JPS5965880A - 表示装置 - Google Patents
表示装置Info
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- JPS5965880A JPS5965880A JP17658782A JP17658782A JPS5965880A JP S5965880 A JPS5965880 A JP S5965880A JP 17658782 A JP17658782 A JP 17658782A JP 17658782 A JP17658782 A JP 17658782A JP S5965880 A JPS5965880 A JP S5965880A
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- Japan
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- glass substrate
- display
- glass
- present
- porous layer
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は透明パネル表面での反射を防Ｉトシて見易くし
た表示装置に関する。
た表示装置に関する。
液晶ハネル、螢光表示管、ＥＬ（エレクトロルミネセン
ス） 、 ＰｆＴｈＰ （プラズマディスプレイパネ
ルなど一般に透明ガラス基板の背面に表示体を一体に設
けた表示装置においては、ガラス基板表面に映る周囲の
景観あるいは反射光によって背後の表示体が見にくくな
るということがしばしばおこる〇このためガラス基板面
を弗酸液によるエツチングあるいは砂槽りによって粗面
化したり、Ｓ１０２膜などの反射防止膜をコーティング
する防眩処理が行なわれているが、前者の粗面化の場合
はガラス表面の凹凸高が比較的大きく、また強度上表示
体と基板ガラス表面との間の距離を小さくすることには
限界があり、このためガラス表面凹凸による敗乱で画像
の輪郭に「ぼけ」を生し、あまり高い解像度のものが得
られないという問題がある。
ス） 、 ＰｆＴｈＰ （プラズマディスプレイパネ
ルなど一般に透明ガラス基板の背面に表示体を一体に設
けた表示装置においては、ガラス基板表面に映る周囲の
景観あるいは反射光によって背後の表示体が見にくくな
るということがしばしばおこる〇このためガラス基板面
を弗酸液によるエツチングあるいは砂槽りによって粗面
化したり、Ｓ１０２膜などの反射防止膜をコーティング
する防眩処理が行なわれているが、前者の粗面化の場合
はガラス表面の凹凸高が比較的大きく、また強度上表示
体と基板ガラス表面との間の距離を小さくすることには
限界があり、このためガラス表面凹凸による敗乱で画像
の輪郭に「ぼけ」を生し、あまり高い解像度のものが得
られないという問題がある。
また無反射膜をコーティングする方法では十分な反射防
止効果が得られず、また真空室を必要とするため大量処
理が難しく経済的でないという問題がある。
止効果が得られず、また真空室を必要とするため大量処
理が難しく経済的でないという問題がある。
本発明は従来品のもつ上記欠点を改善し、防眩効果が太
きくしかも画像輪郭ぼけをほとんど生しない鮮明な画像
の得られる新規な表示装置を提供することを目的として
いる。
きくしかも画像輪郭ぼけをほとんど生しない鮮明な画像
の得られる新規な表示装置を提供することを目的として
いる。
上記目的を達成する本発明は、透明ガラス基板の背面に
表示体を一体に設けた表示装置において、前記ガラス基
板の表面に、シリカ以外のガラス成分を選択的に溶出除
去して得られる微細なシリカ質多孔層を設けたことを要
旨としている。
表示体を一体に設けた表示装置において、前記ガラス基
板の表面に、シリカ以外のガラス成分を選択的に溶出除
去して得られる微細なシリカ質多孔層を設けたことを要
旨としている。
以下本発明を図面に示した実施例について詳細に説明す
る。
る。
第７図は本発明を液晶パネルに適用した例であり、液晶
パネル／は最も一般的には表面に透明電極Ｈｇ＜ ＋２
を設ｆづだ一対の透明ガラスＭ板３．ｌを電極１ｉ！−
２を内側として間隔をおいて配置し、周辺をンール利夕
て封止するとともに内部に液晶物質乙を充填した構造と
なっており、電極印加により生しる電極膜２のパターン
に対応したｎセ晶物質乙の部分的な配向性変化で画像が
表示される。
パネル／は最も一般的には表面に透明電極Ｈｇ＜ ＋２
を設ｆづだ一対の透明ガラスＭ板３．ｌを電極１ｉ！−
２を内側として間隔をおいて配置し、周辺をンール利夕
て封止するとともに内部に液晶物質乙を充填した構造と
なっており、電極印加により生しる電極膜２のパターン
に対応したｎセ晶物質乙の部分的な配向性変化で画像が
表示される。
かかる液晶パネルにおいて本発明では表ボ面をなす側の
ガラス基板３の表面に、シリカ以外のガラス成分を選択
的傾溶出除去して得られる微細なシリカ質多孔層７を設
ける。
ガラス基板３の表面に、シリカ以外のガラス成分を選択
的傾溶出除去して得られる微細なシリカ質多孔層７を設
ける。
このようなシリカ質多孔Ｎ７は濃度がＯ０夕ないし３．
０モル／ｌ望ましくは７．０ないし、？Ｊ七ル／ｌのシ
リカを飽和または過飽和させた珪弗化水素酸の水溶液に
ガラス基板をＳＯ分ないし／３０分程度ｆＺ （ｉｆす
ることにより形成することかできる。
０モル／ｌ望ましくは７．０ないし、？Ｊ七ル／ｌのシ
リカを飽和または過飽和させた珪弗化水素酸の水溶液に
ガラス基板をＳＯ分ないし／３０分程度ｆＺ （ｉｆす
ることにより形成することかできる。
−例として、まずガラス基板をＯ１Ｓ％濃度の弗酸（Ｈ
Ｆ）にｊ分程度浸漬してガラス表面に固着している汚れ
を落した後水洗し、次いでこのガラス基板をシリカを飽
和または過飽和させた０度が３．０モル／ｌの珪弗化水
素酸（Ｈ２ＳｉＦ６）水溶液に３ｓ°Ｃて５％＋１００
分間浸演処理する。
Ｆ）にｊ分程度浸漬してガラス表面に固着している汚れ
を落した後水洗し、次いでこのガラス基板をシリカを飽
和または過飽和させた０度が３．０モル／ｌの珪弗化水
素酸（Ｈ２ＳｉＦ６）水溶液に３ｓ°Ｃて５％＋１００
分間浸演処理する。
Ｊ−記の処理により基板ガラスの表面付近にお＋ｊるＮ
ａ２Ｏ，１３２０３なとシリカ以外の金紗酸化物成分が
溶出除去されてあとに大部分がシリカ（Ｓｉ０２）から
成る層ｊシみが１０００オングストローム前後で孔径か
１００ないし数丙副ングストローム程度の極（１４細な
多孔層が形成される。
ａ２Ｏ，１３２０３なとシリカ以外の金紗酸化物成分が
溶出除去されてあとに大部分がシリカ（Ｓｉ０２）から
成る層ｊシみが１０００オングストローム前後で孔径か
１００ないし数丙副ングストローム程度の極（１４細な
多孔層が形成される。
？
このようなシリカ質多孔層７はバルブのガラス部分に比
較して屈折率が低いシリカでＪｊｌ＆成さねていること
に加え、空孔中の空気の存在により見かけ上の屈折率が
エリプソメトＩＪ −肱による実測値で７．３０とシリ
カ自体の屈折率へｌＩ乙に比してはるかに低い。
較して屈折率が低いシリカでＪｊｌ＆成さねていること
に加え、空孔中の空気の存在により見かけ上の屈折率が
エリプソメトＩＪ −肱による実測値で７．３０とシリ
カ自体の屈折率へｌＩ乙に比してはるかに低い。
これによりシリカ質多孔層７を設けたガラス基板にあ−
８てはこの面に垂直に入射する光線の反射率を／、０％
以Ｆに抑制することができる。
８てはこの面に垂直に入射する光線の反射率を／、０％
以Ｆに抑制することができる。
これに対して無処理のままでは垂直入射光線の反射率が
乙〜ｇ％、また５１０２蒸着膜でも３％である。
乙〜ｇ％、また５１０２蒸着膜でも３％である。
このようにしてシリカ質多孔層７を夕１表面に設けたガ
ラス基板３を用いた液晶パネルはガラス基板表面での外
光反射が大きく抑制される。
ラス基板３を用いた液晶パネルはガラス基板表面での外
光反射が大きく抑制される。
またガラスの全成分を溶解して凹凸面をつくる通常の弗
酸エツチングと異なり、シリカ以外のガラス成分を選択
的に溶出除去して得ら′Ｉ］るシリカ質多孔層７はその
孔径が光の波長以ＦのＡ−グーであるため光は散乱を生
しることなく直進透過する。
酸エツチングと異なり、シリカ以外のガラス成分を選択
的に溶出除去して得ら′Ｉ］るシリカ質多孔層７はその
孔径が光の波長以ＦのＡ−グーであるため光は散乱を生
しることなく直進透過する。
したがってガラス基板外表面から背後の表示体まで比較
的大きな距離があっても透過画像の輪郭に「ぼけ」を生
じることなく非常に鮮明な高解像度の画像を得ることが
できる。
的大きな距離があっても透過画像の輪郭に「ぼけ」を生
じることなく非常に鮮明な高解像度の画像を得ることが
できる。
本発明においてガラス基板表面に設６ブるシリカ質多イ
し層７の厚みは、使用する光線の波長によって最も反Ｑ
・１防止効果の大きな厚み範囲が異なり、可視光線であ
れば多孔層７厚みを７５０ないし３０００オンダストロ
ームの範囲内（（選ぶと最小の反射率が得られる。
し層７の厚みは、使用する光線の波長によって最も反Ｑ
・１防止効果の大きな厚み範囲が異なり、可視光線であ
れば多孔層７厚みを７５０ないし３０００オンダストロ
ームの範囲内（（選ぶと最小の反射率が得られる。
第３図に本発明の他の実施例を示す。
本例は螢光表不管に本発明を適用した例であり、ベース
基板ざ」二（（配線９および絶縁Ｖ ／ ０を設け、こ
の絶縁層１０上にセグメント陽極／／および螢光体／ｉ
が設けられている。／３は格子である。
基板ざ」二（（配線９および絶縁Ｖ ／ ０を設け、こ
の絶縁層１０上にセグメント陽極／／および螢光体／ｉ
が設けられている。／３は格子である。
そしてこれら部品を覆って透明７エイスカラス／ｌが収
り何けられ、内部空間／Ｓを真空にして７エイスガラス
／ゲとベース基板ざとの間を気密接合さオ］る。
り何けられ、内部空間／Ｓを真空にして７エイスガラス
／ゲとベース基板ざとの間を気密接合さオ］る。
フェイスガラス／グの内面には透明導電膜２が設けられ
、夕（表面には前述と同様のシリカ質多孔層７からなる
反射防止層を設ける。
、夕（表面には前述と同様のシリカ質多孔層７からなる
反射防止層を設ける。
このような螢光表示管にあっては特にフェイスガラスの
外表面と螢光体／−２との間の距離が比較的大きく、こ
のため前述した従来の４１１面の反射防止層を設４−１
だ場合には螢光体／、２からの発光が散乱してしまって
魚Ｙ、明なｉｎ！ｊ （ｇｌが得られなくなってしまう
が、本発明によればこのようなこともなく鮮明な表１Ｊ
＜画像が得られる。
外表面と螢光体／−２との間の距離が比較的大きく、こ
のため前述した従来の４１１面の反射防止層を設４−１
だ場合には螢光体／、２からの発光が散乱してしまって
魚Ｙ、明なｉｎ！ｊ （ｇｌが得られなくなってしまう
が、本発明によればこのようなこともなく鮮明な表１Ｊ
＜画像が得られる。
オグ図は本発明なＥＬ（エレクトロルミネセンス）パオ
ルに用いた例であり、本発明に係るシリカ質多孔層７を
表示面側に設けた透明ガラス基板３の裏面−１−に透明
型イ１し膜！を設り、この」−に絶縁層１０ｈを設Ｃノ
、ざらにこの絶縁層１０Ａ」−にＺｎＳ−Ｍｎなどの発
光層／乙、この発光層／乙を囲む絶縁層１０Ｂ、電極／
７．シリコン樹脂等の保護 ｌ、暫／ｇを設けて＋１９
成される。
ルに用いた例であり、本発明に係るシリカ質多孔層７を
表示面側に設けた透明ガラス基板３の裏面−１−に透明
型イ１し膜！を設り、この」−に絶縁層１０ｈを設Ｃノ
、ざらにこの絶縁層１０Ａ」−にＺｎＳ−Ｍｎなどの発
光層／乙、この発光層／乙を囲む絶縁層１０Ｂ、電極／
７．シリコン樹脂等の保護 ｌ、暫／ｇを設けて＋１９
成される。
第５図に本発明をプラズマナイスブレイパ了ルに適用し
た例を示す。
た例を示す。
典型的なプラズマディスプレイパネルは裏側カラス基板
／９」二にＹ電極膜２０．絶縁層１０およζノ・保護膜
−！／を設け、周辺にスペーサー２２を介在させて同様
にＸ電ｔ！ｌ！、２３．絶縁層１０δよび保護膜、２／
を設けた表示面側透明カラス基板３を接合し、外周縁を
封止材２’ｌて気密にシールして構成され、内部空間、
２Ｓにプラズマ発光のガスが７＋Ｊ４されている。
／９」二にＹ電極膜２０．絶縁層１０およζノ・保護膜
−！／を設け、周辺にスペーサー２２を介在させて同様
にＸ電ｔ！ｌ！、２３．絶縁層１０δよび保護膜、２／
を設けた表示面側透明カラス基板３を接合し、外周縁を
封止材２’ｌて気密にシールして構成され、内部空間、
２Ｓにプラズマ発光のガスが７＋Ｊ４されている。
このようなプラズマティスプレィパネルにおいて表示面
側のカラス基板３の外表面にシリカ質多孔層７を設ｉｊ
る。
側のカラス基板３の外表面にシリカ質多孔層７を設ｉｊ
る。
以上間・″発明を液晶パネル、螢光衣／Ｊ＜’Ｒ＋ Ｅ
Ｌ ＋プラズマティスプレィパネルに適用した’Ａ
合Ｋ −）いて説明したが本発明はこれらに限’ｉＪｌ
されることなく、透明カラス基板の背面に表１Ｊ＜体を
−・体に設りた種々の表示装置に適用可能である。
Ｌ ＋プラズマティスプレィパネルに適用した’Ａ
合Ｋ −）いて説明したが本発明はこれらに限’ｉＪｌ
されることなく、透明カラス基板の背面に表１Ｊ＜体を
−・体に設りた種々の表示装置に適用可能である。
図「自ｊ Ｃ） 「ｉｆｊ単な３）２明オ、１Ｍは本発
明を液晶パネルに適用した例を示す［す１曲［ズ、第３
図は第７図のＪＡ枦ガラスの要部を拡大してｌ■りす［
すｉ面図、第３図は本発明を螢光表示管にｉＪ用した例
を示す断面図、第１図は本発明をニレ９トロルミネセン
スに適用した例を不ス断面Ｕ’Ｓ 、第３図はエレクト
ロルミネセンスパネルに本発明１−適用した例を示す断
面図である。
明を液晶パネルに適用した例を示す［す１曲［ズ、第３
図は第７図のＪＡ枦ガラスの要部を拡大してｌ■りす［
すｉ面図、第３図は本発明を螢光表示管にｉＪ用した例
を示す断面図、第１図は本発明をニレ９トロルミネセン
スに適用した例を不ス断面Ｕ’Ｓ 、第３図はエレクト
ロルミネセンスパネルに本発明１−適用した例を示す断
面図である。
−−−・ｊ秀明電Ｎ！膜 ３ ・ 、透明ガラス基板７
・ ・ンリノノ質多孔層 第３図 第４図 第５図
・ ・ンリノノ質多孔層 第３図 第４図 第５図
Claims (1)
- 透明ガラス基板の背面に表示体を一体に設けた表示装置
において、前記ガラス基板の外表面にシリカ以外のガラ
ス成分を選択的に溶出除去して得られる微細なシリカ質
多孔層を設けたことを特徴とする表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17658782A JPS5965880A (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | 表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17658782A JPS5965880A (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | 表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5965880A true JPS5965880A (ja) | 1984-04-14 |
Family
ID=16016165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17658782A Pending JPS5965880A (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | 表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5965880A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003048571A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-18 | Yanmar Agricult Equip Co Ltd | トラクタのボンネット構造 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53125048A (en) * | 1977-02-18 | 1978-11-01 | Minnesota Mining & Mfg | Nooreflection optical element |
-
1982
- 1982-10-07 JP JP17658782A patent/JPS5965880A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53125048A (en) * | 1977-02-18 | 1978-11-01 | Minnesota Mining & Mfg | Nooreflection optical element |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003048571A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-18 | Yanmar Agricult Equip Co Ltd | トラクタのボンネット構造 |
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