JPS597643B2 - Y型ゼオライトの製造法 - Google Patents
Y型ゼオライトの製造法Info
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- JPS597643B2 JPS597643B2 JP1221579A JP1221579A JPS597643B2 JP S597643 B2 JPS597643 B2 JP S597643B2 JP 1221579 A JP1221579 A JP 1221579A JP 1221579 A JP1221579 A JP 1221579A JP S597643 B2 JPS597643 B2 JP S597643B2
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- JP
- Japan
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- gel
- aqueous solution
- alkali
- type zeolite
- mixed
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- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は触媒あるいは吸着剤として有用なフオージャサ
イト型結晶構造を持つY型ゼオライトの製造法に関する
ものである。
イト型結晶構造を持つY型ゼオライトの製造法に関する
ものである。
さらに詳しくは、ケイ酸アルカリ水溶液をシリカ源とし
てSiO2/Al203比の高いY型ゼオライトの製造
法に関する。
てSiO2/Al203比の高いY型ゼオライトの製造
法に関する。
フオージャサイト型結晶構造を持つY型ゼオライトは一
般に酸化物モル比で として表わされる。
般に酸化物モル比で として表わされる。
(ここでMはアルカリ金属、Wは3〜7、2はO〜9の
範囲の任意の数値である。
範囲の任意の数値である。
)これは一般には、アルミナ源として例えばアルミン酸
ソーダ、活性アルミナ、ガンマアルミナ、シリカ源とし
てケイ酸、ケイ酸ソーダ、シリカゲノへホワイトカーボ
ン更にアルカリ源及び水とで反応させ、結晶化して得て
いる。
ソーダ、活性アルミナ、ガンマアルミナ、シリカ源とし
てケイ酸、ケイ酸ソーダ、シリカゲノへホワイトカーボ
ン更にアルカリ源及び水とで反応させ、結晶化して得て
いる。
Y型ゼオライトは各種の触媒゛ないしは吸着剤として広
く使用されている。
く使用されている。
mとしては、石油のクラツキング、アルキル化、n−パ
ラフィンの異性化などであり、吸着剤としてはバラキシ
レンの分離などである。
ラフィンの異性化などであり、吸着剤としてはバラキシ
レンの分離などである。
一般にY型ゼオライトを触媒あるいは吸着剤として使用
する際耐熱性および耐酸性が要求される。
する際耐熱性および耐酸性が要求される。
Y型ゼオライトの耐熱性および耐酸性は、そのSiO2
/Al203比と密接な関係があり、Si02/A12
03比が高い程すぐれている。
/Al203比と密接な関係があり、Si02/A12
03比が高い程すぐれている。
Si02/Al203比−3〜4のY型ゼオライトは耐
熱耐酸性に乏しく実質上4以上のY型ゼオライトが工業
的に使用されている。
熱耐酸性に乏しく実質上4以上のY型ゼオライトが工業
的に使用されている。
好ましくはS i02/A1203比−5前後、あるい
はそれ以上のY型ゼオライトが望ましいが、一般にS
i02/AI 2 03比−5以上のY型ゼオライトを
再現性良く合成することは困難と言われている。
はそれ以上のY型ゼオライトが望ましいが、一般にS
i02/AI 2 03比−5以上のY型ゼオライトを
再現性良く合成することは困難と言われている。
特公昭36−1639号公報によればシリカ源としてケ
イ酸ソーダを用いる場合、合成したY型ゼオライトのS
i02/A1203比は3.9以下で、工業的に有用な
Si02/Al203比4以上のY型ゼオライトを?成
するために(ζ通常シリカ源としてシリカゾルやホワイ
トカーボンのような高価な固体シリカを用いていること
が開示されている。
イ酸ソーダを用いる場合、合成したY型ゼオライトのS
i02/A1203比は3.9以下で、工業的に有用な
Si02/Al203比4以上のY型ゼオライトを?成
するために(ζ通常シリカ源としてシリカゾルやホワイ
トカーボンのような高価な固体シリカを用いていること
が開示されている。
安価なケイ酸アルカリ水溶液をシリカ源としてSiO2
/A1203比−4以上のY型ゼオライトを合成できる
ならば、経済的であり、これを工業生産する上で、非常
に有利である。
/A1203比−4以上のY型ゼオライトを合成できる
ならば、経済的であり、これを工業生産する上で、非常
に有利である。
本発明者等は、この点に着目し、鋭意研究を行った結果
、アルカリ源と共にシリカ源にケイ酸アルカリ水溶液を
用いても、ある特殊条件下で析出させたゲルを使用する
ことによりSiO2/Al203比=4以上のY型ゼオ
ライトを合成するとか可能なことを見い出し、本発明を
完成した。
、アルカリ源と共にシリカ源にケイ酸アルカリ水溶液を
用いても、ある特殊条件下で析出させたゲルを使用する
ことによりSiO2/Al203比=4以上のY型ゼオ
ライトを合成するとか可能なことを見い出し、本発明を
完成した。
本発明法によれば、S102/AI203比−5以上の
ものも安定に、しかも再現性良く製造することができる
。
ものも安定に、しかも再現性良く製造することができる
。
本発明は先ずケイ酸アルカリ水溶液とアルミン酸アルカ
リ水溶液の混合液中に通常のゼオライトの生成に用いら
れるアルカリよりも過剰のアルカリを存在させることを
基本とする。
リ水溶液の混合液中に通常のゼオライトの生成に用いら
れるアルカリよりも過剰のアルカリを存在させることを
基本とする。
それによりゲルの析出を防止、あるいは遅延させ、これ
に水を加えて大量のゲルを析出させる。
に水を加えて大量のゲルを析出させる。
この様な方法で析出したゲルを用いることにより、はじ
めてSiO2/A103比の高いY型ゼオライトを生成
させ′ることか可能となる。
めてSiO2/A103比の高いY型ゼオライトを生成
させ′ることか可能となる。
次いで該ゲルを母液より分離した後、ケイ酸アルカリ水
溶液とアルカリの混合液中に入れ、均一なスリラーとし
、80°〜110℃の温度範囲に保ち、結晶化させY型
ゼオライトを生成させる。
溶液とアルカリの混合液中に入れ、均一なスリラーとし
、80°〜110℃の温度範囲に保ち、結晶化させY型
ゼオライトを生成させる。
本発明をさらに詳しく説明する。
本発明は2工程からなり、第1工程としてケイ酸アルカ
リ水溶液とアルカリ金属アルミン酸塩水溶液の混合液中
にM20/Al203(Mはアルカリ金属を示す)モル
比が5以上になるようにアルカリを存在させる。
リ水溶液とアルカリ金属アルミン酸塩水溶液の混合液中
にM20/Al203(Mはアルカリ金属を示す)モル
比が5以上になるようにアルカリを存在させる。
本発明で用いるアルカリは、リチウム、カリウム、ナト
リウムなどの1価金属のアルカリで通常苛性ンーダが用
いられる。
リウムなどの1価金属のアルカリで通常苛性ンーダが用
いられる。
又、アルカリ金属ケイ酸塩、アルカリ金属アルミン酸塩
に於けるアルカリは、前述の1価アルカリ金属で通常ナ
トリウムである。
に於けるアルカリは、前述の1価アルカリ金属で通常ナ
トリウムである。
アルカリはM20/Al203 モル比が5以上望まし
くは7以上になるように、あらかじめケイ酸アルカリ水
溶液あるいはアルミン酸アルカリ水溶液に混入しておく
。
くは7以上になるように、あらかじめケイ酸アルカリ水
溶液あるいはアルミン酸アルカリ水溶液に混入しておく
。
ケイ酸アルカリ水溶液のSiO2濃度、およびアルミン
酸アルカリ水溶液のAl203濃度は、それぞれ2wt
%以上に保つのがよい。
酸アルカリ水溶液のAl203濃度は、それぞれ2wt
%以上に保つのがよい。
また力レソトや水酸化アルミニウムなどの溶解してケイ
酸アルカリ水溶液やアルミン酸アルカリ水溶液を得、こ
れらを原料に用いる際は、これらの溶解にアルカリを過
剰に用い、M 2 0 / A I2 0 3モル比を
5以上として用いることもできる。
酸アルカリ水溶液やアルミン酸アルカリ水溶液を得、こ
れらを原料に用いる際は、これらの溶解にアルカリを過
剰に用い、M 2 0 / A I2 0 3モル比を
5以上として用いることもできる。
該混合液中のSi02/Al203モル比は2〜10で
あり、望ましくは3〜10がよい。
あり、望ましくは3〜10がよい。
10以上では経済的ではない。
例えばアルカリに苛性ソーダを用いる場合SiO。
/AI20sモル比を二定にしてもNa20/A120
3モル比を変えると生成するゲルの組成は変る。
3モル比を変えると生成するゲルの組成は変る。
またNa 2 0 /A I2 0 3モル比を大きく
する程ゲル粒子は細かくなくなり、同時にゲルは析出し
にくい傾向となる。
する程ゲル粒子は細かくなくなり、同時にゲルは析出し
にくい傾向となる。
なお付言するが過剰の苛性ソーダの存在は生成するゲル
に変化を与えるもので単にゲルの析出を遅延させるため
だけの手段ではない。
に変化を与えるもので単にゲルの析出を遅延させるため
だけの手段ではない。
例えば混合液を冷却する等により過剰の苛性ソーダが存
在しなくともゲルの析出を遅延させることだけはなしう
るが、その場合にはY型ゼオライトの製造に適したゲル
を得ることは困難である。
在しなくともゲルの析出を遅延させることだけはなしう
るが、その場合にはY型ゼオライトの製造に適したゲル
を得ることは困難である。
該混合液は70℃以下、好ましくは50℃以下に保つの
がよい。
がよい。
次いで水を加えてゲルを生成させるが、この際、該混合
液を、少な《とも30秒間、特に好ましくは少な《とも
2分間ゲルが存在しない状態に保ち、しかる後水を加え
てゲルを生成させる。
液を、少な《とも30秒間、特に好ましくは少な《とも
2分間ゲルが存在しない状態に保ち、しかる後水を加え
てゲルを生成させる。
水の添加量は該混合液量に対し、重量で1/10以上、
望ましくは1/5以上であり、水の温度は高い方が良い
。
望ましくは1/5以上であり、水の温度は高い方が良い
。
又前記混合液を加熱することによってもゲルを析出させ
ることが出来る。
ることが出来る。
該ゲルにはアルカリなど原料の2部が付着しているので
必要に応じ水洗を行い付着物を除去する。
必要に応じ水洗を行い付着物を除去する。
アルミン酸アルカリ水溶液およびケイ酸アルカリ水溶液
を原料とし、A型あるいはX型ゼオライトを製造するに
当っては濃度調整したアルミン酸アルカリ水溶液とケイ
酸アルカリ水溶液を混合してゲルを析出させるのが常法
となっているが、その場合、該混合液中のM20/Al
203 モル比は2〜3であり、混合と共にゲルが析出
する。
を原料とし、A型あるいはX型ゼオライトを製造するに
当っては濃度調整したアルミン酸アルカリ水溶液とケイ
酸アルカリ水溶液を混合してゲルを析出させるのが常法
となっているが、その場合、該混合液中のM20/Al
203 モル比は2〜3であり、混合と共にゲルが析出
する。
通常はそのまま加温下に保ち、結晶化を行うのであるが
、仮に、そのゲルを分離し、本発明法と反様に結晶化に
適した結晶化条件のもとで結晶化させたとしてもSiO
2/Al203比4以上のY型ゼオライトを製造するこ
とはできない。
、仮に、そのゲルを分離し、本発明法と反様に結晶化に
適した結晶化条件のもとで結晶化させたとしてもSiO
2/Al203比4以上のY型ゼオライトを製造するこ
とはできない。
従来ケイ酸アルカリ水溶液をSi02源として用いた場
合Si02/Al203比の高い実用に適したY型ゼオ
ライトの合成は困難と言われている。
合Si02/Al203比の高い実用に適したY型ゼオ
ライトの合成は困難と言われている。
しかしながらゲル生成にあたりアルカリを常法よりも過
剰に存在させM20/Al203 モル比で5以上に保
つと、析出するゲルが特殊な状態となり、全く驚くべき
ことであるが、そのゲルを使用することにより初めてS
i02/AI203比の高いY型ゼオライトを生成でき
るようになった。
剰に存在させM20/Al203 モル比で5以上に保
つと、析出するゲルが特殊な状態となり、全く驚くべき
ことであるが、そのゲルを使用することにより初めてS
i02/AI203比の高いY型ゼオライトを生成でき
るようになった。
つまり本発明の最犬の特徴は第一工程で得た特殊なゲル
をY型ゼオライト合成のアルミナ源およびシリカ源の一
部とし、更にケイ酸アルカリをシリカ源の一部として用
いることにある。
をY型ゼオライト合成のアルミナ源およびシリカ源の一
部とし、更にケイ酸アルカリをシリカ源の一部として用
いることにある。
又、第一工程にお.いてはケイ酸アルカリ水溶液とアル
ミン酸アルカリ水溶液の混合液中にM20/Al203
モル比が5以上になるようにアルカリを存在させること
を必須とし、該混合液からのゲルの析出が実質的に起ら
ない状態に一定時間保った後にゲルを析出させることで
ある。
ミン酸アルカリ水溶液の混合液中にM20/Al203
モル比が5以上になるようにアルカリを存在させること
を必須とし、該混合液からのゲルの析出が実質的に起ら
ない状態に一定時間保った後にゲルを析出させることで
ある。
この一定時間とはケイ酸アルカリ水溶液、アルミン酸ア
ルカリ水溶液およびアルカリ水溶液を混合後、ゲル析出
が実質的に起らない状態を少なくとも30秒間望ましく
は少なくとも2分間保つことである。
ルカリ水溶液およびアルカリ水溶液を混合後、ゲル析出
が実質的に起らない状態を少なくとも30秒間望ましく
は少なくとも2分間保つことである。
その後該混合液に水を加えてゲルを析出させることによ
り、特殊なゲルを得ることが特徴である。
り、特殊なゲルを得ることが特徴である。
本発明の第二工程では、第一工程で得たゲルとケイ酸ア
ルカリ水溶液を混合し、更に必要があればアルカリを加
えて、酸化物モル比が次の範囲になるように混合し、均
一なスラリーとする。
ルカリ水溶液を混合し、更に必要があればアルカリを加
えて、酸化物モル比が次の範囲になるように混合し、均
一なスラリーとする。
該スラリーを結晶化する条件は従来の方法と特別に異な
るものではなく、該スラリーをO〜70℃の範囲でO〜
100時間熟成し、次いで20〜110℃の範囲で加温
することにより結晶化させる。
るものではなく、該スラリーをO〜70℃の範囲でO〜
100時間熟成し、次いで20〜110℃の範囲で加温
することにより結晶化させる。
生成したY型ゼオライトの結晶は母液から分離し、十分
に水洗した後、乾燥し製品とする。
に水洗した後、乾燥し製品とする。
次に実施例により本発明を説明する。
実施例 1
容量2lのガラス容器に市販のアルミン酸ソーダ水溶液
27 7? (AI203 :1 8.4wt%、Na
20 : 1 9.5 wt%)と苛性ソーダ水溶液1
78 0?(Na20; 37.2wt%)を加え、
混合し温度を20℃に保持した。
27 7? (AI203 :1 8.4wt%、Na
20 : 1 9.5 wt%)と苛性ソーダ水溶液1
78 0?(Na20; 37.2wt%)を加え、
混合し温度を20℃に保持した。
この混合液の組成はAl203 ; 2.4 8wt%
、Na20;34.8wt%である。
、Na20;34.8wt%である。
次いで、温度20℃に保持した市販のケイ酸ソーダ水溶
液6291(Si02;28。
液6291(Si02;28。
6wt%、Na2 0 : 9. 3 wt%)の入っ
た容量10lのステンレス製容器に前記混合液を投入し
攪拌した。
た容量10lのステンレス製容器に前記混合液を投入し
攪拌した。
該混合液のNa20/Al203モル比は25であり、
ゲルは析出せず、液は透明であった。
ゲルは析出せず、液は透明であった。
混合後、10分経過した後該混合液に51の蒸留水を加
え、ゲルを析出させた。
え、ゲルを析出させた。
該ゲルをガラスフィルター(G−4)を用いて沢過し、
分離した後、水洗を行いゲルに付着した過剰の苛性ソー
ダなど付着物を除去し、ゲルケーキを得た。
分離した後、水洗を行いゲルに付着した過剰の苛性ソー
ダなど付着物を除去し、ゲルケーキを得た。
該ゲルケーキ( Si02/AI203比−3)の一部
1751( Na20 : 3.5 wt%、AI20
3 : 5.8wt%、Si02 : 10.3wt
%、H20 : 8 0.4wt%)を、ケイ酸ソー
ダ水溶液189グ(Sl02;28.6wt%、Na2
0: 9.3wt%)および苛性ソーダ水溶液6 5
Y ( Na 20 : 5. 8 wt%)の入った
容量1lのガラス容器に入れ十分に攪拌し、均一なスラ
リーとした。
1751( Na20 : 3.5 wt%、AI20
3 : 5.8wt%、Si02 : 10.3wt
%、H20 : 8 0.4wt%)を、ケイ酸ソー
ダ水溶液189グ(Sl02;28.6wt%、Na2
0: 9.3wt%)および苛性ソーダ水溶液6 5
Y ( Na 20 : 5. 8 wt%)の入った
容量1lのガラス容器に入れ十分に攪拌し、均一なスラ
リーとした。
該スラリーの酸化物モル比はN a 2 0 /S 1
0 2 =0.3 7 8i02/AI203= 1
2 H20 =4 0であった。
0 2 =0.3 7 8i02/AI203= 1
2 H20 =4 0であった。
該反応液スラリーの入ったガラス容器を密閉し、25℃
で16時間熟成し次いで95℃のオイルバスに入れ48
時間保持後、結晶化を終了した。
で16時間熟成し次いで95℃のオイルバスに入れ48
時間保持後、結晶化を終了した。
生成したゼオライトを真空沢過により母液より分離し、
水洗後110℃で乾燥した。
水洗後110℃で乾燥した。
このゼオライトはX線回折(Cu−Kα)および化学分
析の結果Si02/Al203 =5、2、結晶化度1
16%のY型ゼオライトであった。
析の結果Si02/Al203 =5、2、結晶化度1
16%のY型ゼオライトであった。
X線回折図を図−1に示す。
結晶化度の算出法は10個の結晶面
についてX線回折図より強度の総計■1を求め、市販の
Y型ゼオライ}(SK−40ユニオンカーバイド社製)
を結晶化度100%としその相対値で示した。
Y型ゼオライ}(SK−40ユニオンカーバイド社製)
を結晶化度100%としその相対値で示した。
(■1 :ゼオライト試料のX線回折図より求めた強度
の総計 ■2 :市販Y型ゼオライト(SK−40)のX線回折
図より求めた強度の総計) 実施例 2 アルミン酸ソーダ水溶液2 7 7 S’ ( AI2
0318.4wt%、Na2 0 : 1 9. 5
wt%)と苛性ソーダ水溶液5 5 6 ? ( Na
20 : 3 7.2wt%)を混合し20℃に保持し
た。
の総計 ■2 :市販Y型ゼオライト(SK−40)のX線回折
図より求めた強度の総計) 実施例 2 アルミン酸ソーダ水溶液2 7 7 S’ ( AI2
0318.4wt%、Na2 0 : 1 9. 5
wt%)と苛性ソーダ水溶液5 5 6 ? ( Na
20 : 3 7.2wt%)を混合し20℃に保持し
た。
この混合液の組成はA1203 : 6.1 2wt
%、Na20 ; 3 1.3wt%であった。
%、Na20 ; 3 1.3wt%であった。
この混合液と20℃に保持したケイ酸ソーダ水溶液52
4グ( S102 2 8.6wt%、Na2Q 9
.3wt%)を用い実施例1におけると同じようにして
ゲルを生成した。
4グ( S102 2 8.6wt%、Na2Q 9
.3wt%)を用い実施例1におけると同じようにして
ゲルを生成した。
混合液中のNa 2 0 / A I2 0 sモル比
は10であり、混合後、蒸留水を加えるまでの間3分間
ゲルを析出させずに保持した。
は10であり、混合後、蒸留水を加えるまでの間3分間
ゲルを析出させずに保持した。
P過により得たゲルケーキ(S102/AI203比−
2.9)の一部1 9 2 1? ( Na20 :
3.4 wt%、AI2 03 : 5. 3 wt%
、S i02 : 9. 1 wt%、H20 :
82.2wt%)、ケイ酸ソーダ水溶液191P(Si
02;28.6wt%、Na20:9.3wt%)およ
び苛性ソーダ水溶液76Y (Na207. 3 w
t%)を混合しスラリーとなし、実施例1におけると同
じようにして結晶化させた。
2.9)の一部1 9 2 1? ( Na20 :
3.4 wt%、AI2 03 : 5. 3 wt%
、S i02 : 9. 1 wt%、H20 :
82.2wt%)、ケイ酸ソーダ水溶液191P(Si
02;28.6wt%、Na20:9.3wt%)およ
び苛性ソーダ水溶液76Y (Na207. 3 w
t%)を混合しスラリーとなし、実施例1におけると同
じようにして結晶化させた。
ただし該スラリーの酸化物モル比はNa20/Sl02
=0.4 Si02/AI203=12 H2
0/Na20一40であり、結晶化は95℃のオイルバ
ス中で30時間後に終了した。
=0.4 Si02/AI203=12 H2
0/Na20一40であり、結晶化は95℃のオイルバ
ス中で30時間後に終了した。
生成したゼオライトはX線回折および化学分析の結果S
102 / Al 2 0 s = 4.8、結晶化
度112%のY型ゼオライトであった。
102 / Al 2 0 s = 4.8、結晶化
度112%のY型ゼオライトであった。
実施例 3
7/L/ミ7酸ソータ水溶液3 3 3 F ( AI
203 :6. 1 wt%、Na2 0 : 6.
5 wt%)と苛性ソーダ水溶液1 2 3 ? (N
a20: 3 7.2wt%)を混合し5℃に保持した
。
203 :6. 1 wt%、Na2 0 : 6.
5 wt%)と苛性ソーダ水溶液1 2 3 ? (N
a20: 3 7.2wt%)を混合し5℃に保持した
。
この混合液の組成は(AI203 : 4.45wt%
、Na20; 1 4.8wt%)である。
、Na20; 1 4.8wt%)である。
この混合液と5℃に保持したケイ酸ソーダ水溶液2 1
0 ? ( S t02 2 8. 6 wt%、N
a20 9.3wt%)を用い実施例1におけると同
じようにしてゲルを生成させた。
0 ? ( S t02 2 8. 6 wt%、N
a20 9.3wt%)を用い実施例1におけると同
じようにしてゲルを生成させた。
混合液中のNa2 0 / A I 2 0 3モル比
は7であり混合後蒸留水を加えるまでの間、3分間ゲル
を析出させずに保持した。
は7であり混合後蒸留水を加えるまでの間、3分間ゲル
を析出させずに保持した。
沢過後のゲルケーキ(SiO2/A■203比=2,8
)の一部1 9 5 ? ( Na20 : 3.2
wt%、AI203 : 5.2wt%、S i02
: 8.6 wt%、H20 ;83wt%)、ケイ酸
ソータ水溶液1 9 0 f? ( Si02 : 2
8.6wt%、Na20:9.3wt%)および苛性
ソーダ水溶液67グ(Na20;8.2wt%)を混合
しスラリーとし、実施例1におけると同じようにして結
晶化させた。
)の一部1 9 5 ? ( Na20 : 3.2
wt%、AI203 : 5.2wt%、S i02
: 8.6 wt%、H20 ;83wt%)、ケイ酸
ソータ水溶液1 9 0 f? ( Si02 : 2
8.6wt%、Na20:9.3wt%)および苛性
ソーダ水溶液67グ(Na20;8.2wt%)を混合
しスラリーとし、実施例1におけると同じようにして結
晶化させた。
ただし該スラリーの酸化物モル比はNa2 0/ S
i02 =0.4、Si02/Al203= 1 2
、H20/Na2〇一40であり、結晶化は95℃のオ
イルバス中で30時間後に終了した。
i02 =0.4、Si02/Al203= 1 2
、H20/Na2〇一40であり、結晶化は95℃のオ
イルバス中で30時間後に終了した。
生成したゼオライトはX線回折および化学分析の結果S
iO。
iO。
/Al203=4.8、結晶化度103%のY型ゼオラ
イトであった。
イトであった。
実施例 4
アルミン酸ソーダ水溶液555f(Al203 ;3.
68wt%、Na2 0 : 3. 9 0 wt%)
と苛性ソーダ水溶液77?(Na20; 37.2wt
%)を混合し5℃に保持した。
68wt%、Na2 0 : 3. 9 0 wt%)
と苛性ソーダ水溶液77?(Na20; 37.2wt
%)を混合し5℃に保持した。
この混合液の組成はAI203 : 3.23wt%、
Na20;7.96wt%である。
Na20;7.96wt%である。
この混合液と5℃に保持したケイ酸ソーダ水溶液1 2
63(S102 : 28.6wt%、Na2 0
: 9. 3 wt%)を用い実施例1におけると同じ
ようにしてゲルを生成させた。
63(S102 : 28.6wt%、Na2 0
: 9. 3 wt%)を用い実施例1におけると同じ
ようにしてゲルを生成させた。
混合液のNa20/AI203モル比は5であり、混合
後蒸留水を加えるまでの間2分間ゲルを析出させずに保
持した。
後蒸留水を加えるまでの間2分間ゲルを析出させずに保
持した。
沢過後のゲルケーキ(Si02/Al203比一2,8
)の一部1 8 9 ft ( Na2 0 : 3.
4 wt%、?l203 : 5.5wt%、S i
02 : 9 wt%、■2082.1wt%)ケイ酸
ソーダ水溶液152グ( S i02 : 2 8.6
wt%、Na2 0 : 9. 3 wt%)および
苛性ソーダ水溶液7 0f?(Na20:9wt%)を
混合し、スラリーとなし実施例1におけると同じように
して結晶化させた。
)の一部1 8 9 ft ( Na2 0 : 3.
4 wt%、?l203 : 5.5wt%、S i
02 : 9 wt%、■2082.1wt%)ケイ酸
ソーダ水溶液152グ( S i02 : 2 8.6
wt%、Na2 0 : 9. 3 wt%)および
苛性ソーダ水溶液7 0f?(Na20:9wt%)を
混合し、スラリーとなし実施例1におけると同じように
して結晶化させた。
ただし、該スラリーの酸化物モル比は、N a 2 0
/ S i0 2 =0.43、Si02/Al2
03 =1 0、H20/Na20=40であり、結晶
化は95℃のオイルバス中で48時間後に終了した。
/ S i0 2 =0.43、Si02/Al2
03 =1 0、H20/Na20=40であり、結晶
化は95℃のオイルバス中で48時間後に終了した。
生成したゼオライトはX線回折および化学分析の結果S
i02/Al203=42、結晶化度97%のY型ゼオ
ライトであった。
i02/Al203=42、結晶化度97%のY型ゼオ
ライトであった。
実施例 5
アルミン酸ソーダ水溶液333グ(Al203 :6.
1wt%、Na20: 6.5wt%)と苛性ソーダ水
溶液1 2 3 ? (Na20 : 3 7.2wt
%)を混合し5℃に保持した。
1wt%、Na20: 6.5wt%)と苛性ソーダ水
溶液1 2 3 ? (Na20 : 3 7.2wt
%)を混合し5℃に保持した。
この混合液の組成は( Al 2 03 : 4.4
5 wt%、Na20;14.8wt%)である。
5 wt%、Na20;14.8wt%)である。
この混合液と5℃に保持したケイ酸ソーダ水溶液2 1
0 ? ( Sl02 ; 2 8.6wt%、Na
20 1 9. 3 wt%)を用い、蒸留水を加えず
放置し、自然にゲルを析出させた以外は実施例3と同じ
ように操作した。
0 ? ( Sl02 ; 2 8.6wt%、Na
20 1 9. 3 wt%)を用い、蒸留水を加えず
放置し、自然にゲルを析出させた以外は実施例3と同じ
ように操作した。
沢過後のゲルケーキ(SiO/Al203比一2.8)
の一部1 66? (Na20: 3.7wt%、A
12 03 : 6. 1 wt%、S i02 :
1 0. 1 wt%、H20 : 80.1wt%
、ケイ酸ソーダ水溶液1 9 1 ? (Sin:
2 8.6wt%、Na2 0 : 9. 3wt%)
、および苛性ソーダ水溶液97グ( Na2 0 :
5.8 wt%)を混合し、スラリーとなし実施例lと
同じようにして結晶化させた。
の一部1 66? (Na20: 3.7wt%、A
12 03 : 6. 1 wt%、S i02 :
1 0. 1 wt%、H20 : 80.1wt%
、ケイ酸ソーダ水溶液1 9 1 ? (Sin:
2 8.6wt%、Na2 0 : 9. 3wt%)
、および苛性ソーダ水溶液97グ( Na2 0 :
5.8 wt%)を混合し、スラリーとなし実施例lと
同じようにして結晶化させた。
ただし該スラリーの酸化物モル比はNa20/SiO2
一〇.4、Si02/Al203=1 2、H20/
Na2〇一40であり、結晶化は95℃のオイルバス中
で30時間後に終了した。
一〇.4、Si02/Al203=1 2、H20/
Na2〇一40であり、結晶化は95℃のオイルバス中
で30時間後に終了した。
生成したゼオライトはX線回折による結晶化度および格
子定数測定の結果Si02/AI203= 4.8 、
結晶化度76%のY型ゼオライトであった。
子定数測定の結果Si02/AI203= 4.8 、
結晶化度76%のY型ゼオライトであった。
比較例 1
20℃に保持したケイ酸ソーダ水溶液420グ( S
i02 : 2 8.6 wt%、Na2 0 : −
9. 3 wt%)を容量5lのステンレス製容器に入
れ、この中に20℃に保持したアルミン酸ソーダ水溶液
850? ( A I 2 03: 6. 0 0 w
t%、Na20: 6.3 5wt%)を加え混合した
。
i02 : 2 8.6 wt%、Na2 0 : −
9. 3 wt%)を容量5lのステンレス製容器に入
れ、この中に20℃に保持したアルミン酸ソーダ水溶液
850? ( A I 2 03: 6. 0 0 w
t%、Na20: 6.3 5wt%)を加え混合した
。
ゲルは混合後直ちに析出した。
この混合液中のNa2 o/ A I2 0sモル比は
3.0であった。
3.0であった。
析出したゲルを分離水洗しゲルに付着した過剰の苛性ソ
ーダなど付着物を除去し、ゲルケーキを得た。
ーダなど付着物を除去し、ゲルケーキを得た。
該ゲルケーキ(SiO2/A1203比−29)の一部
172f(Na20 : 3.5wt%、A1203;
5.9Wt%、SiO2;10.1wt%、H20
;80.5Wt%)、ケイ酸ソーダ水溶液1 9 0
? ( S 102 : 2 8.6 wt%、Na2
0;9.3wt%)および苛性ソーダ水溶液661(N
a20: 5.7wt%)を混合し、スラリーとし、実
施例1におけると同じようにして結晶化させた。
172f(Na20 : 3.5wt%、A1203;
5.9Wt%、SiO2;10.1wt%、H20
;80.5Wt%)、ケイ酸ソーダ水溶液1 9 0
? ( S 102 : 2 8.6 wt%、Na2
0;9.3wt%)および苛性ソーダ水溶液661(N
a20: 5.7wt%)を混合し、スラリーとし、実
施例1におけると同じようにして結晶化させた。
ただし、該スラリーの酸化物モル比は実施例1と同じで
あり、Na20/Si02=0.3 7、sio2/A
l,203=1 2、H20/’Na’20 ”” 4
0であっf.:。
あり、Na20/Si02=0.3 7、sio2/A
l,203=1 2、H20/’Na’20 ”” 4
0であっf.:。
結晶化は95℃のオイルバス中で72時間後に終了した
。
。
生成物をX線回折した結果Y型ゼオライトは生成しなか
った。
った。
比較例 2
5℃に保持したケイ酸ソーダ水溶液1261( Si0
2 : 28.6wt%、Na2 0 : 9. 3
wt%)と5℃に保持したアルミン酸ソーダ水溶液55
5t?(AL,03: 3.6 8wt%、Na20:
3.90wt%)と苛性ソーダ水溶液4 3.7 9
(Na20 ;37.2wt%)の混合液を用い実施例
Jにおけると同じようにしてゲルケーキを得た。
2 : 28.6wt%、Na2 0 : 9. 3
wt%)と5℃に保持したアルミン酸ソーダ水溶液55
5t?(AL,03: 3.6 8wt%、Na20:
3.90wt%)と苛性ソーダ水溶液4 3.7 9
(Na20 ;37.2wt%)の混合液を用い実施例
Jにおけると同じようにしてゲルケーキを得た。
ゲルは混合終了後に析出しだした。
該混合液のNa2 0 /AI 2 03モル比−4で
あった。
あった。
該ゲルケーキ( S 102 / A I 2 0 3
比−2.8)の一部15 8?(Na20: 3.9w
t%、Al203 ;6.5wt%、S 102 :
1 0. 6 wt%、H20;79wt%)、ケイ酸
ソーダ水溶液1531(Si02 : 28.6wt%
、Na2Q :9.3wt%)および苛性ソーダ水溶液
9 9f(Na20: 6.6wt%)を混合し、スラ
リーとなし、実施例1におけると同じようにして結晶化
させた。
比−2.8)の一部15 8?(Na20: 3.9w
t%、Al203 ;6.5wt%、S 102 :
1 0. 6 wt%、H20;79wt%)、ケイ酸
ソーダ水溶液1531(Si02 : 28.6wt%
、Na2Q :9.3wt%)および苛性ソーダ水溶液
9 9f(Na20: 6.6wt%)を混合し、スラ
リーとなし、実施例1におけると同じようにして結晶化
させた。
ただし該スラリーの酸化物モル比は実施例4と同じNa
20/Si02 =0.43、Si02/AI203−
10、H20 /Na2 0 = 4 0であった。
20/Si02 =0.43、Si02/AI203−
10、H20 /Na2 0 = 4 0であった。
結晶化は95℃のオイルバス中で48時間後に終了した
X線回折の結果、生成物はY型ゼオライトとフイルプサ
イトの混合物であり、Y型ゼオライトの結晶化度は32
%であった。
X線回折の結果、生成物はY型ゼオライトとフイルプサ
イトの混合物であり、Y型ゼオライトの結晶化度は32
%であった。
比較例 3
アルミン酸ソーダ水溶液277グ(AI,03;18.
4wt%、Na20: 1 9.5wt%)に蒸留水5
56グを加え20℃に保持した。
4wt%、Na20: 1 9.5wt%)に蒸留水5
56グを加え20℃に保持した。
この希釈したアルミン酸ソーダ水溶液と20℃に保持し
たケイ酸ソーダ水溶液5 2 4 ? ( S102
: 2 8. 6 wt%Na2 0 : 9. 3
wt%)を用い実施例1におけると同じようにしてゲル
を生成した。
たケイ酸ソーダ水溶液5 2 4 ? ( S102
: 2 8. 6 wt%Na2 0 : 9. 3
wt%)を用い実施例1におけると同じようにしてゲル
を生成した。
混合液中のNa 2 0 /A I 2 0 3モル比
は3.3であり混合後直ちにゲルが析出した。
は3.3であり混合後直ちにゲルが析出した。
p過により得たゲルケーキ( Si02/Al203比
−3)の一部1 7 0 ? ( Na20 ; 3.
5 wt%、AI203 : 5.8wt%、SiQ2
: 1 0.3wt%、H20 : 80.4wt
%)、ケイ酸ソーダ水溶液1 8 7? ( Si02
: 2 8.6wt%、Na2Q: 9.3wt%)
および苛性ソーダ水溶液92グ(Na20;6.6wt
%)を混合し、スラリーとなし、実施例1におけると同
じようにして結晶化させた。
−3)の一部1 7 0 ? ( Na20 ; 3.
5 wt%、AI203 : 5.8wt%、SiQ2
: 1 0.3wt%、H20 : 80.4wt
%)、ケイ酸ソーダ水溶液1 8 7? ( Si02
: 2 8.6wt%、Na2Q: 9.3wt%)
および苛性ソーダ水溶液92グ(Na20;6.6wt
%)を混合し、スラリーとなし、実施例1におけると同
じようにして結晶化させた。
ただし、該スラリーの酸化物モル比は実施例2と同じN
a20/Si02 −=0.4、Si02/AI20
3−12、H20/Na20=40であり、結晶化は9
5℃のオイルバス中で30時間後に終了した。
a20/Si02 −=0.4、Si02/AI20
3−12、H20/Na20=40であり、結晶化は9
5℃のオイルバス中で30時間後に終了した。
生成物をX線回折した結果、フイリプサイトが生成した
がY型ゼオライトは生成しなかった。
がY型ゼオライトは生成しなかった。
図−1は、実施例1で得た結晶のX線回折図である。
Claims (1)
- 1 シリカ源としてケイ酸アルカリ水溶液を用いるY型
ゼオライト製造法において、ケイ酸アルカリ水溶液とア
ルミン酸アルカリ水溶液を混合し、混合後の液中組成で
M20/Al203(Mはアルカリ金属を示す)(モル
比)が5以上となる量のアルカリの存在下で又、Si0
2/AI20s (モル比を2〜10としてゲルを析出
させる際、ゲル析出に先出って少なくとも30秒間混合
液を放置し、次いでこれに水を添加してゲルを析出させ
、析出したゲルを母液から分離する第一工程、ケイ酸ア
ルカリ水溶液又は、ケイ酸アルカリとアルカリの混合物
と第一工程で得たゲルとを混合し、結晶化させることか
らなるY型ゼオライト製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1221579A JPS597643B2 (ja) | 1979-02-07 | 1979-02-07 | Y型ゼオライトの製造法 |
| DE19803004060 DE3004060A1 (de) | 1979-02-07 | 1980-02-05 | Verfahren zum herstellen von y-zeolith |
| AU55266/80A AU538193B2 (en) | 1979-02-07 | 1980-02-06 | Y-type zeolite |
| GB8004153A GB2043043B (en) | 1979-02-07 | 1980-02-07 | Process for producing y-type zeolite |
| US06/301,749 US4376106A (en) | 1979-02-07 | 1981-09-14 | Process for producing Y-type zeolite |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1221579A JPS597643B2 (ja) | 1979-02-07 | 1979-02-07 | Y型ゼオライトの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55104914A JPS55104914A (en) | 1980-08-11 |
| JPS597643B2 true JPS597643B2 (ja) | 1984-02-20 |
Family
ID=11799150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1221579A Expired JPS597643B2 (ja) | 1979-02-07 | 1979-02-07 | Y型ゼオライトの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597643B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MY146413A (en) * | 2006-03-31 | 2012-08-15 | Nippon Oil Corp | Hydrocracking catalyst, and method for production of fuel base material |
-
1979
- 1979-02-07 JP JP1221579A patent/JPS597643B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55104914A (en) | 1980-08-11 |
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