JPS5967254A - セルレイン中間体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 更に詳しくは。

式： ％式％（） で表わされるヘキサペプチドをＣ端アジ化した後。

式： ％式％（） で表わされるテトラペプチドと反応せしめて。

式： ％式％ （１） で表わされるデカペプチドとすることを特徴とするセル
レイン中間体の新規製造法に関する。

［但し．式中Ｐｙｒ　、　Ｇｌｎ　、Ａｓｐ　、Ｔｙｒ
　、Ｔｈｒ　、　Ｇｌｙ　、Ｔｒｐ　、ＭｅｔおよびＰ
ｈｅはそれぞれピログルタミン酸．グルタミン，アスパ
ラギン酸，チロシン．スレオニン。

グリシン．トリブトファン．メチオニンおよびフエ＝ｔ
Ｌｔアラニン残基を，　Ａｃはアセチルを表ワス。］老
ルレイン（Ｃａｅｒｕｌｅｉｎ）はアリースタシ（Ａｎ
ａｓｔａａｉ）らによりオーストラリア産カエルの一種
（Ｈｙｌａｃａｅｒｕｌｅａ　）の皮ふより抽出単離さ
れたデカペプチドで、下記の構造式によって表わされる
。

セルレイン セルレインは消化管ホルモンであるガストリンやパンク
レオザイミンなどと類似の作用を有することが知られて
おり、現在、胆道・膵機能診断薬あるいは進行麻痺性腸
閉塞症の治療薬として用いられている。更に近年、セル
レインがある種の精神疾患、特に分裂病、繰病、うつ病
、老年性痴呆などの治療に有効であることが判明し、向
精神薬としての開発研究が進行している。

セルレインの製造法としては、これまでに例えば、特公
昭を弘−２３０７９、特開昭５グー乙／／７θ、特開昭
ｊグー乙３０７２　、特開昭、５ｊ−１０θ３グざなど
に記載の方法が知られている。

セルレインの製造法において特に問題となる工程は、デ
カペプチドＣ末端より７番目のアミノ酸チロシンの硫酸
化であるが、上記の方法において該硫酸化反応は、無水
ジメチルホルムアミド中ピリジン／無水硫酸複合体によ
り行うか、あるいは水性溶媒体中特定ｐｌ（域内（ｐＨ
１３〜／、２．３）においてピリジン／無水硫酸複合体
によって行う。

本発明者は該硫酸化反応の改良法として１反応後処理の
簡便な反応法、即ちピリジン塩基の代りに、ビニルピリ
ジン・ジビニルベンゼン共重合体を用いての無水硫酸に
よる硫酸化法を発明した（特願昭５７−９０９２７）。

本発明方法により得られるデカペプチド（１）は、Ｃ末
端より７番目のアミノ酸チロシンを硫酸化し２次いで乙
番目のアミノ酸スレオニンより脱アセチルすることによ
り容易にセルレインに変換することのできる重要なセル
レイン製造中間体である。

本発明目的化合物（１）は、上記のように式（ＩＩ）で
表わされるヘキサペプチドと式（ｆｌＤで表わされるテ
トラペプチドとを公知の反応方法に従って縮合せしめる
ことにより製造することができる。例えば、ヘキサペプ
チド（ＩＩ）のＣ端ヒドラチドを亜３− 硝酸またはその誘導体と反応せしめて、対応するＣ端ア
ジ化物（■）： Ｈ−Ｐｙｒ−Ｇｉｎ−Ａｓｐ−Ｔｙｒ−Ｔｈｒ（Ａｃ）
−Ｇｌｙ−Ｎ３（Ｗ）とし、これにテトラペプチド（■
）を反応せしめればよい。ヘキサペプチドＣ旧をアジ化
物（ＩＶ）とするには、公知のアジ化反応の条件に従っ
て１例えば、ヘキサペプチド（■）をジメチルホルムア
ミド。

ジメチルスルホキシドなどの極性溶媒にとかし。

塩酸々性とした後、低温（約−７０°Ｃ〜１０°Ｃ）に
て亜硝酸ナトリウムなどの亜硝酸塩あるいは亜硝酸イソ
アミルなどの亜硝酸エステルを添加すればよい。生成し
たアジ化物（■）は反応液より単離することなく、その
ま＼テトラペプチド（■）と反応せしめろ。即ち、アジ
化物（■）を含む反応液に有機塩基１例えばトリエチル
アミン、トリーｎ　−ブチルアミンなどを加えて塩基性
とし、これにテトラペプチド（ＩＩＩ）のジメチルホル
ムアミドもしくはジメチルスルホキシド溶液を低温（約
−ｊθ°Ｃ〜−２ｏ’ｃ、好ましくは一３０°Ｃ〜−２
，５°Ｃ）で加えて、同温度で数日間放置する。目的の
生成物−グー ＣＩ）は通常の単離精製法に従って１例えば、溶媒留去
、再沈澱、溶媒洗浄、乾燥などの処理手段により純品と
して取得することができる。

なお９本発明方法における原料物質へキサペプチド（Ｉ
ｌ）は、Ｃ端グリシン誘導体（Ｖ）より６エ程を経て次
のように製造する。

即ち、　Ｈ−Ｇｕｙ−ＮＨＮＨ−Ｚ（Ｖ）で表わされる
グリシルヒドラチン誘導体にＢＯＣ−Ｔｈｒ（Ａｃ　）
ＯＨ（Ｖｌ）で表わされるスレオニン誘導体またはその
反応性誘導体を反応させて、　ＢＯＣ−Ｔｈｒ（Ａｃ　
）−Ｇｌ　ｙ−ＮＨＮＨ−Ｚ　（■）で表わされるジペ
プチドとし、これにＮ噛脱保護後。

ＢＯＣ−Ｔｙｒ（Ｂｚｌ　）ＯＨ（■）で表わされるチ
ロシン誘導体またはその反応性誘導体を反応させて、　
ＢＯＣ−Ｔｙｒ（Ｂｚ　ｌ　’）−Ｔｈ　ｒ　（Ａｃ　
）−Ｇｌ　ｙ−ＮｆｆＮＫ−Ｚ　（■）で表わされるト
リペプチドとし、これにＮ噛脱保護後、ＢＯＣ−Ａｓｐ
（ＯＢｚｌ　）ＯＨ（Ｘ　）で表わされろアスパラギン
酸誘導体またはその反応性誘導体を反応させて、　ＢＯ
Ｃ−Ａｓｐ（ＯＢ　ｚｌ　）−Ｔｙｒ　（Ｂｚ　１　）
−Ｔｂｒ　（ｈｃ）−Ｇｌ　ｙ−ＮＨＮＨ−Ｚ　（ＸＩ
　）で表わされるテトラペプチドとし、これにＮ噛脱保
護後。

Ｂ　ＱＣ−Ｇｌ　ｎ−ＯＨ（■）で表わされるグルタミ
ン誘導体またはその反応性誘導体を反応させて。

Ｂ　ＱＣ−Ｇｌ　ｎ−Ａｓ　ｐ（ＯＢ　ｚ　ｌ　）−Ｔ
ｙｒ　（Ｂｚ　１　）−Ｔｈ　ｒ　（Ａｃ　）−Ｇ　１
ｙ−ＮＨＮＨ−Ｚ　（ＸＢ　’）で表わされるペンタペ
プチドとし、これにＮ端脱保護後、Ｚ−Ｐｙｒ　−ＯＨ
（ＸＷ　）で表わされるピログルタミン酸誘導体または
その反応性誘導体を反応させて、　Ｚ−Ｐｙｒ−Ｇｌｎ
−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ　）−Ｔｙｒ　（Ｂｚｌ　）擢ｈｒ
（Ａｃ）−Ｇｌｙ−ＮＩ−（ＮＨ−Ｚ（Ｘ■）で表わさ
れるヘキサペプチドとし１次いでこれを脱保護すること
により（■）とすることがテキる［但し１式中ＢＯＣは
ｔ−ブトキシカルホニＪＬ／　、　Ｚはベンジルオキシ
カルボニル、　Ｂｚｌはベンジルをそれぞれ表わす。］ また、ヘキサペプチド（■）は別法として、Ｈ−Ｐｙｒ
ＪＧｌｎ−Ａｓｐ−Ｔｙｒ→ＪＨＮＨ，（ＸＶＩ　）で
表オつされるテトラペプチドとＨ−Ｔｈｒ　（Ａｃ　）
−Ｇ　ｌ　ｙ−ＮＨＮＨ−Ｚ　ＯＭｌ’）で表わされる
ジペプチドとを上述のごとき公知の方法で縮合させて０
次いでヒドラチドの保護基を脱離させることによっても
製造することができる。

他方の原料物質テトラペプチド（ＩＩＩ）は英国化学会
誌Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ　、、　（Ｃ）、　５３３
　（／　９乙乙）に記載された公知物質であり、酸付加
塩１例えばトリフルオロ酢酸塩として使用することもで
きる。

以下に示す参考例および実施例により本発明方法実施の
態様をより詳細に説明する。但し、参考例・実施例中の
構造式の略号は、前記式ＣＩ）〜（ＸｖＩＩ）に使用し
た略号と同一意味を有する。

参考例／ ／）　ＢＯＣ−Ｇｌｙ−ＮＨＮＨ−Ｚ：ｔ−ブチルオキ
シカルボニルグリシン２３；９（θ／グ３モル）をテト
ラヒドロフラン３θθｍｌにとかし、これに水冷下Ｎ−
ヒドロキシコハク酸イミド／６．り乙ｆ！（７０モル当
量）およびジシクロへキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）
、２　′？、３　ｆ　（１０モル当量）を加えて一夜放
置する。析出するジシクロヘキシル尿素を瀘去し、Ｆ液
を減圧濃縮して。

残渣を酢酸エチル／石油エーテルより結晶化すれば、ｔ
−ブチルオキシカルボニルグリシン・Ｎ−コハク酸イミ
ドエステル３３θ？　Ｉ　（ｇ３．０％収率）を得る。

を、／乙θ〜／乙ユ°ｃ。

このＮ−コハク酸イミドエステルｊθ９　（０／ざグモ
ル）をジメチルホルムアミドユθθｍｌ　ト塩化メ７一 チレンスθθπｌの混液にとかし、これに水冷攪拌下、
ベンジルオキシカルボニルヒドラジン３０５と１（θ／
Ｉ’１モル）と塩化メチレンｊθ７１Ｉｌからなる溶液
を加え、水冷下に一夜放置する。反応液を減圧濃縮し、
残渣を酢酸エチルにとかして、冷稀塩酸、水、冷稀炭酸
水素ナトＩＪウム水、および水で順次洗浄して減圧濃縮
し、残渣をエーテル・石油エーテルより再結晶すれば、
Ｎ−（Ｌ−ブチルオキシカルボニルグリシル）−Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニルヒドラジン 収率）を柱状晶として得る。望．Ｉ！；−１７°Ｃ０元
素分析：Ｃ７５Ｈ．２７Ｎ３０，として計算値（％）：
Ｃ．３よ７．２；Ｈ．乙！；３；Ｎ．／３θ０実測値Ｃ
％）：Ｃ．ＳＳ．乙／；Ｈ，！；Ｊθ；Ｎ．／３．３θ
。

２）ＢＯＣ−Ｔｈｒ（Ａｃ）−Ｇｌｙ−ＮＨＮＨ−Ｚ（
■）：上記生成物３４９３ｇ（６７７６モル）を酢酸３
０θｍｌにとかし，これに水冷下／７乙Ｎー乾燥塩酸／
酢酸３００ｍｌ（３モル当量）を加え．室温で／時間放
置後減圧濃縮する。残渣にトルエン３θθｍｌを加え．
共沸により酢酸を充分に留去す一Ｊ’　− る。残渣にエーテルｊθθＩ！Ｉｌを加え，懸濁攪拌し
て結晶化すれば，Ｎ−グリシル−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニルヒドラジン塩酸塩１１ｔ３３ｇ（９　ｌＡ７　
、ｆｆ％収率）を結晶として得る。”Ｐ．／７７〜／に
０°Ｃ０ 元素分析：　Ｃ，ｏＨ，３Ｎ３０３．ＨＣＪとして計算
値（％）：Ｃ．グ乙ユ．５ｉＨＪニゲ３：Ｎ．／乙７Ｉ
；ＣＬ／３．乙Ｓ 実測値ｃ％）：Ｃ，グ乙／．２；Ｈ．３．３グｉＮ．／
Ｊ：９Ｊ’；Ｃｔｌ．／３乙／。

この結晶３　Ｊ：♂弘ｆ（θ／３ざモル）をジメチルホ
ルムアミド３　！；　Ｉ　肩１にとかし．これにトリー
ｎ　−　ブチルアミン３２９肩１（０１モル当量）およ
びも−ブチルオキシカルボニル−〇ーアセチルスレオニ
ンｅＮーコハク酸イミドエステルｌｌＥｘｐｅ　ｒ　ｉ
　ｅ　ｎ−１、ｉａ　、　Ｑ３　、　７θθ（／９乙７
）］！？！．５−１θ／３ｇモル）を水冷下に加え，混
合物を同温度で２３時間放置した後．減圧濃縮する。残
渣を酢酸エチルにとかし，冷稀塩酸．水．冷稀炭酸ナト
リウム水。

および水で順次洗浄して減圧濃縮し．石油エーテル３θ
Ｏｍｌを加え結晶化すれば、Ｎ−（ｔ−ブチルオキシカ
ルボニル−Ｏ−アセチル−Ｌ−スレオニル−グリシル）
−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルヒドラジン（■）乙０
．２３ｆ／（９３，！；イ％収率）を結晶として得る。

ｍｐ、ｓａ〜乙！”Ｃ０、！コ 霞］　　−１−／７θ±０４０（Ｃ／θ／、メタノ−Ｊ
し）。

元素分析’　Ｃ，２１Ｈ３ＯＮｌｔＯｇとして計算値（
％）：Ｃ１汐ゲ０７；Ｈ，１，、、ゲ、ｒｉＮ、／、２
θ／実測値（％）：Ｃ，５先灯；■、６１０：Ｎ、／／
３ユ。

３）ＢＯＣ−Ｔｙｌ（Ｂｚｌ）−Ｔｈｒ（Ａｃ’）−Ｇ
ｌｙ−Ｎ■−ＴＮＨ−Ｚ（■）：上記生成物（■）３２
弘２Ａｌ（００６９３モル）を上記工程と同様条件で脱
保護して、Ｎ−（０−アセチル−Ｌ−スレオニル−グリ
シル）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルヒドラシン塩酸
塩、：ｚ６．ｑｑｆｌ（９６３９％収率）をイ尋る。ｍ
Ｐ、乙ｔ〜／θθ°Ｃｏ　［（１］Ｄ＋６０十０３°（
ａｉｏｏｌ、メタノール）。

元素分析”　＃”■、２．２”％ＯＡ・ＨＣ’　７Ｉと
して胴算値ｃ％）：Ｃ，グア７／；Ｈ，、、ｔ７乙：Ｎ
、／３．９／；Ｃ１，にｇθ 実測値Ｃ％）：Ｃ，グアざ／；Ｈ１乙、２ざ；Ｎ、／３
．θ９；Ｃ７！、と９９゜ この化合物ユ乙、７グｇ（θ０乙乙グモル）をジメチル
ホルムアミド、２７θｍｌにとかし、これに氷冷攪拌下
トリーｎ−ブチルアミン／１．３９（１０モル当量）お
よびも−ブチルオキシカルボニル−０−ベンジル−し−
チロシン・Ｎ−コハク酸イミドエステル３／、１ｇ（Ｚ
０モル当量）を加え、−夜放置する。反応混合物を減圧
濃縮し、残渣を酢酸エチルにとかし、冷稀塩酸、水、冷
稀炭酸す１−リウム水、および水で順次洗浄して減圧濃
縮する。

残渣にエーテル３３０ｍ１を加えて結晶化すれば。

Ｎ−（Ｌ−ブチルオキシカルボニル−〇−ベンジルーし
一チロシルーＯ−アセチルーＬ−スレオニル−グリシル
）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルヒドラジン（Ｕ）３
／、！ｒ９（６４５％収率）を結晶、！！ として得る。ＭＰ、Ｉ乙７〜／乙９°Ｃ０［／７］Ｄ＋
／３乙±θ３°（Ｃ／θ／９．メタノール）。

元素分析’　Ｃ３７”１．ｔＮｊｔＯｌｏとして計算値
Ｃ％）：Ｃ１乙／７グ；Ｈ、ｔ３ｏ　ｉＮ、　９７３実
測値（％）：Ｃ１乙θ９９；Ｈ，乙工馳Ｎ、９５グ。

−／／− ’Ｉ）ＢＯＣ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−Ｔｙｒ（Ｂｚｌ　
）−Ｔｈｒ（Ａｃ）−Ｇｌｙ→■−ＮＨ−Ｚ（ｙＪ）： 上記生成物（ＩＸ）　２１θ３１１　（２９，２ミリモ
ル）を上記工程と同様条件で脱保護して、Ｎ−（Ｏ−ベ
ンジル−Ｌ−チロシル−Ｏ−アセチル−Ｌ−スレオニル
−グリシル）　−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルヒドラ
ジン塩酸塩／ｇ、７’ｌ−ｇ（９７Ａ％収率）を得る。

’Ｐ、　／、２０〜７２＆”Ｃ０［ａ］Ｄ＋、２／３±
０乙０（ｃ／θ、メタノール）。

元素分析’　Ｃ３，２”３７Ｎ！；’ｌ・ＨＣｌ−％Ｈ
，Ｏとして計算値（％）：Ｃ，３７７ざ；Ｈ，ｌ／ｉＮ
、／θ３ｔ；Ｃ＃、３．３３；Ｈ，Ｏ，ｉ３３ 実測値（％）：ｃ、５７乙３：Ｈ，！；Ｊ乙、Ｎ、１０
タグ；Ｃｌ　、３．／３　、ｕ２ｏ　、θ乙ワ。

この化合物／ざ３１ｆｌ（，２ｇ３ミリモル）をジメチ
ルホルムアミド／、ｆ乙ｍｌにとかし、水冷攪拌下これ
にトリーｎ−ブチルアミン６７　ｍｌ　（，２Ｋ　３ミ
リモル）およびも−ブチルオキシカルボニル−β−ベン
ジル−Ｌ−アルパラギン酸・Ｎ　−］　ハ／／酸イミド
エステル／／９９（，２ｇ３ミリモル）を−７，２− 加え、−夜放置する。反応混合物を減圧濃縮し。

残渣を酢酸エチル／エーテル混液にて固化する。

固型物を戸数し、冷稀塩酸、水、冷稀炭酸水素す１ヘリ
ウム水、水で順次洗浄、酢酸エチル中に懸濁戸数すれば
、Ｎ−（ｔ−ブチルオキシカルボニル−β−ベンジル−
Ｌ−アスパルチル−〇−ベメシルーＬ−チロシルー０−
アセチル−Ｌ−スレオニル−グリシル）−Ｎ−ベンジル
オキシカルボニルヒドラジン（Ｍ）２１Ａ／９１（９２
，０％収率）を得る。”Ｐ、／！；７〜／乙５　′Ｃｏ
［／７］　Ｄ十ｌ乙±ｏｉｉ−０（ａｉθθ／、メタノ
ール）。

元素分析：ＣイＨ５，！、Ｎ６０７３として計算値（％
）二〇、乙２．３３：Ｈ，６，７０−，Ｎ、９．０９実
測値ｃ％）：Ｃ２乙／ｓ９：Ｈ，ぶ？７ｉＮ、５！／乙
。

３）ＢＯＣ−Ｇｌｎ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−Ｔｙｒ（Ｂ
ｚｌ）−Ｔｈｒ（Ａｃ）−Ｇｌｙ−ＮＨＮＨ−Ｚ　（Ｘ
ｌｒ　）　： 上記生成物（Ｍ’）２１ＡＯｆｆ１代は９．２ミリモル
）を上記工程と同様の条件で脱保護して、Ｎ−（β−ベ
ンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｏ−ベンジル−Ｌ−チロシ
ル−Ｏ−アセチル−Ｌ−スレオニル−グリシル）−Ｎ’
−ベンジルオキシカルボニルヒドラシン塩酸塩、２．２
．３ｇ（７００％収率）を街る。

＋２２ 霞］Ｄ＋７９．０±０４０（ｃｉ００７．メタノール）
。

元素分析’　Ｃ１１３Ｈｌ−１”ｌＯ／／”Ｃβ、ｎ２
ｏとして計算値（％）：Ｃ１汐と７３；Ｈ，３，ざ５ｉ
Ｎ、ワｊ乙；Ｃ１，ダ０３：Ｈ，２０，，２０ｊ 実測値Ｃ％）：ｃ、ｓｇ乙夕；Ｈ，５７７；Ｎ、９７ｇ
−。

Ｃ７１，３，９９：ｎ２ｏ、７９０゜ この化合物２．２．７３ｆ；Ｉ（２３，７ミリモル）を
シノチルホルムア’ｉＶ２．２０ｍ１にとかし、これに
トリーｎ−ブチＪレアεン乙／ｍ１（１０モル当”３１
　）およびｔ−ブチルオキシカルボニル−し−グルタミ
ン・Ｎ−コハク酸イミドエステルイざ２ｇ（，２３，７
Ｅ　’Ｊモル）を水冷下に加え、−夜装置する。反応混
合物を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え攪拌、析出
する固型物を沖取し、冷稀塩酸、水、冷稀炭酸水素す１
ヘリウム水、水で洗浄、再度酢酸エチル中に懸濁戸数す
れば、Ｎ−（＋−ブチルオキシ力ルホニルーＬ−グルタ
ミニルーβ−ペンシル−Ｌ−アスパルチル−Ｏ−ベンジ
ル−Ｌ−チロシル−Ｏ−アセチル−Ｌ−スレオニル−グ
リシル）−Ｎ　−ベンジルオキシカルボニルヒドラジン
（Ｘｆｆｌ）：２３１３ｇ（、！＃０％収率）を得る。

’Ｐ、２／９〜２２０°Ｃ０［（１］Ｄ−２，、／−Ｌ
ｏｌｌｏ（ａｉ００７．ジメチルホルムアミド）。

元素分析’　Ｃ，ｆ３Ｈｔ□Ｎ、０７．・３Ａ町Ｏとし
て計算値（％）：Ｃ，３９９３，Ｈ，乙／７；Ｎ、１０
．！；３゜Ｈ，Ｏ’、Ｏ２０ 実測値（％）：ｃ、ｓｑ、ざ７；Ｈ１乙１０：Ｎ、１０
．！？７：Ｈ２０，０７汐。

乙）Ｚ−Ｐｙｒ−Ｇｌｎ−Ａｓｐ（ＯＢｚｌ）−Ｔｙｒ
（Ｂｚｌ’）−Ｔｈｒ（Ａｃ）−Ｇｌｙ−ＮＴ財Ｔ（−
Ｚ（ＸＶ）： 上記生成物（ＸＩＩｌ）２３乙９ｇ（，２２，１ｌ−９
ミリモル）を］−記工程と同様の条件で脱保護して、　
Ｎ　−（Ｌ−グルタミニルーβ−ベンジル−Ｌ−アスパ
ルチル−０−ベンジル−Ｌ−チロシル−０−アセチル−
Ｌ−スレオニル−グリシル）−Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルヒドラジン塩酸塩２．２１１−／　Ｉ　（７００
％収率）を得る。降］Ｄ＋’Ａ’ｌ−１−０グ０（Ｃ１
０／θ、ジメチルホルムアミド）。

−／ｊ− 元素分析：ＣイＨ，Ｎ、Ｏ，、、ＨＣ１，Ｈ，！Ｏとし
て計算値（％）：Ｃ，、！；７２２：Ｈ，３，９０：Ｎ
、／ｌ／２：Ｃβ、３．乙、２−、ｎ２ｏ、／７９ 実測値（％）：ＣＪ乙１．！；；Ｈ，孜９ｇ：Ｎ、／１
００　；ＣＡ　、　３．グざ、ｎ２ｏ、ｌ／９゜この化
合物２２．２．９ｆｌ（，２，２，弘９ミリモル）をジ
メチルホルムアミド、２．２０　ｍｌにとかし、これに
１−リーｎ−ブチルアミン３．　’Ａｍｌ　（２，２，
’ｌ　９　ｊリモル）およびベンジルオキシカルボニル
−ピログルタミン酸・Ｎ−コハク酸イミドエステルｆ、
／ｙ（，２，２，ｇ　９２９モル）を加え、水冷下に一
夜放置する。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチ
ル／７０ｍ１を加え、生成する固型物を戸数し、冷稀塩
酸、水、冷稀炭酸水素ナトリウム水、水で順次洗浄後、
再度酢酸エチル中に懸濁戸数すれば、Ｎ−（ベンジルオ
キシカルボニル−Ｌ−ピログルタミル−Ｌ−グルタミニ
ルーβ−ベンジル−Ｌ−７スパルチルー０−ベンジル−
し−チロシル−Ｏ−アセチル−Ｌ−スレオニル−グリシ
ル）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルヒドラジン（ＸＶ
）２　ｌＡ３７−／乙− １（９ｌ３％収率）を得る。で］。−７θ十０５゜（ｃ
ｉｏｏｇ−ジメチルホルムアミド）。

元素分析”　７／”Ｊ７’Ｐ０／７°％Ｈ−ρとして計
算イ直Ｃ％）；Ｃ０乙０乙ヲ；Ｈ１３乙Ｉ：Ｎ、／θｔ
グ；Ｈ２０，θ７グ 実測値（％）：Ｃ、、ｔ’ｚ９７　；ＨＪどグｉＮ、／
ｉθ０；Ｈ，Ｏ，θ７乙。

７）Ｈ−Ｐｙｒ−Ｇｌｎ−Ａｓ１ｙｒ−Ｔｈｒ（Ａｃ）
℃１ｙ−ＮＨＮＨ，・ＨＣ１（■）の塩酸塩： 上記生成物（ＸＶ）２’Ａθ９（，２０’ｉリモル）を
ジメチルホルムアミド ／７乙Ｎー乾燥塩酸／酢酸２２．７ｍＮ２モル当量）お
よびパラジウム黒３　３．　、２　ｍｌを加え，水素気
流中乙時間攪拌する。パラジウム触媒を戸数し，ジメチ
ルホルムアミドで洗浄．Ｐ洗液を集めて減圧留去する。

残渣をメタノール−エーテルより固化すれば．Ｌ−ポリ
グルタミル−し−グルタミニルート−アスパルチル−Ｌ
−チロシル−Ｏ−アセチル−Ｌ−スレオニルーグリシル
ヒドラチド塩酸塩＋２．２．夕 ／乙９！（１０ｇ％収率）を得る。［α］Ｄ−７，２±
０３０（Ｃ１Ｏ／乙、ジメチルホルムアミド元素分析二
０３７Ｈヶ３Ｎ，０，３．Ｈ（Ｊ−Ｈ，Ｏとして計算値
ｃ％）：Ｃ．弘乙３θ；Ｈ．よ７７；Ｎ．／３乙ざ；Ｃ
β．久ｓ３：Ｈ．２０．．２．．２グ実測値（％”ｌ　
：Ｃ．’／ー３．３１ー．Ｈ．乙３θ；Ｎ．／４５θ；
Ｃβ．弘５／；Ｈ．２０，ユ，２乙。

実施例 Ｈ−Ｐｙ　ｒ−Ｇ　Ｉｎ−Ａｓｐ−Ｔｙｒ−Ｔｈｒ　（
Ａｃ　）−Ｇｌ　ｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅ　ｔ−Ａｓ　ｐ−Ｐ
ｈ　ｅ　−Ｍち（Ｉ）： 上記化合物［（旧の塩酸塩］／３．乙９（／１．、３７
ミリモル×７２）をジメチルホルムアミド３７．２耐に
とかし，これを−３３′Ｃ（浴温）に冷却して４Ｌ９モ
ル／ｌ乾燥塩酸／ジオキサン液／．１．２２ｍｌ（／２
×３モル当量）および亜硝酸イソアミル３、／９ｍｌ（
１２×１２モル当量）を加え，、２θ分間攪拌する。反
応混合物を更に約−Ｉｌ−／°Ｃマで冷却し．トリーｎ
−ブチル７ｊン．２．２．Ｉ９ｍＨｉ．２×ｊ＋１モル
当量）を滴下し．次いで同温度でＬトリプトフィル−Ｌ
−メチオニル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニ
ンアミド・トリフルオロ酢酸塩／７９３１　（７９．３
７ミリモル）のジメチルホルムアミド７２ｍｌ溶液を加
え．−３θ°Ｃないしー．２３’Ｃの温度で３日間放置
する。この間反応液をｐＨ乙〜７に保つためにトリーｎ
−ブチルアミンを適時滴下する（合計／ｌ’１３ｙｎｌ
を添加）。

反応混合物を酢酸３６ｍｌで中和し．減圧濃縮する。

残渣を０３Ｎ−酢酸ヴｇＯｒｌ中に懸濁し．析出する固
型物を戸数．水．メタノール、エーテルで順次洗浄後．
減圧下に五酸化リン上室温２０時間乾燥すると．目的の
Ｌ−ピログルタミル−Ｌ−グルタミニルーし一アスパル
チルーＬーチロシルー〇−アセチル−Ｌ−スレオニル−
グリシル−Ｌ−トリプトフィル−Ｌ−メチオニル−Ｌ−
アスパルチル−Ｌ−フェニルアラニンアミド（ｎ／７．
０３ｆｌ（７ｆ％収率）を得る。［α］Ｄー２０’ｌー
±／ユ０（Ｃ０ｊθｇ．ジメチルホルムアミド）。

元素分析”　ｔＯＨ７ｊＮ／３０／９”■．２”として
計算値（％）　：Ｃ　、、！；３．３７　、Ｈ，Ｊ：♂
θ；Ｎ．／３．弘ｇ；Ｓ　、２．３７　；Ｈ．２０　、
２３７実測値（％）：Ｃ．５．２乙ど；Ｈ．孜９３：Ｎ
．／３．．２７：−／９− Ｓ．２．ｌｌ−ユ；Ｈユ０．３．３１１−。

参考例２ ／）　　Ｈ−Ｐｙｒ−Ｇｉｎ−Ａｓｐ−Ｔｙｒ−Ｔｈｒ
（Ａｃ）、−Ｇｌｙ−ＮＩ（ＮＨ−Ｚ：Ｌ−ポリグルタ
ミル−Ｌ−グルタミニルーＬーアスパルチＪレーＬ−チ
ロシルヒドラチド２，乙９ｙをジメチルスルホキシド７
Ｍｔおよびジメチルホルムアミド２７πｌの混液にとか
し．これに４４ｇｇモル塩酸／酢酸溶液３．ｇ／ｙｎｌ
および亜硝酸イソアミル０３　３　ｍｌを加え，−２３
°Ｃないし一３０°Ｃの温度で２θ分間反応せしめる。

次いでこの反応液にＮ−（Ｌ−スレオニル−グリシル）
−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルヒドラジン／θｇのシ
メ−Ｆ−　Ｊｌ／ホルムアミド乙ｙｔｌ溶液およびトリ
ーｎ−ブチルアミン０３ｍｌを加え．≠°Ｃで／６時間
反応せしめる。

以下参考例／同様に後処理すれば，Ｎ−（Ｌ−ポリグル
タミル−Ｌ−グルタミニルート−アスパルチル−Ｌ−チ
ロシル−〇ーアセチルーＬースレオニルーグリシル）−
Ｎ−ベンジルオキシカルボニルヒドラジン０９１ｇ（’
１２．２％収率）を得る。

ＥＰ．２０７　〜２０ｇ°Ｃ（分解）。［ｆｚ］Ｄ３．
０−スθ− ±０３０　（ｃｉＯ，ジメチルホルムアミド）。

元素分析：　Ｃ，Ｈ，Ｎ，Ｏ，、・須（４０として計算
値（％）：Ｃ．ム評乙；Ｈ．５乙グ；Ｎ，／’Ａ／２：
Ｈ．２０，／：θ／ 実験値（％）：Ｃ．３／グ乙，Ｈ，３；乙乙；Ｎ．／４
４５弘；Ｈ，！Ｏ．ｉ／．２。

、２）　　Ｈ−Ｐｙｒ−Ｇｌｎ−Ａｓｐ−Ｔｙｒ−Ｔｈ
ｒ（Ａｅ）−Ｇｌｙ−ＮＨＮＨ，・Ｈ（Ｊ（Ｉｆ）の塩
酸塩： 上記生成物０　７　、ｒ　／　ｆ／をジメチルホルムア
ミド／よ乙ｍｌにとかし．これに／７乙Ｎー乾燥塩酸／
酢酸／ｍｌおよびパラジウム黒／ｐｎｌを加え．水素気
流中攪拌し．参考例／同様に後処理すれば．標記へキサ
ペプチド・ヒドラチド塩酸塩［（■）の塩酸塩］θ乙乙
乙９（９ぶ９７％収率）を得る。

特許出願人　　塩野義製薬株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ／　式： ％式％（ で表わされるヘキサペプチドをＣ端アジ化した後。 式： ％式％（２（） で表オつされるテトラペプチドと反応せしめて。 式： ％式％ （） で表オリされるデカペプチドとすることを特徴とするセ
   ルレイン中間体の製造法。 ［但し１式中Ｐｙｒ　、Ｇｌｎ　、Ａ！Ｉｐ、Ｔｙｒ　
   、　Ｔｈｒ　、Ｇｌｙ　、Ｔｒｐ　、ＭＡＬおよびＰｈ
   ｅはそれぞれピログルタミノ酸、グルタミン、アスパラ
   ギン酸、チロシン、スレオニン。 グリシン、　ｌ−リプトファン、メチオニンおよびフェ
   ニルアラニン残基を、　Ａｃはアセチルを表わす。］