS5984920 A JP S5984920A JP 19329682 A JP19329682 A JP 19329682A JP 19329682 A JP19329682 A JP 19329682A JP S5984920 A JPS5984920 A JP S5984920A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dialkoxysilane
- alcohol
- polymerization
- carried out
- polycondensed
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- Pending
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- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）技術分野
本発明はポリジハイドロジエンシロキサン（以下Ｐ Ｄ
ＨＳという）の製法、特に重合度の高いＰＤＨ８の製
法に関する。
ＨＳという）の製法、特に重合度の高いＰＤＨ８の製
法に関する。
（２）技術の背思
シラノール末端基を有するＰＤＨ８は不安定なので、シ
リル化するが、シリル基に有機基が含まれているときに
、ポリマーの重合度が低い場合は、無機ポリマーとして
のＰＤＩ−１８の特徴を損ない、耐熱性の低下または被
覆膜中のピンホールの発生の原因となる。
リル化するが、シリル基に有機基が含まれているときに
、ポリマーの重合度が低い場合は、無機ポリマーとして
のＰＤＩ−１８の特徴を損ない、耐熱性の低下または被
覆膜中のピンホールの発生の原因となる。
（３）従来技術と間四点
ジアルコキシシランの加水分解工程
Ｈｚ ５ｉ（ＯＲ） ２ ＋ ２ Ｈｚ Ｏ−’ Ｈ２
８１（ＯＨ） ２ ＋ ２ ＲＯＨ（１）の次に、続い
てシラノールの縮重合工程ｎＨ２ｓｉ （ＯＩ（）２
→トｉ０− （Ｓｉ Ｈ，、−０） −Ｈ＋ （ｎ−１
１１−１２０（２、）がおきる。
８１（ＯＨ） ２ ＋ ２ ＲＯＨ（１）の次に、続い
てシラノールの縮重合工程ｎＨ２ｓｉ （ＯＩ（）２
→トｉ０− （Ｓｉ Ｈ，、−０） −Ｈ＋ （ｎ−１
１１−１２０（２、）がおきる。
このとき反応時間を２０時間としても、重合度ｎは４〜
５に過ぎなかった８ （４）発明の目的 本発明の目的は短時間で重合圧の高いＰＤＨ８ｋ得る製
法を提供することである。
５に過ぎなかった８ （４）発明の目的 本発明の目的は短時間で重合圧の高いＰＤＨ８ｋ得る製
法を提供することである。
（５）発明の構成
本発明の上記目的は、一般式Ｌ１２ Ｓ ｉ（０Ｒ）２
で表わされ、式中１（、が−価の脂肪族炭化水素基であ
るジアルコキシシランを加水分解した後に縮重合させル
、シラノール末端基を有するポリジハイドロジゴニンシ
ロキザンの製法であって、ジアルコキシシランの加水分
解において、生成する一価の脂肪族アルコールを除去し
ながら縮重合させることを特徴とする、ポリジハイドロ
ジェンシロキザ７（７）％法によって達成することがで
きる。
で表わされ、式中１（、が−価の脂肪族炭化水素基であ
るジアルコキシシランを加水分解した後に縮重合させル
、シラノール末端基を有するポリジハイドロジゴニンシ
ロキザンの製法であって、ジアルコキシシランの加水分
解において、生成する一価の脂肪族アルコールを除去し
ながら縮重合させることを特徴とする、ポリジハイドロ
ジェンシロキザ７（７）％法によって達成することがで
きる。
縮重合反応を減圧１００＋馴ＨＰ以下で行ない、かつ温
度５０℃以下で行なうことが好ましい。
度５０℃以下で行なうことが好ましい。
ジアルコキシシランの加水分解工程（１）の平衝定にお
いて、生成するアルコールＲＯＨを除去すれば、ミ５ｉ
ＯＨ濃度を高めることができ、これによって、シラノー
ル末端基を有するＰＤＩ８の重合度を高めることができ
る。
いて、生成するアルコールＲＯＨを除去すれば、ミ５ｉ
ＯＨ濃度を高めることができ、これによって、シラノー
ル末端基を有するＰＤＩ８の重合度を高めることができ
る。
出発物質のジアルコキシシランは通路、溶剤に溶解した
溶液として加水分解するが、出発物質の濃度を高めた場
合には、ＲＯＨの濃度も高くなるので、重合度を高める
ことができない。また縮重合工程において反応温度を高
めると、ミＳｉ ＩＩ結合が不安定となって、脱水素、
それに続いてケ゛ル化がおきるので、反応温度は５０℃
１以下、好ましくは４０℃以下とする。
溶液として加水分解するが、出発物質の濃度を高めた場
合には、ＲＯＨの濃度も高くなるので、重合度を高める
ことができない。また縮重合工程において反応温度を高
めると、ミＳｉ ＩＩ結合が不安定となって、脱水素、
それに続いてケ゛ル化がおきるので、反応温度は５０℃
１以下、好ましくは４０℃以下とする。
溶剤としてメチルイソブチルケトン（以下ＭＩＢＫ）沸
点１１５．９℃を使用するときは、工程（１）で副生ず
るエチルアルコール、またはメチルアルコールの沸点は
７８．３℃、６４．５℃で／）９、・内式的に、アルコ
ール対ＭＩＢＫの重量比１：１の（ｈ液を減圧蒸溜する
と、残液中のアルコール敏朋ハ、エチル、・′ルコール
の場合は５７ｆｔ ｉ ％以下、メチルアルコールの場
合は１係以下とすることができる。なお副生アルコール
がグロビルアルコール、ブチルアルコールのように沸点
が９７．２℃、１１７．７℃であるときは、溶剤として
沸点が１７００、または２０２℃であるメチルシクロヘ
ギサノンまたはアセトフェノンを溶剤とすることができ
る。
点１１５．９℃を使用するときは、工程（１）で副生ず
るエチルアルコール、またはメチルアルコールの沸点は
７８．３℃、６４．５℃で／）９、・内式的に、アルコ
ール対ＭＩＢＫの重量比１：１の（ｈ液を減圧蒸溜する
と、残液中のアルコール敏朋ハ、エチル、・′ルコール
の場合は５７ｆｔ ｉ ％以下、メチルアルコールの場
合は１係以下とすることができる。なお副生アルコール
がグロビルアルコール、ブチルアルコールのように沸点
が９７．２℃、１１７．７℃であるときは、溶剤として
沸点が１７００、または２０２℃であるメチルシクロヘ
ギサノンまたはアセトフェノンを溶剤とすることができ
る。
ただし出発物質がジェトキシシラン沸点約９０℃の場合
は、縮重合開始直後から減圧にすると、単量体が蒸発し
て収率が低下するので、暫ら〈反応させた後に減圧にし
て反応させる。減圧は１００ｍｍＨ７以下、好ましくは
６０間Ｈｆ以下とする。このとき、モノマー篩度は、濃
度が高すぎることによるゲル化を防ぐために６０重舒チ
以下、好捷しくけ５０重耽係以下とする。
は、縮重合開始直後から減圧にすると、単量体が蒸発し
て収率が低下するので、暫ら〈反応させた後に減圧にし
て反応させる。減圧は１００ｍｍＨ７以下、好ましくは
６０間Ｈｆ以下とする。このとき、モノマー篩度は、濃
度が高すぎることによるゲル化を防ぐために６０重舒チ
以下、好捷しくけ５０重耽係以下とする。
（６）実施例および比較例
実施例１
還流管、攪拌棒、温度計、漏斗を設けた四つロフラスコ
にジェトキシシランｉ ２ ｒ ＜ ｏ、ｉモル）、Ｍ
ＩＢＩ（１０８ｆを採取し、温度５℃以下に氷冷しつつ
、水１８Ｆ（１モル）を滴下し、滴下後、浴温を３５℃
として、２時間、常圧で櫂拌を続けた。
にジェトキシシランｉ ２ ｒ ＜ ｏ、ｉモル）、Ｍ
ＩＢＩ（１０８ｆを採取し、温度５℃以下に氷冷しつつ
、水１８Ｆ（１モル）を滴下し、滴下後、浴温を３５℃
として、２時間、常圧で櫂拌を続けた。
次に漏斗を取去り、ドライアイス冷却エタールをトラッ
プとする減圧系に接続し、減圧５０＋ｎｍＦｌｆで浴温
３５℃のまま１３時時間型合させた。トラップされた溶
剤の量は５０ｆであった。
プとする減圧系に接続し、減圧５０＋ｎｍＦｌｆで浴温
３５℃のまま１３時時間型合させた。トラップされた溶
剤の量は５０ｆであった。
得られた縮重合液を水洗、脱水後、有機層を傾写して得
、ジメチルクロロシラン９．５１を加えてシリル化し、
水５（１’に滴下して過剰のシリル剤を分解させ、水洗
し、１．５＋ｎｍ１Ｊｊ’で織縮し、アセトニトリルお
よびベンゼンで精製し、粉末状のＰＤＩ （８４，１１
を得た。赤外線吸収測定による重合度は約９であったー 実施例２゜ 縮重合時の減圧重合時間を２時間とした他は、実施例１
と同様にして粉末状のＰＤＩ（８３，９ｆ を得、その
重合度は５であった。
、ジメチルクロロシラン９．５１を加えてシリル化し、
水５（１’に滴下して過剰のシリル剤を分解させ、水洗
し、１．５＋ｎｍ１Ｊｊ’で織縮し、アセトニトリルお
よびベンゼンで精製し、粉末状のＰＤＩ （８４，１１
を得た。赤外線吸収測定による重合度は約９であったー 実施例２゜ 縮重合時の減圧重合時間を２時間とした他は、実施例１
と同様にして粉末状のＰＤＩ（８３，９ｆ を得、その
重合度は５であった。
比較例１゜
縮重合時に減圧とぜず、その時間を２０時間とした他は
、実施例１と同様にして、粉末状の）’１）１１８４．
０１を得、その重合度は約５であった。
、実施例１と同様にして、粉末状の）’１）１１８４．
０１を得、その重合度は約５であった。
実施例３゜
ジェトキシシラン３６ｒ（０，３モル）、へ１．０３１
（８４２、水５４Ｆ （３モル）としたことの他は実施
例１と同様にして、粉末状のＰＪＪＨ８１０、３１−ｆ
ｆ：得、その重合度は約１９であった。
（８４２、水５４Ｆ （３モル）としたことの他は実施
例１と同様にして、粉末状のＰＪＪＨ８１０、３１−ｆ
ｆ：得、その重合度は約１９であった。
比較例２
縮重合時に減圧としないことの他は、実施例３と同様に
して、オイル状のＰＤＩ−１８３，８ｒ ’Ｔｈ得、そ
の重合層は約２．８であった８ （力 発明の効果 上ｅｊ１２よシ明らか々ように、本発明の製法によって
得たＰ Ｉ）ＨＳは重合度が高く、従って耐熱性が良好
であり、刀・つ被慎欣のピンホールも少なく、半導体用
の配器層間絶縁１漠または保１換膜として使用すること
ができる１、 特訂出願人 冨士通株式会社 特許出願代理人 弁叩士り′木 朗 弁理士西舘和之 弁理士内田幸男 弁理士 山 口 昭 之
して、オイル状のＰＤＩ−１８３，８ｒ ’Ｔｈ得、そ
の重合層は約２．８であった８ （力 発明の効果 上ｅｊ１２よシ明らか々ように、本発明の製法によって
得たＰ Ｉ）ＨＳは重合度が高く、従って耐熱性が良好
であり、刀・つ被慎欣のピンホールも少なく、半導体用
の配器層間絶縁１漠または保１換膜として使用すること
ができる１、 特訂出願人 冨士通株式会社 特許出願代理人 弁叩士り′木 朗 弁理士西舘和之 弁理士内田幸男 弁理士 山 口 昭 之
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式Ｆ１□５ｉ（ＯＲ）２で表わされ、式中Ｒが
一価の脂肪族炭化水素基であるジアルコキシシランを加
水分解した後に縮重合させる、シラノール末端基を有す
るポリジハイドロジエンシロキサンの製法であって、ジ
アルコキシシランの加水分解において、生成する一価の
脂肪族アルコールを除去しながら縮重合させることを特
徴とする１、］？リジハイドロジエンシロキサンの製法
。 ２、縮重合反応を減圧１００ ｍｍ１−１ｒ以下で行な
う、特許請求の範囲第１項記載の製法。 ３、縮重合反応を温度５０℃以下で行なう、特許請求の
範囲第１項または第２項記載の製法６
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19329682A JPS5984920A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | ポリジハイドロジエンシロキサンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19329682A JPS5984920A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | ポリジハイドロジエンシロキサンの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5984920A true JPS5984920A (ja) | 1984-05-16 |
Family
ID=16305551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19329682A Pending JPS5984920A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | ポリジハイドロジエンシロキサンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5984920A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008035820A1 (fr) * | 2006-09-21 | 2008-03-27 | Jsr Corporation | Composition de résine de silicone et procédé de formation d'une isolation de tranchée |
| JP2008101206A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-05-01 | Jsr Corp | シリコーン樹脂、シリコーン樹脂組成物およびトレンチアイソレーションの形成方法 |
| JP2008266119A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-11-06 | Jsr Corp | シリコーン樹脂、シリコーン樹脂組成物およびトレンチアイソレーションの形成方法 |
| US8097690B2 (en) | 2005-08-05 | 2012-01-17 | Dow Corning Toray Company, Ltd. | Cyclic dihydrogenpolysiloxanes, hydrogenpolysiloxanes, processes for their production, silica type glass moldings and a process for their production, optical elements and a process for their production |
| WO2022080105A1 (ja) * | 2020-10-13 | 2022-04-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、光学装置、及び光吸収性組成物 |
-
1982
- 1982-11-05 JP JP19329682A patent/JPS5984920A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8097690B2 (en) | 2005-08-05 | 2012-01-17 | Dow Corning Toray Company, Ltd. | Cyclic dihydrogenpolysiloxanes, hydrogenpolysiloxanes, processes for their production, silica type glass moldings and a process for their production, optical elements and a process for their production |
| KR101303852B1 (ko) * | 2005-08-05 | 2013-09-05 | 다우 코닝 코포레이션 | 사이클릭 디하이드로겐폴리실록산, 하이드로겐폴리실록산,이의 제조방법, 실리카계 유리 성형체 및 이의 제조방법,광학 소자 및 이의 제조방법 |
| WO2008035820A1 (fr) * | 2006-09-21 | 2008-03-27 | Jsr Corporation | Composition de résine de silicone et procédé de formation d'une isolation de tranchée |
| JP2008101206A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-05-01 | Jsr Corp | シリコーン樹脂、シリコーン樹脂組成物およびトレンチアイソレーションの形成方法 |
| JP2008266119A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-11-06 | Jsr Corp | シリコーン樹脂、シリコーン樹脂組成物およびトレンチアイソレーションの形成方法 |
| WO2022080105A1 (ja) * | 2020-10-13 | 2022-04-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、光学装置、及び光吸収性組成物 |
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