JPS5966352A - 触媒の賦活方法 - Google Patents
触媒の賦活方法Info
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- JPS5966352A JPS5966352A JP17395282A JP17395282A JPS5966352A JP S5966352 A JPS5966352 A JP S5966352A JP 17395282 A JP17395282 A JP 17395282A JP 17395282 A JP17395282 A JP 17395282A JP S5966352 A JPS5966352 A JP S5966352A
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- catalyst
- liquid
- gas
- washing
- water
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガス処理装置などの反応装置内に充填された触
媒が使用途中にダストの付着堆積あるいは被毒成分の蓄
積により性能低下1〜た時に、該触媒を充填した萱\で
触媒の性能を回復させる改良された賦活方法を提供せん
とするものである。
媒が使用途中にダストの付着堆積あるいは被毒成分の蓄
積により性能低下1〜た時に、該触媒を充填した萱\で
触媒の性能を回復させる改良された賦活方法を提供せん
とするものである。
カリウム、ナトリウム、カルシウムなどのアルカリまた
はアルカリ土類金属は、脱硝触媒、燃焼触媒など燃焼排
ガスを対象にした触媒反応において触媒活性を阻害する
被毒物質のため、できるだけその含有址を低減させる必
要がある。
はアルカリ土類金属は、脱硝触媒、燃焼触媒など燃焼排
ガスを対象にした触媒反応において触媒活性を阻害する
被毒物質のため、できるだけその含有址を低減させる必
要がある。
l−かしながら最近では燃料事情の悪化から、筐す1す
ダスト量、ダスト組成の点で触媒に悪影響を与えるよう
な排ガス源になってきており、そこで使用される触媒に
耐ダスト被毒性全要求さり、ると共に、被毒された触媒
についての効果的な賦活方法が要求される状況にある。
ダスト量、ダスト組成の点で触媒に悪影響を与えるよう
な排ガス源になってきており、そこで使用される触媒に
耐ダスト被毒性全要求さり、ると共に、被毒された触媒
についての効果的な賦活方法が要求される状況にある。
本発明者らは既に触媒の賦活方法どして数多くの提案を
(−できた。例えば■水洗法(%願昭56〜12885
1号)、■粗粒アンシュによる触媒表向を・強制的に摩
耗させる方法(特願昭57〜52988号)及び■粗粒
粉体〒多く含むスラリー全高圧ガス体下で触媒表面に噴
射し、仕上げ水洗紮行う方法(特1fl昭57〜617
10号)などである。
(−できた。例えば■水洗法(%願昭56〜12885
1号)、■粗粒アンシュによる触媒表向を・強制的に摩
耗させる方法(特願昭57〜52988号)及び■粗粒
粉体〒多く含むスラリー全高圧ガス体下で触媒表面に噴
射し、仕上げ水洗紮行う方法(特1fl昭57〜617
10号)などである。
しかしながら、上述した提案方法は主として触媒ゲ装置
に配設した竪を型反応器に対するものであり、触媒を・
横置に配設した横置型反応器について具体的には開示さ
h7ていない。又、横置型反応器に充填された触媒を浸
ひ5水洗処理する程度では、液の流動がない/こめ、触
媒のガス通過孔内部の被毒成分の溶出速度が遅く、さら
に触媒が横置きになっているために水洗液の液切りが□
完全にできない。・ そのために横置型反応器に傾斜ケもたせ、る方。
に配設した竪を型反応器に対するものであり、触媒を・
横置に配設した横置型反応器について具体的には開示さ
h7ていない。又、横置型反応器に充填された触媒を浸
ひ5水洗処理する程度では、液の流動がない/こめ、触
媒のガス通過孔内部の被毒成分の溶出速度が遅く、さら
に触媒が横置きになっているために水洗液の液切りが□
完全にできない。・ そのために横置型反応器に傾斜ケもたせ、る方。
工あおい、よエヵエ、Cおゆ、、7v−オ□晶□豪:が
考えら715るが、前者は装懺、殖複雑になるなどの欠
点があり、後者はそれな、りに上述した提案 一方法に
示したように効果が・あるが、特に横置型反応器の場合
、竪1に型反応器に比し水洗水量及び賦活時間が大きく
なり過ぎる欠点があった0そこで本発明者らは、装置型
のみならず横置型反応器においても賦活に、際して使用
する水洗水量及び賦活時間を大幅に減少、せしめう、る
方法につき鋭意研究♀結果、本発uAヲ完成するに到っ
た0 □ ずなわち本発明は、反応装置:丙に充填された触媒が性
能低下した場合、・該触媒を□反応装置内に充填した状
態で1崖気液混相流を該触媒表面上に噴射させる触媒の
賦活方法である0本発明に適用され鼠反応装置は、′触
媒が装置されている場合ばかりでなく横置されている場
合にも、触媒賦活に顕著な効果がある。また性・□能・
低下した触媒表面に噴射される高圧気液混相流、とり、
ては1.空気と水、空気と鉱酸(T(2So4゜、
1・ □−・ : HCl ) i含む洗浄液、空気とドレンを多量に含む
寝り蒸気及び□炭酸ガ□ス、その他めガ亥ど洗浄液など
の洗浄媒体などの組立ぜが使用口うる。□以上の気液混
相流の気体としては乾燥水蒸気も使用しうる。本発明に
おける気:液の比率は、韓1tに対しネ+、、、、、、
、7....2..、11.4 、x、堺、液、混相!
&や、圧力は、2〜I OKy/an”G が適当″
′cわ仝o、 、・。
考えら715るが、前者は装懺、殖複雑になるなどの欠
点があり、後者はそれな、りに上述した提案 一方法に
示したように効果が・あるが、特に横置型反応器の場合
、竪1に型反応器に比し水洗水量及び賦活時間が大きく
なり過ぎる欠点があった0そこで本発明者らは、装置型
のみならず横置型反応器においても賦活に、際して使用
する水洗水量及び賦活時間を大幅に減少、せしめう、る
方法につき鋭意研究♀結果、本発uAヲ完成するに到っ
た0 □ ずなわち本発明は、反応装置:丙に充填された触媒が性
能低下した場合、・該触媒を□反応装置内に充填した状
態で1崖気液混相流を該触媒表面上に噴射させる触媒の
賦活方法である0本発明に適用され鼠反応装置は、′触
媒が装置されている場合ばかりでなく横置されている場
合にも、触媒賦活に顕著な効果がある。また性・□能・
低下した触媒表面に噴射される高圧気液混相流、とり、
ては1.空気と水、空気と鉱酸(T(2So4゜、
1・ □−・ : HCl ) i含む洗浄液、空気とドレンを多量に含む
寝り蒸気及び□炭酸ガ□ス、その他めガ亥ど洗浄液など
の洗浄媒体などの組立ぜが使用口うる。□以上の気液混
相流の気体としては乾燥水蒸気も使用しうる。本発明に
おける気:液の比率は、韓1tに対しネ+、、、、、、
、7....2..、11.4 、x、堺、液、混相!
&や、圧力は、2〜I OKy/an”G が適当″
′cわ仝o、 、・。
本発明の高圧気液混相流は、触媒のガス通過孔部の入1
コ側、また、は出口仰]のい、ずれよシ、も噴射させる
ことかでき不。 、□ り 本発明は石炭や石油會燃焼■せた排ガズ會触媒に通過さ
せ□排ガス・中め窒ぬ酸化物を還元して無害化除去する
脱硝反応など□に適用される触媒が、燃焼排ガス中に含
まれるカリウム、ナトリウム、カルシウムなどあア7・
カリまた龜アルカリ土類金−及d′f′ツ□シー□の蓄
積□あるいは触媒細孔部の目詰りなどにより性能が低下
した場合に、骸触媒を再賦活化するのに特に有効である
0 ′以下、本発明を添付図を参照しながら更に詳□
しく説朗する。
コ側、また、は出口仰]のい、ずれよシ、も噴射させる
ことかでき不。 、□ り 本発明は石炭や石油會燃焼■せた排ガズ會触媒に通過さ
せ□排ガス・中め窒ぬ酸化物を還元して無害化除去する
脱硝反応など□に適用される触媒が、燃焼排ガス中に含
まれるカリウム、ナトリウム、カルシウムなどあア7・
カリまた龜アルカリ土類金−及d′f′ツ□シー□の蓄
積□あるいは触媒細孔部の目詰りなどにより性能が低下
した場合に、骸触媒を再賦活化するのに特に有効である
0 ′以下、本発明を添付図を参照しながら更に詳□
しく説朗する。
第1図は、従来のメブレー水洗法に基づき触媒が排ガス
流に対し竪配置の場合と横配置の場合に罫ける被毒物質
の溶出率と水洗時間の関係を示すグラフである。第1図
の試験条件は水洗水量として触、媒+ m2当り5 :
[l [I Z/mrn、スプレーノズルは均等扇形ノ
ズル、水洗圧力は2に91atlGで実施した結果であ
シ、図中aが触媒を竪配置、bが横配置にした場合の結
果である0 竪配置の場合、被毒物質め滓出が・平衡に達す・る迄の
時間が約50分、その時の水洗水量が約15m3である
の対し、横配置め場合は平衡時間として約180分、そ
の時の水洗水量゛は約54tn” も8秩と1−た。
流に対し竪配置の場合と横配置の場合に罫ける被毒物質
の溶出率と水洗時間の関係を示すグラフである。第1図
の試験条件は水洗水量として触、媒+ m2当り5 :
[l [I Z/mrn、スプレーノズルは均等扇形ノ
ズル、水洗圧力は2に91atlGで実施した結果であ
シ、図中aが触媒を竪配置、bが横配置にした場合の結
果である0 竪配置の場合、被毒物質め滓出が・平衡に達す・る迄の
時間が約50分、その時の水洗水量が約15m3である
の対し、横配置め場合は平衡時間として約180分、そ
の時の水洗水量゛は約54tn” も8秩と1−た。
この結果、□スプレー水洗液では明らかに触媒が竪配置
の場合の方が効果がよいことがわかる。この差は横置の
場合、・□、触媒□ガス通過孔部端而面衝突した水洗水
の一部が既にその箇所で反応器下部に落下してしまうた
め□によるもので、装置の場合は上部より噴射した水洗
水の大半が触媒ガス通過孔丙部を通過し水洗水のロスが
少ないことによる洗□浄効果の効率の差であ不。 ″
−□・ 触媒か横置での水洗処理を行う場合には前述□したロメ
分會補□う必要が□お名。そこ+□従来法め噴射圧力よ
りも若干高い圧力下上噴射すること□及び水洗水量音減
少させ且つ被−物質め溶出率も掟来の触媒が装置の場合
の永洗時と同程癒に保持′Cきない□かについて検討を
重ねた結果、□高゛圧の気層混相流を噴射すれば効果が
あるであろうと考見莢馳の結果、:′下記の巣験結果を
得本妬・明の効果紮確認した二 □ ゛
−第2図はその実験における被毒物質の溶出率と水洗時
間の関係を示すグラフである0実験条件は触71”=2
”A ’i、水洗水it + ’b (]’ z/m’
(、n’、 1空気約1.5m3/’min の気液
混相流に’ 5 KMcTr?G′の圧力で均等扇形ノ
ズルヲ酸射する条件で行った。その結果、被毒物質の溶
出率が平衡に達するまでの時間は第2′図に示すように
約1時間でその時の水洗水h4に16m3で使用空気針
は約80m3 であった。
の場合の方が効果がよいことがわかる。この差は横置の
場合、・□、触媒□ガス通過孔部端而面衝突した水洗水
の一部が既にその箇所で反応器下部に落下してしまうた
め□によるもので、装置の場合は上部より噴射した水洗
水の大半が触媒ガス通過孔丙部を通過し水洗水のロスが
少ないことによる洗□浄効果の効率の差であ不。 ″
−□・ 触媒か横置での水洗処理を行う場合には前述□したロメ
分會補□う必要が□お名。そこ+□従来法め噴射圧力よ
りも若干高い圧力下上噴射すること□及び水洗水量音減
少させ且つ被−物質め溶出率も掟来の触媒が装置の場合
の永洗時と同程癒に保持′Cきない□かについて検討を
重ねた結果、□高゛圧の気層混相流を噴射すれば効果が
あるであろうと考見莢馳の結果、:′下記の巣験結果を
得本妬・明の効果紮確認した二 □ ゛
−第2図はその実験における被毒物質の溶出率と水洗時
間の関係を示すグラフである0実験条件は触71”=2
”A ’i、水洗水it + ’b (]’ z/m’
(、n’、 1空気約1.5m3/’min の気液
混相流に’ 5 KMcTr?G′の圧力で均等扇形ノ
ズルヲ酸射する条件で行った。その結果、被毒物質の溶
出率が平衡に達するまでの時間は第2′図に示すように
約1時間でその時の水洗水h4に16m3で使用空気針
は約80m3 であった。
この結果、本発明方法によねは触媒が横置さハている(
装置型反応器内に充填さり、ている触媒も、竪111゛
型反応器に充填された触媒の賦活と同程朋の水洗水fi
i:及び時間で賦活し2うることが確認さ)9.た。
装置型反応器内に充填さり、ている触媒も、竪111゛
型反応器に充填された触媒の賦活と同程朋の水洗水fi
i:及び時間で賦活し2うることが確認さ)9.た。
fcふ・第2図は空気と水の気液混和流の噴射について
のデータであるが空気と鉱酸(H2SO4。
のデータであるが空気と鉱酸(H2SO4。
He/ ) ’if含む洗浄液、空気と多針のドレン2
含む湿り蒸気及と)゛炭酸ガス、その他のガスと洗浄液
と力・らなる気液混相流でも、はソ同様な結果が得らハ
だ。な卦−1:記組合せの気液混相流に更に水蒸気?混
入させるとその効果は一段と上昇し21辷、。
含む湿り蒸気及と)゛炭酸ガス、その他のガスと洗浄液
と力・らなる気液混相流でも、はソ同様な結果が得らハ
だ。な卦−1:記組合せの気液混相流に更に水蒸気?混
入させるとその効果は一段と上昇し21辷、。
気液混相流に混入する蒸気は、凝縮して液となり、この
場合、洗浄液の温度が上ることにより被毒Ijy分の浴
解効来が若干良くなる。実験によハげ、神毒′42ηの
m出来は液温か常温(20℃)から201″: l−、
ると約10係上り、40℃上ると約15係上昇する。添
加する蒸気!1目;1、蒸気及び液の温度によって異す
、′侍に蒸気の温度は利用源によ′っでイ目当大幅に代
るため上、4:限は限定し難い7が、噴射前Q′)液温
γ70℃〜60℃どする四の蒸気を添7Il’lすると
良い。父、乾燥蒸気ケ利用し2C洗浄液r噴射させるこ
とも可能であるが、このW合には蒸気ケ気と考えなけれ
ばならない。こび)場合グ)飽1III帛上、F限r1
、標準状態において液11に第1して1〜201が適当
1゛あるO 以下、・ド児明の実施態様の一例として触媒が横置L−
1−1”−[置f1′さハた横置型反応器の触媒を賦活
−するフローを一第5図(/こ示す。
場合、洗浄液の温度が上ることにより被毒Ijy分の浴
解効来が若干良くなる。実験によハげ、神毒′42ηの
m出来は液温か常温(20℃)から201″: l−、
ると約10係上り、40℃上ると約15係上昇する。添
加する蒸気!1目;1、蒸気及び液の温度によって異す
、′侍に蒸気の温度は利用源によ′っでイ目当大幅に代
るため上、4:限は限定し難い7が、噴射前Q′)液温
γ70℃〜60℃どする四の蒸気を添7Il’lすると
良い。父、乾燥蒸気ケ利用し2C洗浄液r噴射させるこ
とも可能であるが、このW合には蒸気ケ気と考えなけれ
ばならない。こび)場合グ)飽1III帛上、F限r1
、標準状態において液11に第1して1〜201が適当
1゛あるO 以下、・ド児明の実施態様の一例として触媒が横置L−
1−1”−[置f1′さハた横置型反応器の触媒を賦活
−するフローを一第5図(/こ示す。
第5図中、1が水洗液fJt給〕1ン、2が空気、5が
蒸気供給う・イン紮示す。便ハ」条件(・ζ応じて/?
S供給う・fンケ開にし反応器内の触媒ガスL流側、又
はT:流側はり噴射するOlお水洗倖の廃液は9のホツ
ハーケ経て常設′の廃水ビットへ導(づばよい(,4が
反応器内の触媒のガス通堝孔部に対向1.”(′取Fl
けられた噴射ノズル禁示す。5が反応器本体、6が脱硝
触媒、7がダクト、8がガス流J1方向ケ示す。
蒸気供給う・イン紮示す。便ハ」条件(・ζ応じて/?
S供給う・fンケ開にし反応器内の触媒ガスL流側、又
はT:流側はり噴射するOlお水洗倖の廃液は9のホツ
ハーケ経て常設′の廃水ビットへ導(づばよい(,4が
反応器内の触媒のガス通堝孔部に対向1.”(′取Fl
けられた噴射ノズル禁示す。5が反応器本体、6が脱硝
触媒、7がダクト、8がガス流J1方向ケ示す。
以−にの如く本発明(づ、空気と水等の組合せに」:る
力ロ圧混相流下で触媒表面部に噴射し再生會行うもので
以下の効果ケ奏する。
力ロ圧混相流下で触媒表面部に噴射し再生會行うもので
以下の効果ケ奏する。
(1+ 横配置の長い触媒に液単相スプレゲ施すと、
IO霧ノズルに近い部分では、ガス通過ロケ囲む全壁面
に一様に液滴が当り全面が均一に濡れるが、触媒の端末
部に至るにつれ次組に一ト面に達・する液滴は減少し下
面の液膜が厚くなる。このため、後端部上面の触媒洗浄
が不光分となる。こh−f防ぐには噴射圧力の」1昇と
水量の増加な計ることが必要であるが、これでは余分の
洗浄液′に便用することになる。気液混相流″Cあtl
げ小水滴となり触媒孔(ガス通過[−1)内部に至る゛
まで均一にスグレゲ施すことができる。このため、洗浄
液の使用液が減少できる。
IO霧ノズルに近い部分では、ガス通過ロケ囲む全壁面
に一様に液滴が当り全面が均一に濡れるが、触媒の端末
部に至るにつれ次組に一ト面に達・する液滴は減少し下
面の液膜が厚くなる。このため、後端部上面の触媒洗浄
が不光分となる。こh−f防ぐには噴射圧力の」1昇と
水量の増加な計ることが必要であるが、これでは余分の
洗浄液′に便用することになる。気液混相流″Cあtl
げ小水滴となり触媒孔(ガス通過[−1)内部に至る゛
まで均一にスグレゲ施すことができる。このため、洗浄
液の使用液が減少できる。
(2) 液申相スプレで噴射圧力を上げると触媒面へ
の衝撃力が増し触媒破損の恐れがある。又、動力の増大
も相)j′i ffr値となる。包納混相流では、液単
相の場合に比し、液滴の粒子が小さいため噴射日三ヶ相
当−にげても触媒に71する衝撃力は余り増大しない。
の衝撃力が増し触媒破損の恐れがある。又、動力の増大
も相)j′i ffr値となる。包納混相流では、液単
相の場合に比し、液滴の粒子が小さいため噴射日三ヶ相
当−にげても触媒に71する衝撃力は余り増大しない。
このため噴射圧?充分に品〈(〜で細かい液滴を遠く“
まで均一に飛ばすことが出来2.)。夕、動力の増加も
比較的少々い。
まで均一に飛ばすことが出来2.)。夕、動力の増加も
比較的少々い。
なお、以り主として横置式の反応b iCついて説明し
/?−が竪14式の反応器に本発明7滴用しうることは
勿論でを、す、特に僅かな間隔ケむいて複数個の二・−
ニツI−触媒ケ重ねて触廖パツクケ形Ij父−2t/〜
′】kもの\、Lうに、6つ一ニット触媒間に噴射ノズ
ルイ〔設置1′jすることができない装置の反応器に適
用するのに適している。
/?−が竪14式の反応器に本発明7滴用しうることは
勿論でを、す、特に僅かな間隔ケむいて複数個の二・−
ニツI−触媒ケ重ねて触廖パツクケ形Ij父−2t/〜
′】kもの\、Lうに、6つ一ニット触媒間に噴射ノズ
ルイ〔設置1′jすることができない装置の反応器に適
用するのに適している。
4図而のm1印な89明
第1図(・、1従来のスグレ−11(洗法に基づさ触媒
が排ガス流に対(−7竪西j−置の用台と’+’:’i
配置の場合におけえ)被′J!物質の酊出来と水洗時間
の関係紮示すグラフ、第2図1r1触媒がtJllガス
31iに対ト横配置の場合によ、・いて本発明力汐ミ解
適井1]−7た1ヅの被毒物質の溶出率と水洗時間の関
係を示すグラフ、第5図は本発明を触媒が横配置された
横置型反応器の触媒全賦活するフロー葡示す。
が排ガス流に対(−7竪西j−置の用台と’+’:’i
配置の場合におけえ)被′J!物質の酊出来と水洗時間
の関係紮示すグラフ、第2図1r1触媒がtJllガス
31iに対ト横配置の場合によ、・いて本発明力汐ミ解
適井1]−7た1ヅの被毒物質の溶出率と水洗時間の関
係を示すグラフ、第5図は本発明を触媒が横配置された
横置型反応器の触媒全賦活するフロー葡示す。
復代理人 内 1) 明
復代理人 萩 原 亮 −
水う光時間(旬
水)先部1泗(分2
)−−
Claims (1)
- 反応装置内に充填された触媒が性能低下した場合、該触
媒を反応装置内に充填した状態で高圧気液混相流?該触
媒表面上に噴射させること?特徴とする触媒の賦活方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17395282A JPS5966352A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 触媒の賦活方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17395282A JPS5966352A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 触媒の賦活方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5966352A true JPS5966352A (ja) | 1984-04-14 |
JPS6316170B2 JPS6316170B2 (ja) | 1988-04-07 |
Family
ID=15970096
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17395282A Granted JPS5966352A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 触媒の賦活方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5966352A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0824973A2 (de) * | 1996-08-19 | 1998-02-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Einrichtung zum Reinigen eines verunreinigten Gegenstands |
JP2019055370A (ja) * | 2017-09-21 | 2019-04-11 | 一般財団法人電力中央研究所 | 不純物除去剤の再生システム |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49113214A (ja) * | 1973-03-05 | 1974-10-29 | ||
JPS5230789A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-08 | Nippon Kagaku Sangyo Kk | Method for washing catalyst and its equipment |
-
1982
- 1982-10-05 JP JP17395282A patent/JPS5966352A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS49113214A (ja) * | 1973-03-05 | 1974-10-29 | ||
JPS5230789A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-08 | Nippon Kagaku Sangyo Kk | Method for washing catalyst and its equipment |
Cited By (3)
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EP0824973A2 (de) * | 1996-08-19 | 1998-02-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Einrichtung zum Reinigen eines verunreinigten Gegenstands |
EP0824973A3 (de) * | 1996-08-19 | 1998-12-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Einrichtung zum Reinigen eines verunreinigten Gegenstands |
JP2019055370A (ja) * | 2017-09-21 | 2019-04-11 | 一般財団法人電力中央研究所 | 不純物除去剤の再生システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6316170B2 (ja) | 1988-04-07 |
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