JPS5967633A - フオトマスクの検査方法及び装置 - Google Patents
フオトマスクの検査方法及び装置Info
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- JPS5967633A JPS5967633A JP57178776A JP17877682A JPS5967633A JP S5967633 A JPS5967633 A JP S5967633A JP 57178776 A JP57178776 A JP 57178776A JP 17877682 A JP17877682 A JP 17877682A JP S5967633 A JPS5967633 A JP S5967633A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- pixel
- image data
- pattern
- scanner
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプリント基板用のフォトマスクのパターンを検
査する方法及び装置に関する。
査する方法及び装置に関する。
従来、プリント基板は原版からフォトマスクを作成した
後現像定着処理することにより作成される。この場合フ
ォトマスクは現像液中のゴミあるいはパターン形成時の
基板との接触等によりパターン上に黒点、ピンホール、
突起、欠は等の欠陥が発生する。このよ５ブよ欠陥に対
して従来は実体顕微鏡等を使用した目視横歪により検出
し修正を行つ′ｔきた。しかしながら、昨今フォトマス
クパターンが益々微細化し高密度化されてくるに及び従
来の如き目視検査では最早十分に欠陥を検υ」しされず
、例えば元ビーム、電子ビーム等の走査による検査が必
要となってさた。この光ビーム、電子ビーム等の走査に
よる検査をより的確に行う方法が探求され（いろ。
後現像定着処理することにより作成される。この場合フ
ォトマスクは現像液中のゴミあるいはパターン形成時の
基板との接触等によりパターン上に黒点、ピンホール、
突起、欠は等の欠陥が発生する。このよ５ブよ欠陥に対
して従来は実体顕微鏡等を使用した目視横歪により検出
し修正を行つ′ｔきた。しかしながら、昨今フォトマス
クパターンが益々微細化し高密度化されてくるに及び従
来の如き目視検査では最早十分に欠陥を検υ」しされず
、例えば元ビーム、電子ビーム等の走査による検査が必
要となってさた。この光ビーム、電子ビーム等の走査に
よる検査をより的確に行う方法が探求され（いろ。
本発明の目的は、前述の背景に鑑み、元ビームによる走
査を特に局所領域処理の形態を用い、より的確に行うこ
とにある。
査を特に局所領域処理の形態を用い、より的確に行うこ
とにある。
この目的は、本発明によれば、）、１ ）マスクをスキ
ャナにより読み取って得た画像データに対してル画素の
長さを有する角度４５° 単位で方向を変化させた４本
の測定単位を用い、前記各測足単位毎に測定した前記画
像データが前記フォトマスクの導体部、非導体部に相当
する値に複数回変化した状態を検出することを特徴とす
るフォトマスクの検査方法を提供することにより達成さ
れ、さらに本発明によれば、フォトマスクなＸ−Ｙ方向
に移動させる自動送り手段と、光学的手段により投影さ
れた前記フォトマスクのパターンを走査し前記パターン
の明暗に対応した画像データを出力するスキャナと、前
記スキャナにより出力された前記画像データを２値化す
る２値化手段と、前記２値化手段により２値化された前
記画像データをビット・画素データとして記憶する記憶
手段と、前記記憶手段に記憶されたビット・画素データ
の中から、所定の数の画素により構成された画素列を測
定単位とし、前記測定単位を角度４５° ずつ変化させ
た方向において測定単位ごとに画素列の各画素を順欠に
取り出し、隣り合う画素の間でバター／の導体部および
非導体部に相当して変化する画素の状態が複数回変化す
ることな検出する検出手段と、前記検出手段により検出
された結果を表示する表示手段と、前記スキャナおよび
各手段の動作制御を行う制御部とを備えることを特徴と
するフォトマスクの検査装置を提供することにより達成
される。
ャナにより読み取って得た画像データに対してル画素の
長さを有する角度４５° 単位で方向を変化させた４本
の測定単位を用い、前記各測足単位毎に測定した前記画
像データが前記フォトマスクの導体部、非導体部に相当
する値に複数回変化した状態を検出することを特徴とす
るフォトマスクの検査方法を提供することにより達成さ
れ、さらに本発明によれば、フォトマスクなＸ−Ｙ方向
に移動させる自動送り手段と、光学的手段により投影さ
れた前記フォトマスクのパターンを走査し前記パターン
の明暗に対応した画像データを出力するスキャナと、前
記スキャナにより出力された前記画像データを２値化す
る２値化手段と、前記２値化手段により２値化された前
記画像データをビット・画素データとして記憶する記憶
手段と、前記記憶手段に記憶されたビット・画素データ
の中から、所定の数の画素により構成された画素列を測
定単位とし、前記測定単位を角度４５° ずつ変化させ
た方向において測定単位ごとに画素列の各画素を順欠に
取り出し、隣り合う画素の間でバター／の導体部および
非導体部に相当して変化する画素の状態が複数回変化す
ることな検出する検出手段と、前記検出手段により検出
された結果を表示する表示手段と、前記スキャナおよび
各手段の動作制御を行う制御部とを備えることを特徴と
するフォトマスクの検査装置を提供することにより達成
される。
以下、本発明の一実施例を図面に従って詳細に説明する
。
。
第１図は本発明によるフォトマスクの検査方法を実施す
るための装置を示すブロック線図である。第１図におい
工、１は被検査試料であるフォトマスクを示し、２はフ
ォトマスクなＸ−Ｙステージにて移動させる自動送り手
段を示し、３はフォトマスクのパターンを投影する光学
的手段であり、４は該光学的手段により投影されたフォ
トマスクパターンを該パターンの明暗に対応した画像デ
ータとして出力するスキャナであり例えばラインスキャ
ン型固体撮像素子が使用サレる。そして５は該スキャナ
により出力された画像データが固体撮像素子間のバラツ
キを含んでいろためこれを補正した後２値化する２値化
手段であり、６は該２値化手段により２値化された１ビ
ット／画素の画像データをビット画素データとし又記憶
する記憶手段であり、７は該ビット・画素データを順次
に読出しノ（ターンの欠陥検出な行い欠陥部分と判別さ
れた場合にはその位置座標を記録しフォトマスク１の全
体の検査終了後に出力する検出手段であつ又、アンドゲ
ート、被数個のオアゲートＪ６よび排他的オアゲートか
ら成る。また８は該検出手段により欠陥部分と判別され
た位置座標を表示する表示手段であり例えばＸ−Ｙプロ
ッタが使用される。９は上述した２〜８までの各手段の
動作化制御する制御部である。このよう１よ構成におい
てＸ−Ｙプロッタ９上に最終的に示された欠陥個所を示
した出力図と前述のフォトマスクを対比させることによ
りフォトマスクの欠陥部分を修正するようになっている
。
るための装置を示すブロック線図である。第１図におい
工、１は被検査試料であるフォトマスクを示し、２はフ
ォトマスクなＸ−Ｙステージにて移動させる自動送り手
段を示し、３はフォトマスクのパターンを投影する光学
的手段であり、４は該光学的手段により投影されたフォ
トマスクパターンを該パターンの明暗に対応した画像デ
ータとして出力するスキャナであり例えばラインスキャ
ン型固体撮像素子が使用サレる。そして５は該スキャナ
により出力された画像データが固体撮像素子間のバラツ
キを含んでいろためこれを補正した後２値化する２値化
手段であり、６は該２値化手段により２値化された１ビ
ット／画素の画像データをビット画素データとし又記憶
する記憶手段であり、７は該ビット・画素データを順次
に読出しノ（ターンの欠陥検出な行い欠陥部分と判別さ
れた場合にはその位置座標を記録しフォトマスク１の全
体の検査終了後に出力する検出手段であつ又、アンドゲ
ート、被数個のオアゲートＪ６よび排他的オアゲートか
ら成る。また８は該検出手段により欠陥部分と判別され
た位置座標を表示する表示手段であり例えばＸ−Ｙプロ
ッタが使用される。９は上述した２〜８までの各手段の
動作化制御する制御部である。このよう１よ構成におい
てＸ−Ｙプロッタ９上に最終的に示された欠陥個所を示
した出力図と前述のフォトマスクを対比させることによ
りフォトマスクの欠陥部分を修正するようになっている
。
第２図（ａ）、（ｂ）は本発明によるフォトマスクの検
査方法による欠陥の検出方法な説明する図である。第２
図におい℃各（升目は記憶手段に記憶され℃いるビット
・画素、データの各画素を示し、ａ、ｂ、ｃおよびｄは
例えば７画素の長さを有する画素列ケ角度４５° ずつ
変化させた４本の測定単位を示す。中央の３×３画素の
斜線部分はフォトマスクの導体に相当する部分でありこ
の場合の導体は検査基準以下の「黒点」不良を示シてい
る。測定単位の長さはラインスキャン型固体撮像素子４
の読取精度と検査基準である最小導体幅、最小導体間隔
により適正な値に設定することが必要である。例えば読
取精度が１０μｍ／画素において検査基準が１３０μｍ
の場合には測定単位として１５５画素適正である。
査方法による欠陥の検出方法な説明する図である。第２
図におい℃各（升目は記憶手段に記憶され℃いるビット
・画素、データの各画素を示し、ａ、ｂ、ｃおよびｄは
例えば７画素の長さを有する画素列ケ角度４５° ずつ
変化させた４本の測定単位を示す。中央の３×３画素の
斜線部分はフォトマスクの導体に相当する部分でありこ
の場合の導体は検査基準以下の「黒点」不良を示シてい
る。測定単位の長さはラインスキャン型固体撮像素子４
の読取精度と検査基準である最小導体幅、最小導体間隔
により適正な値に設定することが必要である。例えば読
取精度が１０μｍ／画素において検査基準が１３０μｍ
の場合には測定単位として１５５画素適正である。
１１−ｄの測定単位のビット・画素データはパターンの
最小導体幅、最小導体間隔が検査基準以下の場合に導体
部（１）、非導体部（０）の変化が２回以上の複数回と
なり、これに対して検査基準より大の場合には変化が０
又は１回となる。これを図面に従ってさらに詳しく説明
する。
最小導体幅、最小導体間隔が検査基準以下の場合に導体
部（１）、非導体部（０）の変化が２回以上の複数回と
なり、これに対して検査基準より大の場合には変化が０
又は１回となる。これを図面に従ってさらに詳しく説明
する。
第２図（ａ）において、
測定単位ａは座標（１−１，ｊ）において０から１へ、
座標（１＋２．ｊ）において１から０へ、２回変化して
いるため「】」を出力する。
座標（１＋２．ｊ）において１から０へ、２回変化して
いるため「】」を出力する。
測定単位すは座標（１，Ｊ−１）におい又００−・、２
回変化しているため「１」を出力する。
回変化しているため「１」を出力する。
測定単位Ｃは座標（１＋１．ｊ−１）においてＯかも１
へ、座標（ｆ−２，ｊ＋２）において１からＯへ、２回
変化しているため「１」を出力する。
へ、座標（ｆ−２，ｊ＋２）において１からＯへ、２回
変化しているため「１」を出力する。
測定単位ｄは座標（１−１，ｊ−１）におい又０かも１
へ、座標（ｉ、＋２． ｊ＋２）におい１１からＯへ
、２回変化し又いるため「ＩＪを出力する。
へ、座標（ｉ、＋２． ｊ＋２）におい１１からＯへ
、２回変化し又いるため「ＩＪを出力する。
このように第２図（ａｔに示す「黒点」は測定単位ａ−
，−ｄがすべ℃「１」を出力する。
，−ｄがすべ℃「１」を出力する。
次に第２図（ｂｌにより突起不良の場合について説明す
る。第２図（ａｔと同様♂・Ｆ線部分はフォトマスクの
導体に相当する部分である。この場合突起が１画素分生
じていることを示す。前述と同様に、 測定単位ａは座標（１，ｊ）で０かも１へ、座標（１＋
１．ｊ）で１かＶ−）ｏへ２回変化しているため「１」
を出方する。
る。第２図（ａｔと同様♂・Ｆ線部分はフォトマスクの
導体に相当する部分である。この場合突起が１画素分生
じていることを示す。前述と同様に、 測定単位ａは座標（１，ｊ）で０かも１へ、座標（１＋
１．ｊ）で１かＶ−）ｏへ２回変化しているため「１」
を出方する。
測定単位すは座標（１，ｊ）で０かも１へ１回変化する
のみであるから「０」を出力する。
のみであるから「０」を出力する。
測定単位ｃ、ｄともにｂと同様座標（１，ｊ）にだい１
０かも１へ１回変化するのみであるからｒＯＪを出力す
る。
０かも１へ１回変化するのみであるからｒＯＪを出力す
る。
第３図は本発明によるフォトマスクの検査装置における
検出手段７０回路図である。第３図は測定単位１本当り
の回路図であり、この場合測定単位の長さすなわち画素
数は５画素で図示し又あるが画素数は前述したような条
件により適正値が設定される。同図におい又、１０は５
画素からなる測定単位、１１は排他的オアゲート群、１
２はオアゲート群、そして１３はアンドゲートである。
検出手段７０回路図である。第３図は測定単位１本当り
の回路図であり、この場合測定単位の長さすなわち画素
数は５画素で図示し又あるが画素数は前述したような条
件により適正値が設定される。同図におい又、１０は５
画素からなる測定単位、１１は排他的オアゲート群、１
２はオアゲート群、そして１３はアンドゲートである。
このような構成におい℃排他的オアゲート１１はその２
つの入力の一方が「０」である場合すなわち測定単位１
０の隣り合う画素で導体部（１）、非導体部（０）の変
化があった時に「１」を出力する。従って５画素のいず
れかの画素の間で１回の変化があった場合には４個の排
他的オアゲートの内の１個は「１」を出力し、他の３個
は「０」を出力する。筐た５画素のいずれかの画素の間
で２回以上の変化があった場合には排他的オアゲートの
少なくとも２個以上は「１」を出力する。図に示すよう
に４個のオアゲート１２０入力はそれぞれ３入力端子を
有し、１個の排他的オアゲートの出力は３個のオアゲー
トの入力に接続されている。すなわち排他的オアゲート
の各個はその出力が３個のオアゲートの入力に接続され
ている。従ってオアゲート１２の出力は排他的オアゲー
ト１１の出力がすべて「０」の場合には「０」となり、
１個が「１」の場合には１個のみが「ＯＪとなる。しか
し排他的オアゲート１１のうち２個以上が「１」の場合
にはオアゲート１２の出力はすべ又「１」となる。従つ
又アンドゲート１３の出力は導体部（１）、非導体部（
０１の変化が２回以上の場合は「１」となり、０又は１
回の場合は０となる。
つの入力の一方が「０」である場合すなわち測定単位１
０の隣り合う画素で導体部（１）、非導体部（０）の変
化があった時に「１」を出力する。従って５画素のいず
れかの画素の間で１回の変化があった場合には４個の排
他的オアゲートの内の１個は「１」を出力し、他の３個
は「０」を出力する。筐た５画素のいずれかの画素の間
で２回以上の変化があった場合には排他的オアゲートの
少なくとも２個以上は「１」を出力する。図に示すよう
に４個のオアゲート１２０入力はそれぞれ３入力端子を
有し、１個の排他的オアゲートの出力は３個のオアゲー
トの入力に接続されている。すなわち排他的オアゲート
の各個はその出力が３個のオアゲートの入力に接続され
ている。従ってオアゲート１２の出力は排他的オアゲー
ト１１の出力がすべて「０」の場合には「０」となり、
１個が「１」の場合には１個のみが「ＯＪとなる。しか
し排他的オアゲート１１のうち２個以上が「１」の場合
にはオアゲート１２の出力はすべ又「１」となる。従つ
又アンドゲート１３の出力は導体部（１）、非導体部（
０１の変化が２回以上の場合は「１」となり、０又は１
回の場合は０となる。
第４図は本発明によるフォトマスクの検査方法及び装置
を使用し℃フォトマスクを検査した結果のフォトマスク
パターンと各測定単位の出力との関係を示す図である。
を使用し℃フォトマスクを検査した結果のフォトマスク
パターンと各測定単位の出力との関係を示す図である。
この場合、突起、欠けについ′Ｃはスキャノ°４の画像
データを２値化した場合に１画素分程度の凹凸として発
生することがある。これを欠陥としないようにするには
測定単位ａ ＝ ｄのうち欠陥が２つ以上になったもの
に限定することで改善できる。
データを２値化した場合に１画素分程度の凹凸として発
生することがある。これを欠陥としないようにするには
測定単位ａ ＝ ｄのうち欠陥が２つ以上になったもの
に限定することで改善できる。
以上詳細に説明したように、本発明によるフォトマスク
の検査方法および装置を使用することによってパターン
の欠陥検出をより的確に行い得る効果がある。
の検査方法および装置を使用することによってパターン
の欠陥検出をより的確に行い得る効果がある。
第１図は、本発明によるフォトマスクの検査装置を示す
ブロック線図、 第２ 図（ａ）、（ｂｌは、本発明によるフォトマスク
の検査方法における検出方法ケ説明する図、第３図は、
本発明によるフォトマスクの検査装置における検出手段
の検出回路、および第４図は、フォトマスクパターンと
各測定単位の出力との関係を示す図である。 （符号の説明） １・・・・・フォトマスク ２・・・・・自動送り手段 ３・・・・・光学的手段 ４・・・・・スキャナ ５・・・・・２値化手段 ６・・・・・記憶手段 ７・・・・・検出手段 ８・・・・・表示手段 ９・・・・・制御部 １０・・・・・測定単位 １１・・・・・排他的オアゲート群 １２・・・・・オアゲート群 １３・・・・・アンドゲート ａ ＝ ｄ・・・・・測定単位 青 ｌ 凶 介２図 （０） −＋２凹（ｂ） 介 ３ 口
ブロック線図、 第２ 図（ａ）、（ｂｌは、本発明によるフォトマスク
の検査方法における検出方法ケ説明する図、第３図は、
本発明によるフォトマスクの検査装置における検出手段
の検出回路、および第４図は、フォトマスクパターンと
各測定単位の出力との関係を示す図である。 （符号の説明） １・・・・・フォトマスク ２・・・・・自動送り手段 ３・・・・・光学的手段 ４・・・・・スキャナ ５・・・・・２値化手段 ６・・・・・記憶手段 ７・・・・・検出手段 ８・・・・・表示手段 ９・・・・・制御部 １０・・・・・測定単位 １１・・・・・排他的オアゲート群 １２・・・・・オアゲート群 １３・・・・・アンドゲート ａ ＝ ｄ・・・・・測定単位 青 ｌ 凶 介２図 （０） −＋２凹（ｂ） 介 ３ 口
Claims (2)
- （１） フォトマスクをスキャナにより読み取って得
た画像データに対してル画素の長さを有する角度４５°
単位で方向を変化させた４本の測定単位を用い、前記
各測定単位毎に測定した前記画像データが前記フォトマ
スクの導体部、非導体部に相当する値に複数回変化した
状態を検出することを／ｉ￥徴とするフォトマスクの検
査方法。 - （２） フォトマスク７ｘ−ｙ方向に移動させる自
３゜動送り手段と、光学的手段により投影された前記
フォトマスクのパターン形成時し前記パターンの明暗に
対応した画像データを出力するスキャナと、前記スキャ
ナにより出力された前記画像データを２値化する２値化
手段と、前記２値化手段により２値化された前記画像デ
ータをビット・画素データとじ又記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶されたビット・画素データの中から
、所定の数の画素により構成された画素列を測定単位と
し、前記測定単位を角度４５°丁つ変化させた方向にお
い又測定単位ごとに画素列の各画素な順仄に取り出し、
隣り合う画素の間でパターンの導体部および非導体部に
相当して変化する画素の状態が複数回変化することを検
出する検出手段と、前記検出手段により検出された結果
を表示する表示手段と、前記スキャナオ６よび各手段の
動作制御を行う制御部とを備えることを特徴とするフォ
トマスクの検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57178776A JPS5967633A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | フオトマスクの検査方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57178776A JPS5967633A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | フオトマスクの検査方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5967633A true JPS5967633A (ja) | 1984-04-17 |
Family
ID=16054423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57178776A Pending JPS5967633A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | フオトマスクの検査方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5967633A (ja) |
-
1982
- 1982-10-12 JP JP57178776A patent/JPS5967633A/ja active Pending
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