JPS596259B2 - 光伝送用ガラスの製造方法 - Google Patents
光伝送用ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPS596259B2 JPS596259B2 JP14279476A JP14279476A JPS596259B2 JP S596259 B2 JPS596259 B2 JP S596259B2 JP 14279476 A JP14279476 A JP 14279476A JP 14279476 A JP14279476 A JP 14279476A JP S596259 B2 JPS596259 B2 JP S596259B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- soot
- optical transmission
- plasma flame
- manufacturing optical
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
- C03B37/01426—Plasma deposition burners or torches
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光通信用ファイバの素材となる光伝送用ガラス
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
高周波プラズマ炎を用いて、石英系の光伝送用ガラスを
製造する方法に於て、従来の方法は第１図イに示す如く
回転物体の軸方向にガラス粒子のスート（煤）を積層し
ていく方法と口図に示す如く棒状の回転体の径方向にス
ートを積層していく方法がある。
製造する方法に於て、従来の方法は第１図イに示す如く
回転物体の軸方向にガラス粒子のスート（煤）を積層し
ていく方法と口図に示す如く棒状の回転体の径方向にス
ートを積層していく方法がある。
図において１、２はＳｉＣｉ４・ＧｅＣｌ４・ Ｏ２等
のハロゲン化金属、原料ガスノズル、３はスート積層体
、４は高周波コイルである。上記の方法はいずれも高周
波プラズマ炎５の中心軸（図の破線で示す）上に積層体
３を配置するのが普通であつた。この配置ではスート積
層体３の成長方向とプラズマ炎５の方向とが同一方向と
なる。そしてこのようにして積層したスート積層体を焼
結し透明ガラス化していた。このような方法ではプラズ
マ炎の温度分布は第２図に示すようであるので、スート
積層体のごく一部分のみが高温（１４００℃以上）にさ
らされ、焼結ガラス化が進み、スートの密度が不均一な
積層体が得られる。
のハロゲン化金属、原料ガスノズル、３はスート積層体
、４は高周波コイルである。上記の方法はいずれも高周
波プラズマ炎５の中心軸（図の破線で示す）上に積層体
３を配置するのが普通であつた。この配置ではスート積
層体３の成長方向とプラズマ炎５の方向とが同一方向と
なる。そしてこのようにして積層したスート積層体を焼
結し透明ガラス化していた。このような方法ではプラズ
マ炎の温度分布は第２図に示すようであるので、スート
積層体のごく一部分のみが高温（１４００℃以上）にさ
らされ、焼結ガラス化が進み、スートの密度が不均一な
積層体が得られる。
不均一なスート積層体を焼結しても気泡が残りやすく透
明なガラス体が得にくい。
明なガラス体が得にくい。
また積層体の表面の温度分布が不均一で、ドープ量の制
御が難しい等の欠点があつた。本発明は以上の欠点を解
消する目的で案出されたものである。
御が難しい等の欠点があつた。本発明は以上の欠点を解
消する目的で案出されたものである。
本発明の方法の特徴はスート積層体を第３図イ、口に示
す如くプラズマ炎５の中心軸からずらして配置し、第２
図の炎のデータに示される炎の側面部を利用することに
より積層面の温度分布が均一になるようにすることであ
る。
す如くプラズマ炎５の中心軸からずらして配置し、第２
図の炎のデータに示される炎の側面部を利用することに
より積層面の温度分布が均一になるようにすることであ
る。
本方法では原料ガスはプラズマ炎を通過することによつ
て十分反応し、ガラスのスートとして積層可能である。
て十分反応し、ガラスのスートとして積層可能である。
原料ガス流速は、プラズマ炎を発生させるガス（Ａｒ、
Ｏ２）の流速に比して、はるかに速いので、温度勾配の
きつい炎の箇所で直接炎にあぶられない位置にスート積
層体を配置することが出来る。良好な透明ガラス体を得
るには、ある程度半焼結状態で積層させるのがよく、こ
のため積層箇所は炎から離れすぎない方がよい。このよ
うな配置では、スート積層体の積層方向、即ち成長方向
とプラズマ炎の流れの方向が角度をもつ様になる。この
角度は９０゜（直交）から６００までにとるものである
。その理由は、６００以下の角度で堆積すると、温度分
布の不均一性が大きくなるためで、これは第２図のプラ
ズマフレームの温度分布がプラズマ炎の軸方向には温度
変化がなめらかであるが、動径方向には非常に大きな変
化を示すためである。次に具体的実施例について説明す
る。
Ｏ２）の流速に比して、はるかに速いので、温度勾配の
きつい炎の箇所で直接炎にあぶられない位置にスート積
層体を配置することが出来る。良好な透明ガラス体を得
るには、ある程度半焼結状態で積層させるのがよく、こ
のため積層箇所は炎から離れすぎない方がよい。このよ
うな配置では、スート積層体の積層方向、即ち成長方向
とプラズマ炎の流れの方向が角度をもつ様になる。この
角度は９０゜（直交）から６００までにとるものである
。その理由は、６００以下の角度で堆積すると、温度分
布の不均一性が大きくなるためで、これは第２図のプラ
ズマフレームの温度分布がプラズマ炎の軸方向には温度
変化がなめらかであるが、動径方向には非常に大きな変
化を示すためである。次に具体的実施例について説明す
る。
第１図イの配置にて２よりＳｉＣｌ４とＧｅＣｌ４をＡ
ｒキヤリアガスとともにターゲット面に吹つけた。
ｒキヤリアガスとともにターゲット面に吹つけた。
この配置での堆積体３の密度を半径方向に計測すると第
４図の如く中心部が極端に高く半径方向に不均一性をも
つていた。このガラス微粒子堆積体を電気炉中で焼結透
明ガラス化すると中心部に気泡が残留した。このときの
ＳｉＣｌ４はＡｒｉ流量１００ＣＣ／―高周波誘導プラ
ズマの電力は２０ＫＷであつた。次に同じ流量で同じ高
周波電力で第３図イの如くプラズマ炎の方向とスート積
層方向とに角度をもたせて配置し、堆積させた時の密度
の半径方向の分布を調べたところ、第５図に示す様にな
めらかな分布をもつものであつた。
４図の如く中心部が極端に高く半径方向に不均一性をも
つていた。このガラス微粒子堆積体を電気炉中で焼結透
明ガラス化すると中心部に気泡が残留した。このときの
ＳｉＣｌ４はＡｒｉ流量１００ＣＣ／―高周波誘導プラ
ズマの電力は２０ＫＷであつた。次に同じ流量で同じ高
周波電力で第３図イの如くプラズマ炎の方向とスート積
層方向とに角度をもたせて配置し、堆積させた時の密度
の半径方向の分布を調べたところ、第５図に示す様にな
めらかな分布をもつものであつた。
このときプラズマ炎の方向とスート積層方向とは７０゜
の角度であつた。このガラス微粒子堆積体を電気炉中で
加熱するとまつたく気泡の残留しない透明なガラスとな
つた。
の角度であつた。このガラス微粒子堆積体を電気炉中で
加熱するとまつたく気泡の残留しない透明なガラスとな
つた。
このガラスを輪切し断面内での屈折率分布を干渉顕微鏡
で調査したところほぼ均一にＧｅＯ２がドープされ石英
に対する比屈折率差として△＝０．５％ たマし、とな
つていた。
で調査したところほぼ均一にＧｅＯ２がドープされ石英
に対する比屈折率差として△＝０．５％ たマし、とな
つていた。
本発明の方法によれば積層体表面の温度が均一な所で積
層するので、均一な密度をもつスート積層体が得られ、
プラズマ炎のゆらぎに対して影響が少なく、従つて焼結
のさい透明ガラス化し易く、かつドープ量の制御が正確
に出来る等の利点がある。
層するので、均一な密度をもつスート積層体が得られ、
プラズマ炎のゆらぎに対して影響が少なく、従つて焼結
のさい透明ガラス化し易く、かつドープ量の制御が正確
に出来る等の利点がある。
第１図イ，叫ま従来の方法の説明図、第２図はプラズマ
炎の温度分布の説明図、第３図イ，口は本発明の方法の
説明図を示す。 第４図及び第５図は、試作スート積層体の半径方向の密
度分布を示す。１，２は原料ガスノズル、３，３′はガ
ラスあるいはスート積層体、４は高周波コイル、５はプ
ラズマ炎。
炎の温度分布の説明図、第３図イ，口は本発明の方法の
説明図を示す。 第４図及び第５図は、試作スート積層体の半径方向の密
度分布を示す。１，２は原料ガスノズル、３，３′はガ
ラスあるいはスート積層体、４は高周波コイル、５はプ
ラズマ炎。
Claims (1)
- １ プラズマ炎を熱源として気相酸化反応でガラス粒を
作り、それを積層し、焼結ガラス化する光伝送用ガラス
の製造方法に於て、前記プラズマ炎の方向と、スート積
層方向とに６０度〜９０度の角度をもたせて配置するこ
とを特徴とする光伝送用ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14279476A JPS596259B2 (ja) | 1976-11-28 | 1976-11-28 | 光伝送用ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14279476A JPS596259B2 (ja) | 1976-11-28 | 1976-11-28 | 光伝送用ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5367448A JPS5367448A (en) | 1978-06-15 |
| JPS596259B2 true JPS596259B2 (ja) | 1984-02-09 |
Family
ID=15323758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14279476A Expired JPS596259B2 (ja) | 1976-11-28 | 1976-11-28 | 光伝送用ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS596259B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5537465A (en) * | 1978-09-09 | 1980-03-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of glass fiber base material |
-
1976
- 1976-11-28 JP JP14279476A patent/JPS596259B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5367448A (en) | 1978-06-15 |
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