JPS598383A - ZnSe緑色発光ダイオ−ド - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は11−■放間化合物の半導体装置に関し、特に
Zn5eの発光ダイオードに関する。
Zn5eの発光ダイオードに関する。
1l−Vl族間化合物半導体は直接遷移型の結晶で禁制
帯巾も■−■族間化合物と比べ大きな結晶が数種類ある
。特にZn8%Zn5e、casなどはIlt −V放
間化合物のGaPよりも短波長側での発光が期待できる
結晶であるが、従来の成長法によっては電気伝導形がn
形及びn形の結晶を制御性良く成長することが困難であ
った。
帯巾も■−■族間化合物と比べ大きな結晶が数種類ある
。特にZn8%Zn5e、casなどはIlt −V放
間化合物のGaPよりも短波長側での発光が期待できる
結晶であるが、従来の成長法によっては電気伝導形がn
形及びn形の結晶を制御性良く成長することが困難であ
った。
この原因としては、例えばp形結晶を得ようとしてアク
セプタ不純物を結晶成長中に添加、あるいはn形結晶中
に不純物拡散や合金により導入しようとするとアクセプ
タ不純物の量に応じてドナとしてふるまう欠陥が生じて
補償されてしまう自己補償効果を生ずる。この欠陥はZ
n5eの場合はSeの空格子点あるいはそれと不純物と
の複合体である。この結果、結晶はn形となった場合に
は非常な高抵抗体となり、実用的なp影領域が得られず
、このために実用的な半導体装置が製作されるに致って
ぃながった。
セプタ不純物を結晶成長中に添加、あるいはn形結晶中
に不純物拡散や合金により導入しようとするとアクセプ
タ不純物の量に応じてドナとしてふるまう欠陥が生じて
補償されてしまう自己補償効果を生ずる。この欠陥はZ
n5eの場合はSeの空格子点あるいはそれと不純物と
の複合体である。この結果、結晶はn形となった場合に
は非常な高抵抗体となり、実用的なp影領域が得られず
、このために実用的な半導体装置が製作されるに致って
ぃながった。
本発明では上記の欠点を解決しZn5e結晶による、効
率の良い緑色発光ダイオードを提供するものである。本
発明の半導体装置を作成する成長法としては、本発明者
が、特願昭55−81212号で提案した方法を用いる
ことが有効である。この方法では、構成元素と同族で結
晶に対する溶解度の大きいTe及び高蒸気圧成分元素の
蒸気圧制御用のSeを溶媒として用いZn5eの結晶成
長を行なうものであるが、溶媒中に添加するSeの含有
率により結晶成長中のSeの蒸気圧を制御することによ
り成長結晶の化学量論的組成からの偏差を制御すること
が可能となる。しかも溶媒中のTeの含有率が80%以
下の場合には成長しtコ結晶中のTeの混入比は殆んど
無視することが出来、本質的なZn5Oと見なすことが
出来る。この成長法に用いた石英アンプルの形状及び温
度分布を第1図及び第2図に示す。
率の良い緑色発光ダイオードを提供するものである。本
発明の半導体装置を作成する成長法としては、本発明者
が、特願昭55−81212号で提案した方法を用いる
ことが有効である。この方法では、構成元素と同族で結
晶に対する溶解度の大きいTe及び高蒸気圧成分元素の
蒸気圧制御用のSeを溶媒として用いZn5eの結晶成
長を行なうものであるが、溶媒中に添加するSeの含有
率により結晶成長中のSeの蒸気圧を制御することによ
り成長結晶の化学量論的組成からの偏差を制御すること
が可能となる。しかも溶媒中のTeの含有率が80%以
下の場合には成長しtコ結晶中のTeの混入比は殆んど
無視することが出来、本質的なZn5Oと見なすことが
出来る。この成長法に用いた石英アンプルの形状及び温
度分布を第1図及び第2図に示す。
第1図の石英アンプル1中に、溶媒の5O5Te2及び
溶媒上にソース結晶8を浮べ、第2図に示す温度分布を
有する成長炉中に投入し、石英アンプルの低温側4にZ
n5e単結晶を析出させる結晶成長法である。p形Zn
5e結晶を得る場合には、Au%Ag%Cuなどの不純
物を溶媒のSe、Teとともに投入する必要がある。又
n形結晶を得る場合には、Ga 、 At、Inなどの
mb族元素を投入するか、不純物無添加の結晶を成長後
、Zn溶液中1000℃で24〜48時間熱処理するこ
とにより可能となる。
溶媒上にソース結晶8を浮べ、第2図に示す温度分布を
有する成長炉中に投入し、石英アンプルの低温側4にZ
n5e単結晶を析出させる結晶成長法である。p形Zn
5e結晶を得る場合には、Au%Ag%Cuなどの不純
物を溶媒のSe、Teとともに投入する必要がある。又
n形結晶を得る場合には、Ga 、 At、Inなどの
mb族元素を投入するか、不純物無添加の結晶を成長後
、Zn溶液中1000℃で24〜48時間熱処理するこ
とにより可能となる。
この結晶を用いてタイオードを製作するには、1 成長
した結晶がp形の場合 l)形結晶をZn溶液中、1000℃で10−60分熱
処理することにより、10〜25μmの11形層を形成
し、一方の面をラッピング、ポリッシングで落し、p形
層にAuを蒸着、n形層にInを合金して電極を形成す
る。
した結晶がp形の場合 l)形結晶をZn溶液中、1000℃で10−60分熱
処理することにより、10〜25μmの11形層を形成
し、一方の面をラッピング、ポリッシングで落し、p形
層にAuを蒸着、n形層にInを合金して電極を形成す
る。
2 成長した結晶がn形の場合
結晶の一方にAuを蒸着し、他方にIn金属を乗せてA
rガス中800〜400 ℃で1分〜10分間合金する
ことによって電極を形成してダイオードを作成する。
rガス中800〜400 ℃で1分〜10分間合金する
ことによって電極を形成してダイオードを作成する。
このように、各結晶作成条件によって成長する結晶の電
気伝導形を制御できるが、第8図に溶媒中のSeの原子
%と成長した結晶のTeの含有率を示した。一般的には
、点線で示した接線の交点の右側の条件下で不純物のA
uなどを添加してp形結晶を、左側の条件下でn形結晶
を成長することが好ましい。
気伝導形を制御できるが、第8図に溶媒中のSeの原子
%と成長した結晶のTeの含有率を示した。一般的には
、点線で示した接線の交点の右側の条件下で不純物のA
uなどを添加してp形結晶を、左側の条件下でn形結晶
を成長することが好ましい。
溶媒中へのSeの添加量は成長する結晶の化学量論的組
成からの偏差を制御する効果を有しており、曲線の左側
の接線の外側の条件下1で成長した結晶では、Seの空
格子が出来易くこの位置にTeが入るためにTeの含有
率の大きな結晶が出来る。
成からの偏差を制御する効果を有しており、曲線の左側
の接線の外側の条件下1で成長した結晶では、Seの空
格子が出来易くこの位置にTeが入るためにTeの含有
率の大きな結晶が出来る。
一方、曲線の右側の接線の外側の条件12で・は、Se
が多(存在しているために、Seの空格子点は出来難く
、1a、Ib族の不純物を溶液中に同時に添加するとZ
nの格子位置と置換して■)形結晶を成長することがで
きる。
が多(存在しているために、Seの空格子点は出来難く
、1a、Ib族の不純物を溶液中に同時に添加するとZ
nの格子位置と置換して■)形結晶を成長することがで
きる。
このように本発明で用いる成長法は、Teを(溶媒の)
一部に含む溶液中のSeの含有率によって成長する結晶
の化学量論的組成の制御により不純物を効果的に添加し
て、自在に電気伝導形の制御された結晶を成長すること
ができるもので特に深い準位を形成するAu、 Ag、
CuなどのIb不純物を添加した結晶に関するもので
ある。
一部に含む溶液中のSeの含有率によって成長する結晶
の化学量論的組成の制御により不純物を効果的に添加し
て、自在に電気伝導形の制御された結晶を成長すること
ができるもので特に深い準位を形成するAu、 Ag、
CuなどのIb不純物を添加した結晶に関するもので
ある。
具体的な実施例を以下に述べる。
第1因に示した石英アンプル1中にTe8g 。
SC0・5g 1ZnSe 8 gを投入し、更に不純
物のAuをltng同時に添加し、1 ×10−’ T
orrよりよい真空度で封じ切る。このアンプルを成長
温度950℃、温度差20℃で120時間成長するとア
ンプルの先端から成長が始まり直径8 va 、長さ1
0mの単結晶Zn5eを成長することができる。これを
(111)面に平行に厚さ0.5〜0.7藺の円板状に
切断し、片面をミラー仕上げをして拡散に備える。拡散
は、洗浄処理後この結晶を5gのZnと一緒に石英アン
プル中に入れて封じ切り、1000℃で30分間熱処理
後、高温で溶液を分離して表面から約10μmの領域に
n形層を形成することが出来る。ミラー面ではない面を
ラッピングによって厚さ調整後、ポリッシング及びエツ
チングを行ない、それぞれの面に抵抗接触用の金属をつ
ける。p形層には例えばAuを真空蒸着し、n形層には
、InあるいはIn−8nを蒸着あるいは合金によって
形成する。蒸着後、金属と結晶の熱処理は、A「、N、
などの不活性ガス中で850℃にて10分間程度行なう
ことが望ましい。
物のAuをltng同時に添加し、1 ×10−’ T
orrよりよい真空度で封じ切る。このアンプルを成長
温度950℃、温度差20℃で120時間成長するとア
ンプルの先端から成長が始まり直径8 va 、長さ1
0mの単結晶Zn5eを成長することができる。これを
(111)面に平行に厚さ0.5〜0.7藺の円板状に
切断し、片面をミラー仕上げをして拡散に備える。拡散
は、洗浄処理後この結晶を5gのZnと一緒に石英アン
プル中に入れて封じ切り、1000℃で30分間熱処理
後、高温で溶液を分離して表面から約10μmの領域に
n形層を形成することが出来る。ミラー面ではない面を
ラッピングによって厚さ調整後、ポリッシング及びエツ
チングを行ない、それぞれの面に抵抗接触用の金属をつ
ける。p形層には例えばAuを真空蒸着し、n形層には
、InあるいはIn−8nを蒸着あるいは合金によって
形成する。蒸着後、金属と結晶の熱処理は、A「、N、
などの不活性ガス中で850℃にて10分間程度行なう
ことが望ましい。
この結晶、ダイオ−Vの電流−m正特性を調べると、立
1り電圧が2.7 V 、逆耐圧が一30vの良好な整
流特性が得られた。このタイオードを順方向にバイアス
すると第4図に示すように530 asにピークを有す
る深緑色の発光を得るととができた。同時に成長後の結
晶のフォトルミネセンスを第4図に同時に示したが、い
ずれもAuを添加した七のであるので、Auが形成する
準位が関与した発光が得られた。更1こ、このダイオー
ド中に形成された深い準位の位置を光−容量法で測定し
たものが、第5図で、520 nm付近にメインの深い
準位が形成されたことが確認された。
1り電圧が2.7 V 、逆耐圧が一30vの良好な整
流特性が得られた。このタイオードを順方向にバイアス
すると第4図に示すように530 asにピークを有す
る深緑色の発光を得るととができた。同時に成長後の結
晶のフォトルミネセンスを第4図に同時に示したが、い
ずれもAuを添加した七のであるので、Auが形成する
準位が関与した発光が得られた。更1こ、このダイオー
ド中に形成された深い準位の位置を光−容量法で測定し
たものが、第5図で、520 nm付近にメインの深い
準位が形成されたことが確認された。
実施例2
投入量としては、Teの量以外実施例1とほぼ同一で、
第3図の左側の領域で結晶成長を行ないn形結晶を得て
、この結晶」二にAuを実施例1と同様な手順で蒸着し
、電極形成法もほぼ同様な手順で行なうことによってp
−n接合を形成することができた。この場合には、A
uを蒸着してこれをn形結晶中に拡散することによって
n形結晶上にp影領域を形成することによリダイオード
が得られるもので特性的には実施例1と殆んど同一であ
った。
第3図の左側の領域で結晶成長を行ないn形結晶を得て
、この結晶」二にAuを実施例1と同様な手順で蒸着し
、電極形成法もほぼ同様な手順で行なうことによってp
−n接合を形成することができた。この場合には、A
uを蒸着してこれをn形結晶中に拡散することによって
n形結晶上にp影領域を形成することによリダイオード
が得られるもので特性的には実施例1と殆んど同一であ
った。
このように、Zn5e中にAuを添加あるいは拡散する
ことにより形成されたp形結晶を含むpn接合において
強い深緑色発光が得られ、従来のGaP純緑色発光ダイ
オードよりも波長が短く、交通信号灯の緑色領域に該当
する電力;得られ、効率もG a Pに匹敵する。0゜
05%程度の極めて明るいものが得られ工業的な応用価
値の高い半導体装置を提供するものである。
ことにより形成されたp形結晶を含むpn接合において
強い深緑色発光が得られ、従来のGaP純緑色発光ダイ
オードよりも波長が短く、交通信号灯の緑色領域に該当
する電力;得られ、効率もG a Pに匹敵する。0゜
05%程度の極めて明るいものが得られ工業的な応用価
値の高い半導体装置を提供するものである。
第1図は本発明における成長に用いた石英アンプル、第
2図は成長時の温度分布、第8図は溶媒中のSeの投入
量と成長した結晶中のTeの含有率、第4図は製作した
発光ダイオードのエレクトロルミネセンスと、Au添加
Zn5oのフォトルミネセンス、第5図は発光ダイオー
ドの光−容量特性である。 1・・・石英アンプル、2・・・溶媒Te+Se。
2図は成長時の温度分布、第8図は溶媒中のSeの投入
量と成長した結晶中のTeの含有率、第4図は製作した
発光ダイオードのエレクトロルミネセンスと、Au添加
Zn5oのフォトルミネセンス、第5図は発光ダイオー
ドの光−容量特性である。 1・・・石英アンプル、2・・・溶媒Te+Se。
Claims (1)
- ■)影領域の主tコる不純物として少なくとも一種類の
Ib族元素を含むことを特徴とするZn5e緑色発光ダ
イオード。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57118037A JPS598383A (ja) | 1982-07-06 | 1982-07-06 | ZnSe緑色発光ダイオ−ド |
US06/511,005 US4755856A (en) | 1982-07-06 | 1983-07-05 | Znse green light emitting diode |
GB08318183A GB2125216B (en) | 1982-07-06 | 1983-07-05 | Znse green light emitting diode |
DE3324086A DE3324086A1 (de) | 1982-07-06 | 1983-07-05 | Gruenes licht emittierende znse-diode |
FR8311292A FR2530081B1 (fr) | 1982-07-06 | 1983-07-06 | Procede pour la fabrication d'une diode electroluminescente au znse emettant en lumiere verte et diodes conformes a celles ainsi obtenues |
US07/031,165 US4725563A (en) | 1982-07-06 | 1987-03-26 | ZnSe green light emitting diode |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57118037A JPS598383A (ja) | 1982-07-06 | 1982-07-06 | ZnSe緑色発光ダイオ−ド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS598383A true JPS598383A (ja) | 1984-01-17 |
Family
ID=14726480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57118037A Pending JPS598383A (ja) | 1982-07-06 | 1982-07-06 | ZnSe緑色発光ダイオ−ド |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4755856A (ja) |
JP (1) | JPS598383A (ja) |
DE (1) | DE3324086A1 (ja) |
FR (1) | FR2530081B1 (ja) |
GB (1) | GB2125216B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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