JPS5974667A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

Info

Publication number
JPS5974667A
JPS5974667A JP57185441A JP18544182A JPS5974667A JP S5974667 A JPS5974667 A JP S5974667A JP 57185441 A JP57185441 A JP 57185441A JP 18544182 A JP18544182 A JP 18544182A JP S5974667 A JPS5974667 A JP S5974667A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
charge
gate
solid
integration
storage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57185441A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshige Goto
浩成 後藤
Nobuo Suzuki
信雄 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP57185441A priority Critical patent/JPS5974667A/ja
Publication of JPS5974667A publication Critical patent/JPS5974667A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14887Blooming suppression

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はCCDレジスタを持つ固体撮像装置に関する。
〔発明の技術的背景〕
固体撮像装置により元ノξタンを掃像する場合には、適
正なレベルの出力を得るため積分時間を制御する必要が
ある。
従来の固体撮像装置は、例えば第1図および第2図に示
すように構成されている。即ち、半導体基板l]に、該
遵板とは逆の導電型の不純物領域から成る?Jtaの感
光画素(そのうち3つ(Ia〜lc)が図示されている
)が互いに分離して配設されている。感光画素1a〜I
Cは受光量に応じた量の光電変換を行なうものである。
感光画素1a〜ICに隣接する部分にパリアゲート2が
設けられ、さらにパリアゲート2に隣接して、各画素に
対応する蓄積電極3a−3Cが設けられている。蓄i電
極38〜3Cは、その直下の基板部分に、感光画素1a
〜ICで発生した電荷を蓄積するもので、蓄積電極3a
〜3Cは共通結線されて電荷蓄積のため適当な直流電荷
を印加されている。ノ9リアゲート2は蓄積電極3a〜
3Cの直下の部分から感光画素13〜ICへの電荷の逆
流を防止するもので、このため適当な直流電圧が印加さ
れている。
蓄積電極3a〜3Cの側方(第1図で上方)には積分ク
リアゲート4a〜4Cが設けられ、さらにその側方の下
部には基板11と逆の導電型の不純物を高濃度に含む領
域から成るドレイン5a〜5Cが形成されている。積分
クリアゲート4a〜4Cは共通へ紛されて、積分開始に
先立ち、第3図に示すパルスIC’Gを印加され、蓄積
電極下部の電荷をドレイン5a〜5Cに移す。ドレイン
5a〜5Cは共通結線されて、電荷排出のため適当な直
流電圧を印加される。
積分クリアゲート4a〜4Cとドレイン5a〜5Cとは
、積分時間以外にg元iif+i素1a〜ICで発生し
、蓄積′fA;極3a〜3C下部に蓄積された電荷を排
出する電荷排出手段を構成する。
蓄積↑E極3a〜3Cに隣接して移送制御ゲート6が設
げらね、その直下には基板11と同一の導電型の不純物
領域14が形成されている。さらに、移送制御ゲート6
に隣接してCCDレジスタの転送電極7a〜7C98a
〜8C29a〜9C210a〜10Cが図示のように配
設され、その直下の一部には基板11と逆の導電型の不
純物領域から成るC ’CDチャンネル13が形成され
ている。CCDチャンネル13は上記のような不純物領
域で構成さhているので、発生する電位が非対称となる
。上記のうち転送ゲート7a\7c 、 8a 〜8c
 、 9a 〜9c 、 10a 〜10cとCCDチ
ャンネル13とにより、CCDレジスタが構成されてい
る。
移送制餌1ゲート6には積分終了時に、第3図に示す/
ξルスSHを印加され、蓄積電極3a−3Cの直下にあ
る信号電荷をCCDレジスタに移送する。
転送電極7a 〜7c 、 8a 〜8c 、 9a 
〜9c 、 10a 〜10cは第1図に示すように結
線されており、第3図に示ず2相クロツク・ξルスφ1
.φ2が印加され、矢印TRの方向に電荷を転送する。
CCDチャンネル13の外側jと、感光画素13〜IC
の列の外側とには基板11と同一の導電、型の不純物を
高濃度に含む領域から成るチャンネルストツ・ぐ12が
形成されている。
上記の各電極および基板11は、絶縁膜15により覆わ
れ、その上から感光画素の部分を残して遮光膜16によ
り覆われ、さらに表面保護膜17で罹われでいる。
各電極の下部の電位は第2図(b)に示されている。
移送ゲート6にノξルスSHが印加されているとき(高
レベルのとき)は、その下部の電位は5H−Hで示すレ
ベルにあり、ノξルスSHが印加されていないとき(低
レベルのとき)は、5H−Lで不すレベルとなる。また
、φ1が高レベルのときは、電極7a の下部の電位は
φ□−■で示す如くなり、φ1が低レベルのときは、φ
1−Lとなる□上記のように、積分開始時に、第3図の
ノξルスIC’Gが積分クリアゲート4a〜4Cに印加
され、蓄積電極3a〜36下部の電荷がドレイン5a〜
5Cを介して排出されろ。それ以後、受光量に応じて各
感光画素1a〜ICに発生する′電荷は蓄積電極:3a
〜:3C下部に蓄積される。積分終了後、φ1のハイレ
ベルの期間中に、移送ゲート6にノクルスSHが印加さ
れ、蓄積電極3a−3C下部の信号電荷がCCDレジス
タに移送される。この信号電荷はCCDレジスタ内を転
送されていき、内示しない出力部で出力型、圧に変換さ
れろ。
〔背景技術の問題点〕
しかるに、上記のような装置においては積分開始のタイ
ミング(第3図の)ξルスICGの発生時点)は、クロ
ック/8ルスφ1.φ2に無関係に選ぶことができるが
、積分終了のタイミング(第3図の)ξルスSHの発生
時点)は、クロック/8ルスφ、が高レベルにある期間
中になければならない。
このため、積分開始の時点を固定すれば、積分時間を連
続的に変化させることができないという問題があった。
この点は、例えば積分時間の調整によってゲインコント
ロールを行なう場合に不都合テ、lr、 ツタ。一方、
φ1 が高レベルの時に積分が終了するという束縛条件
の下に、積分開始時点を調整して、積分時間を連続的に
変化させようとすると、周辺回路が複雑になるという欠
点があった。
これらの点は、積分時間がクロック周期と同程度または
それより短いときに、特に大きな問題であった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、クロック/8ルスに無関係に積分終了
を行なうこと力tでき、従って積分時間の調整が容易な
固体撮像装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明の固体撮像装置は、感光画素で発生する電荷を蓄
積する第1の電荷蓄積部と、CCDレジスタとの間に第
2の電荷蓄積部を介在させ、積分時間中に感光画素で発
生され、第1の電荷蓄積部に流入する電荷を第2の電荷
蓄積部に移送する手段(ゲート電極)を設け、また積分
終了後に(クロックパルスとの関係で適切なタイミング
で)第2の電荷蓄積部の電荷をCCDレジスタに移送す
るものである。
〔発明の実施例〕
り下部4〜6図を参照して本発明の一実施例を説明する
。図面の簡略のため第4図には1つの画素に対応する部
分のみが示されている。第4図、第5図において、第1
図、第2図と同様の部分ないし部材には、同一の符号が
付されており、これらについての説明は省略する。
第1図、第2図と異なるのは、蓄積電極3aの代りに、
第1の蓄積電、極21aと第2の蓄積電極22aとが設
けられている点である。第1の蓄積電121aはバリア
ゲート2に隣接して配され、その直下の部分とともに第
1の蓄積部を形成している。
第2の蓄積電極22aは第1の蓄積電極21aと移送制
御ゲート6の間に介在しており、第2の蓄積電極2加と
その直下の部分とにより第2の蓄積部が形成されている
第1の蓄′4i4箱、極21aと第2の蓄積電極22a
の間には、これらの双方に隣接して、移送ゲート23が
配さJlている。
また、第1.第2の蓄積電極21a 、 22a +7
)l[Jl方(第3図で上方)には第1、第2の積分ク
リアゲ−) 24a 、 25aが設けられ、さらにそ
の側方の下部にはドレイン26a 、 27aが形成さ
れている。このドレイン26a 、 27aは、第1図
のドレイン5aと同様基板11と逆の導電型の不純物を
高濃度に含む領域から成るものである。
第1の蓄積電極21aはその直下の部分に1画素1a 
で発生した電荷を蓄積するもので、他の第1の蓄積ゲー
ト(図示しない)と共通結線されて電荷蓄積のため適当
な直流電圧を印加されている。
第2の蓄積電極22aはその直下の部分に、積分時間中
に画素1a で発生し第1の電荷蓄積ゲート21aの下
部に蓄積された電荷を蓄積するもので、他の第2の電荷
蓄積電Vj<図示しない)と共通接続されて電荷蓄積の
ため、第1の#積電極21aよりも高いレベルの適当な
直流電圧を印加されている。
第1の積分クリアゲ−)24aは他の第1の積分クリア
ゲート(図示しない)と共通結線され、第6図に示すよ
うに積分時間以外高レベルの電圧IC1を印加され、$
7を分時間以外に発生し蓄積電極21aの下部に蓄積さ
れる電荷を第1のドレイン26aに移す。第1のドレイ
ン26aは他の第1のドレイン(図示しない)ならびに
第2のドレイン27aおよび他の第2のドレイン(図示
しない)とともに共通結線されて、電荷排出d)ため適
当な直流電圧を印加されている。
第1の積分クリアゲート24aとドレイン26aトは、
積分時間以外に感光画素1a で発生し、蓄積電極21
a下部に蓄積された電荷を排出する第1の電荷排出手段
を形成する。
移送ゲート23は積分時間中に第1の蓄積電極21a下
部に蓄積される電荷を第2の蓄積ゲート22a下部に移
送するもので、そのため積分時間のみ高レベルの電圧I
C1を印加される。
移送制御ゲート6には、積分時間の終了後であって、φ
、が高レベルの期間中に、パルスSHを印加され、第2
の蓄積電極22a下部の信号電荷をCCDレジスタに移
送する。
第2の積分クリアゲート26aは他の第2の積分クリア
ゲート(図示しない)と共通結線され、積分開始前およ
びCCDレジスタへの電荷の移送の終了後高レベルとな
る電圧工C2を印加され、積分開始からCCDレジスタ
への移送までの期間以外の期間に蓄積電極22a下部に
蓄積される雷1荷を第2のドレイン27aを介して排出
する。
第2の積分クリアゲート25aとドレイン27aとは、
積分開始からCCDレジスタへの移送までの期間以外の
期間に第2の蓄積電極22a下部に蓄積される電荷を排
出する第2の電荷排出手段な形成する。
移送電極23に印加される電圧が高レベルのときは、そ
の下部の電位は第5図(b)に゛賀胃−I(の如くであ
り、低レベルのときは、IC1−Lで示す如くである。
積分開始(ta)までは、IC,は高レベル(第1の積
分クリアゲ−1−24alr″=開)、貰耳”hまイ氏
レベル(移送ゲー)23が閉)となっているので、感光
画素1aで光電変換により発生した信号電荷は、第1の
蓄積電極212下部を経由し、第1のドレイン26aを
経由して排出される。また工C2も高レベル(第2の積
分クリアゲート25aが開)なので、第2の蓄積電極2
加下部の電位の井戸にある′電荷は第2のドレイン27
aを経由して排出される。従って、積分開始時には、第
1.第2の蓄積電極21a。
22a下部は空の状態になっている。
積分時間中(ta〜tb)は、IC1が低レベル(第1
の積分クリアゲ−へ24aが閉)、扇が高レベル(移送
ゲート羽が開)、IC2が低レベル(第2の積分クリア
ゲ−) 25aが閉)となっているので、感光画素1a
 で光電変換により発生した@号電荷は第1の蓄積電極
21a下部を経由して第2の蓄積電極22a下部に蓄積
される。
積分終了(tb)後はIC1が高レベル(第1の積分ク
リアゲート24aが開)、IC,が低レベル(移送ゲー
)23が閉)となる一方、IC2は低レベル(第2の積
分クリアゲートが閉)のままであるので、感光画素1a
からの信号電荷は、第1の蓄積電極21a下部およびド
レイン26aを経由して排出されろ一方、第2の蓄積電
極212下部の電荷(積分時間中に発生した電荷)はそ
のまま保持される。
φ1が高レベルの期間中に、パルスSHが与えられると
(tc〜td)移送ゲート6が開き、第2の蓄積電極2
2a下部の電荷はCCDレジスタへ移送される。
CCDレジスタへの移送完了(td)後、IC2を高レ
ベルとして第2の積分クリアゲート25aを開き、第2
の蓄積電極22,1下部は完全に空になる。
以下上記の動作がくり返される。
尚上記の実施例では、第1の積分クリアゲート24aに
印加する電圧として、積分時間以外Ω全期間高レベルを
維持する電圧を用いたが、代りに、積分開始の直前に瞬
時的に高レベルとなるノξルスを用いてもよい。第2の
積分り゛リアゲー) 25aに印加する電圧についても
、同様に、積分開始の直前に瞬時的に高レベルとなるパ
ルスを用いてもよ(\。
さらに、移送ゲート囚に印加する爾;圧として。
積分時間中高レベルを続ける電圧の代りに、積分終了時
に瞬時的に高レベルとなる・ξルスを用いてもよい。こ
の場合には、第2の積分クリアゲート25aに印加する
電圧は、移送ゲー)23が開く直前に低レベルトナリ、
CCDレジスタへの電荷の移送後に高レベルとなるもの
を用いてもよく、また移送ゲート乙が開く直前に瞬時的
に高レベルになるノξルスを用いてもよい。
第7図は本発明の他の実施例を示したものである。この
実施例の装置は、第4図、第5図のものと概ね同様であ
るが、第2の積分クリアゲート25aおよび第2のドレ
イン27aが省略されている点で異なる。
この実施例では、第8図に示すように、第1の積分クリ
アゲ−) 24aに印加されルtEEIC1および移送
ゲート乙に印加される電圧阿は、第4図、第5図の実施
例の場合(第6図に示す)と同様であるが、移送ゲート
6に印加されるパルスSHが。
信号電荷の移送の時(tc\td)のほか、クロックの
1周期毎に(但し積分時間中は除く)発生する。
この結果、第2の蓄積電極22a下部の電荷(いわゆる
暗電流によるもの)は積分時間以外は周期的にCCDレ
ジスタに排出される。従って、積分開始時には、第2の
蓄積ゲート22a下部は完全にクリアされている。動作
の他の点は第4〜6図の実施例と同様である。
向上記の各実施例で、各電極の下部に、閾値電圧制御用
の不純物層を形成することとしてもよい。
また、CCDレジスタは2相のものについて説明したが
、単相、3相、4相等他の相のものであってもよい。さ
らに、埋込みチャンネル型のCCDレジスタを用いる場
合について説明したが1本発明は表面チャンネル型のC
CDレジスタを用いる場合にも適用し得る。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、積分時間中に感光画素で
発生された信号電荷を第1の電荷蓄積部を経由して第2
の電荷蓄積部に蓄積し、積分時間終了から、CCDレジ
スタへの信号電荷転送時までの期間は、第1の電荷蓄積
部と第2の電荷蓄積部の間の移送ゲートを閉じることと
したので、CCDレジスタのクロックと無関係に積分時
間の終了の時点を決定することができる。従って、積分
時間の調整が容易であり、ゲイン匍J御等において積分
時間を連続的に変化させる必要がある場合に特に好都合
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の固体撮像装置の一例を示す概略平面図、
第2図(alは第1図のn−■線断面図、第2図(b)
は第2図(alの各電極下の電位を示す図、第3図は第
1図、第2図の装置の各電極に印加される電圧を示す線
図、第4図は本発明の固体撮像装置の一実施例な示す概
略平面図、第5図(a)は第4図のV−V線断面図、第
5図(b)は第5図(a)の各電極下の電位を示す図、
第6図は第4図、第5図の装置の各電極に印加される電
圧を示す線図、第7図は本発明の他の実施例を示す概略
平面図、第8図は第7図の装置の各電極に印加される電
圧を示す線図である。 1a・・・感光画素、2・・・パリアゲート、6・・・
移送ゲート、7a・・・転送電極、11・・・半導体厚
板。 13・・・CCDチャンネル、21a・・・第1の蓄積
電極。 22a・・・第2の蓄積電極、羽・・・移送ゲート。 24a・・・第1の積分クリアゲ−)、25a・・・第
2の積分クリアゲート、26a・・・第1のドレイン。 27a・・・第2のドレイン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体基板上に互いに分離配設され、光・ぐタンの
    強度に応じた信号を発生する複数の感光画素と感光画素
    で発生した信号電荷の一部ないし電荷蓄積部の信号電荷
    を前記CCDレジスタに移送する電荷移送制御手段と、
    前記電荷蓄積部に蓄積された不要な電荷を排出する電荷
    排出手段とを備えた固体撮像装置において、前記電荷蓄
    積部が前記感光画素から流入する電荷を蓄積する第1の
    蓄積部と、第2の蓄積部と、前記第1の蓄積部の電荷を
    第2の蓄積部に移送する電荷移送手段とを備え、前記電
    荷排出手段が前記第1の蓄積部の電荷を排出し、前記電
    荷移送制御手段が前記第2の蓄積部の電荷を前記CCD
    レジスタに移送することを特徴とする固体撮像装置。 2、前記第1の蓄積部が、前記感光画素に隣接するパリ
    アゲートと、前記パリアゲートに隣接する第1の蓄積電
    極とを備え、前記電荷移送手段が前記第1の蓄積電極に
    隣接する電荷移送ゲートを備え、前記第2の蓄積部が前
    記電荷移送ゲートに隣接する第2の蓄積電極を備えるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の固体撮像装
    置。 3、前記電荷排出手段が前記第1の蓄積電極に隣接する
    積分クリアゲートと、該積分クリアゲートに隣接するド
    レインを備えることを特徴とする特¥+請求の範囲第1
    項記載の固体撮像装置。 4、前記電荷排出手段が前記第2の蓄積部の電荷をも排
    出することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の固
    体撮像装置。 5、前記電荷排出手段が前記第2の蓄積ゲートに隣接す
    る積分クリアゲートと、該積分クリアゲートに隣接する
    ドレインとを備えることを%徴とする特許請求の範囲第
    4項記載の固体撮像装置。 6、前記感光画素が、前記半導体基板と逆の導電型の不
    純物領域で構成されていることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の固体撮像装置。
JP57185441A 1982-10-22 1982-10-22 固体撮像装置 Pending JPS5974667A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57185441A JPS5974667A (ja) 1982-10-22 1982-10-22 固体撮像装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57185441A JPS5974667A (ja) 1982-10-22 1982-10-22 固体撮像装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5974667A true JPS5974667A (ja) 1984-04-27

Family

ID=16170840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57185441A Pending JPS5974667A (ja) 1982-10-22 1982-10-22 固体撮像装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5974667A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60254770A (ja) * 1984-05-31 1985-12-16 Fujitsu Ltd イメージセンサ
JPS61226953A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Fujitsu Ltd イメ−ジセンサ
JPH02306662A (ja) * 1989-05-22 1990-12-20 Nec Corp 固体撮像装置
EP0732748A2 (en) * 1995-03-15 1996-09-18 Sony Corporation Solid-state image sensing device and its driving method

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60254770A (ja) * 1984-05-31 1985-12-16 Fujitsu Ltd イメージセンサ
JPH0518265B2 (ja) * 1984-05-31 1993-03-11 Fujitsu Ltd
JPS61226953A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Fujitsu Ltd イメ−ジセンサ
JPH0521349B2 (ja) * 1985-03-30 1993-03-24 Fujitsu Ltd
JPH02306662A (ja) * 1989-05-22 1990-12-20 Nec Corp 固体撮像装置
EP0732748A2 (en) * 1995-03-15 1996-09-18 Sony Corporation Solid-state image sensing device and its driving method
EP0732748A3 (en) * 1995-03-15 1998-12-16 Sony Corporation Solid-state image sensing device and its driving method
EP1737040A1 (en) 1995-03-15 2006-12-27 Sony Corporation Solid-state image sensing device and its driving method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5619049A (en) CCD-type solid state image pickup with overflow drain structure
US4242599A (en) Charge transfer image sensor with antiblooming and exposure control
JPS5974667A (ja) 固体撮像装置
US7054041B2 (en) Image sensor method and apparatus having addressable pixels and non-destructive readout
JPS5933980A (ja) インタ−ライン転送ccdの駆動方法
JPH0730102A (ja) 電荷結合装置
JP2851631B2 (ja) 固体撮像装置の駆動方法
JP2002151673A (ja) 固体撮像素子
JP3235081B2 (ja) 電荷結合イメージセンサ
JPS6240910B2 (ja)
JPS58212167A (ja) インタ−ライントランスフア−電荷結合素子
JP2877047B2 (ja) 固体撮像装置
JP2001168316A (ja) 超高速撮影用撮像素子
JP2563826Y2 (ja) 固体撮像素子
JP2903008B2 (ja) 固体撮像素子の駆動方法
EP0055530B1 (en) Solid-state image sensor
JP2679659B2 (ja) 固体撮像装置
JPS5619276A (en) Solid state image pickup device
JPH07120771B2 (ja) 固体撮像装置
JPH02105463A (ja) 固体撮像装置
JPS63171073A (ja) 電子シヤツタ機能を備えたイメ−ジセンサ
JP2584085B2 (ja) 固体撮像素子の駆動方法
JPS6136968A (ja) 固体撮像装置
JPH0786552A (ja) 固体撮像素子
JPS59198084A (ja) 固体撮像装置の残像抑制方式