JPS5959881A - 薄膜形成用シヤツタ - Google Patents
薄膜形成用シヤツタInfo
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- JPS5959881A JPS5959881A JP16831682A JP16831682A JPS5959881A JP S5959881 A JPS5959881 A JP S5959881A JP 16831682 A JP16831682 A JP 16831682A JP 16831682 A JP16831682 A JP 16831682A JP S5959881 A JPS5959881 A JP S5959881A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- vapor deposition
- shutters
- thin film
- evaporation
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、薄膜形成装置の改良に係シ、特に不純物の少
ない高品質の薄膜を得られるようにした薄膜形成用シャ
ッタに関する。
ない高品質の薄膜を得られるようにした薄膜形成用シャ
ッタに関する。
磁気ヘッドや半導体素子等には、異種材料による複数層
の薄膜が形成される。この異種材料による複数層の薄膜
成形の良否は、同時に製品の品質に対し大きな影響を与
える。
の薄膜が形成される。この異種材料による複数層の薄膜
成形の良否は、同時に製品の品質に対し大きな影響を与
える。
又異種材料による複数層の畜Ｂｋ成形は、蒸着源あるい
は又スパッタ源から放出される薄膜粒子を材料毎にシャ
ッタで遮蔽しながら行なう。
は又スパッタ源から放出される薄膜粒子を材料毎にシャ
ッタで遮蔽しながら行なう。
先ず、薄膜形成装置の概要を第１図を用いて説明する。
図におｈて、薄刃１１形成装置は、真空容器１内に蒸発
源２、蒸着用シャッタ３、基板４、基板加熱ヒータ５を
収納し、真空排気ポンプ６によって真空排気する構成に
なってｂる。
源２、蒸着用シャッタ３、基板４、基板加熱ヒータ５を
収納し、真空排気ポンプ６によって真空排気する構成に
なってｂる。
又蒸着源２は、同一真空中でＪ％種月料の蒸着が可能な
ように、数個のるつほを備えたターレット構造をしてお
り、真空容器１の夕■に設けたモータ７によって、真空
を破ることなく、材料を切替えることができるようにな
っている。蒸着用シャッタ３は、モータ８により回転さ
せられ、開閉するようになっている。
ように、数個のるつほを備えたターレット構造をしてお
り、真空容器１の夕■に設けたモータ７によって、真空
を破ることなく、材料を切替えることができるようにな
っている。蒸着用シャッタ３は、モータ８により回転さ
せられ、開閉するようになっている。
従来の上記蒸着用シャッタは、第３図に示すように、一
枚のシャツタ板３が水平軸を介して回転軸妃一体的に取
付けられ、上記回転軸をモータにて回転することによっ
て開閉するようにしてｂた。
枚のシャツタ板３が水平軸を介して回転軸妃一体的に取
付けられ、上記回転軸をモータにて回転することによっ
て開閉するようにしてｂた。
このような蒸着用シャッタを用いた薄膜形成装置にお−
て、蒸着を行なう場合、蒸着用シャッタ３には、蒸着源
２からの距離が近いこともあって、蒸着粒子が付着堆積
し易く、又シャツタ板の温度が低いため付着力が弱く、
第２図に示すように、蒸着用シャッタ３に付着した蒸米
粒子が脱落して、溶融中の蒸着物質の中に落下し、突沸
現象が起ったシ、蒸着物質の中に異種利料が混入して、
純度が低下するという問題があった。
て、蒸着を行なう場合、蒸着用シャッタ３には、蒸着源
２からの距離が近いこともあって、蒸着粒子が付着堆積
し易く、又シャツタ板の温度が低いため付着力が弱く、
第２図に示すように、蒸着用シャッタ３に付着した蒸米
粒子が脱落して、溶融中の蒸着物質の中に落下し、突沸
現象が起ったシ、蒸着物質の中に異種利料が混入して、
純度が低下するという問題があった。
特に蒸着用シャッタ３が一枚であるので、同一真空中で
基板４上に異種材料から成る多層胛を得ようとする場合
には、材料を切替える度に蒸着用シャッタ３を開閉する
ことになシ、蒸着用シャッタ３の開閉頻度が多くなる。
基板４上に異種材料から成る多層胛を得ようとする場合
には、材料を切替える度に蒸着用シャッタ３を開閉する
ことになシ、蒸着用シャッタ３の開閉頻度が多くなる。
その結果として、蒸着用シャッタ３への黒海ｆ粒子の付
着量が多くなシ、しかも蒸着用シャッタが１枚であるの
で、異種材料の蒸着粒子が層状に付着して急激に冷える
ため、各付着層間にひずみが生じ、同一物質が付着した
場合と比較して一段と脱落が激しくな）、且つ多種類の
異種材料が混在して込るので、一層蒸着物質の純度を低
下させるという欠点があった。
着量が多くなシ、しかも蒸着用シャッタが１枚であるの
で、異種材料の蒸着粒子が層状に付着して急激に冷える
ため、各付着層間にひずみが生じ、同一物質が付着した
場合と比較して一段と脱落が激しくな）、且つ多種類の
異種材料が混在して込るので、一層蒸着物質の純度を低
下させるという欠点があった。
本発明は、上記従来の問題乃至は欠点を角状した池膜形
成用シャッタを提供せんとするものである。
成用シャッタを提供せんとするものである。
即ち不発８Ａは、従来のように１枚の蒸着用シャッタで
はなく、複数枚の蒸着用シャッタを設け、蒸着物質の利
料又はシャッタへの（＝Ｊ着積によって、シャッタを選
択的姉使用し、上記従来の欠点を解決したものであって
、複数枚の蒸着用シャッタを真空容器の中に回転可能に
軸支臥この複数枚の蒸着用シャッタを選択的に１枚づつ
回動させる機構を備え、蒸着物黄の利科に合せて、又は
、シャツタ板への付着量によって、選択的に蒸着用シャ
ッタを、蒸着源あるいは、スパッタ源の上面まで回転さ
せ、蒸着用シャッタに付着した蒸着粒子の脱落を防止す
るようにしたことを特徴とする。
はなく、複数枚の蒸着用シャッタを設け、蒸着物質の利
料又はシャッタへの（＝Ｊ着積によって、シャッタを選
択的姉使用し、上記従来の欠点を解決したものであって
、複数枚の蒸着用シャッタを真空容器の中に回転可能に
軸支臥この複数枚の蒸着用シャッタを選択的に１枚づつ
回動させる機構を備え、蒸着物黄の利科に合せて、又は
、シャツタ板への付着量によって、選択的に蒸着用シャ
ッタを、蒸着源あるいは、スパッタ源の上面まで回転さ
せ、蒸着用シャッタに付着した蒸着粒子の脱落を防止す
るようにしたことを特徴とする。
父上記蒸着用シャッタにおいて、シャツタ板を着脱容易
なようにホルダに嵌着し、シャツタ板の掃除を容易なら
しめたことも特徴である。
なようにホルダに嵌着し、シャツタ板の掃除を容易なら
しめたことも特徴である。
以下本発明の一実施例につｈて詳細ＶＣ説明する。先ず
、詳細な説明に当って、第４図及び第５図を用い、実施
例の概略を説明する。
、詳細な説明に当って、第４図及び第５図を用い、実施
例の概略を説明する。
図において、本実施例の場合、蒸着用シャッタ３は、ホ
ルダ１０にシャツタ板９を嵌着して構成されている。こ
の蒸着用シャッタ３は、スペーサ１３及び軸受１１を介
して、回転可能に複数枚？Ｉ＋ １２に軸支され、真空
容器１内に設けられてＶる。又上記ホルダｌＯには、切
欠き１５．１６が設けられており、これら切欠き１５．
１６は、ストッパ１７とレバー１８の突出部に係合する
ようになっている。又軸１２は、連結ロッド２３を介し
て送りネジ２４に連繋しておシ、送υネジ２４の回転に
よりて軸１２は、蒸着用シャッタ３と共に上下動する。
ルダ１０にシャツタ板９を嵌着して構成されている。こ
の蒸着用シャッタ３は、スペーサ１３及び軸受１１を介
して、回転可能に複数枚？Ｉ＋ １２に軸支され、真空
容器１内に設けられてＶる。又上記ホルダｌＯには、切
欠き１５．１６が設けられており、これら切欠き１５．
１６は、ストッパ１７とレバー１８の突出部に係合する
ようになっている。又軸１２は、連結ロッド２３を介し
て送りネジ２４に連繋しておシ、送υネジ２４の回転に
よりて軸１２は、蒸着用シャッタ３と共に上下動する。
例えば、第５図の状態は、軸１２が最も下降した状態に
あり、最上部にあるホルダ１０の切欠き１６とレバー１
８の突出部とが係合し、一方ストッパ１）と他のホルダ
１０の切欠き１５とが係合し、ね上段にあるホルダ１０
の切欠き１５が自由になっておシ、レバー１８によって
最上部にあるホルダ１０が選択的に回転させられる状態
にある。このようにして、送シネジ２４によって軸１２
を蒸着用シャッタ３と共に上下動し、初ε１枚ある蒸着
用シャッタ３を選択的に回転させる。
あり、最上部にあるホルダ１０の切欠き１６とレバー１
８の突出部とが係合し、一方ストッパ１）と他のホルダ
１０の切欠き１５とが係合し、ね上段にあるホルダ１０
の切欠き１５が自由になっておシ、レバー１８によって
最上部にあるホルダ１０が選択的に回転させられる状態
にある。このようにして、送シネジ２４によって軸１２
を蒸着用シャッタ３と共に上下動し、初ε１枚ある蒸着
用シャッタ３を選択的に回転させる。
第４図において、蒸角源２ＩＣは、２ａ、 ％ ２ｆま
での６個のるつ鋳を設け、そｉｌぞれのるつほにｄ：、
異種蒸着物質が入っている。この２σ〜２ｆの６個のる
つばに対応して蒸着用シャッタ３を６枚設け、それぞれ
のるつけに対応した蒸オ、ｌ用シャッタ３を選択的に回
転し、蒸着粒子を辿蔽すれば、シャツタ板９に旬着する
蒸着粒子は、回−材料であり、従って脱落のＥＪ能性が
少なく、又たとえ脱落してもるつは内のものと同−利）
［であるのでるつは内の蒸射物質の純良は損なわれない
。又シャツタ板９は、ホルダ１０に対し廟脱容易になっ
ているので、シャツタ板９の掃除が容易であシ、シャツ
タ板９を挿除することによって伺着物の脱落の可能性が
少なくなる。
での６個のるつ鋳を設け、そｉｌぞれのるつほにｄ：、
異種蒸着物質が入っている。この２σ〜２ｆの６個のる
つばに対応して蒸着用シャッタ３を６枚設け、それぞれ
のるつけに対応した蒸オ、ｌ用シャッタ３を選択的に回
転し、蒸着粒子を辿蔽すれば、シャツタ板９に旬着する
蒸着粒子は、回−材料であり、従って脱落のＥＪ能性が
少なく、又たとえ脱落してもるつは内のものと同−利）
［であるのでるつは内の蒸射物質の純良は損なわれない
。又シャツタ板９は、ホルダ１０に対し廟脱容易になっ
ているので、シャツタ板９の掃除が容易であシ、シャツ
タ板９を挿除することによって伺着物の脱落の可能性が
少なくなる。
以下その詳細をさらに計しく説明する。本人施例の平面
を示した第４図をＡ −Ｂ −Ｃ’貼ｉｎ１して示した
第５図において、蒸着源２は、２ａ〜２ｆの６個のるつ
ばを弔し各々Ｎａる杓料を入れることができ、例えは第
４図２αのるつほにおいて電子ビーム、抵抗加熱等の手
段でるつ龜２α内の物質を溶融蒸発させる。蒸着用シャ
ッタ３は、ホルタ１０にシャツタ板９を嵌着して拵成さ
ｈている。この嵌着の仕方として、第５図の場合は、シ
ャツタ板９の形状に合せてホルタ１０に設けられた凹穴
ｒ（シャツタ板９を落し入れたものを示し、第６図の場
合は、シャツタ板９の形状に合せてホルダ１０にビン２
）を植設し、ホルダ１０上にシャツタ板９を載置したも
のを示し、又第７図の場合は、ホルダ１０上に他殺した
ビン２７の位置顔合せてシャツタ板９に孔を穿設し嵌着
したものである。このように構成した蒸着用シャッタ３
は、スペーサ１３によって互いにギャップを保ちなから
軸受１１を介して軸１２に回転可能なように複数枚取付
けられている。１４は蒸射用シャッタを軸１２に固定す
るためのナツトである。ホルダ１０には、切欠き１へ１
６が設けられており、この切欠き１１％１６Ｆｉ、それ
ぞノしストツノく１フとレノ酬１８の突出部に係合する
ようになっている。レノく１８は、０リング２１によっ
て真空容器１の真空シールをしながら、真を容器１の底
部を貝通し、ギヤ列２０を介してモータ１９によシ回転
させられるようＫなっている。軸１２は、レバ１８の回
転中心を貫通し、化の下端は、連結ロッド２３を介して
送りネジ２４に連駆され、送りネジ２４の回転によって
、蒸着用シャッタ３と共に上下動するようになっている
。送りネジ２４によ、ギヤ列２６を舜ｌ−てモータ２５
によって回転させられる。なお、２２は真空シールをす
るための０リンク゛である。
を示した第４図をＡ −Ｂ −Ｃ’貼ｉｎ１して示した
第５図において、蒸着源２は、２ａ〜２ｆの６個のるつ
ばを弔し各々Ｎａる杓料を入れることができ、例えは第
４図２αのるつほにおいて電子ビーム、抵抗加熱等の手
段でるつ龜２α内の物質を溶融蒸発させる。蒸着用シャ
ッタ３は、ホルタ１０にシャツタ板９を嵌着して拵成さ
ｈている。この嵌着の仕方として、第５図の場合は、シ
ャツタ板９の形状に合せてホルタ１０に設けられた凹穴
ｒ（シャツタ板９を落し入れたものを示し、第６図の場
合は、シャツタ板９の形状に合せてホルダ１０にビン２
）を植設し、ホルダ１０上にシャツタ板９を載置したも
のを示し、又第７図の場合は、ホルダ１０上に他殺した
ビン２７の位置顔合せてシャツタ板９に孔を穿設し嵌着
したものである。このように構成した蒸着用シャッタ３
は、スペーサ１３によって互いにギャップを保ちなから
軸受１１を介して軸１２に回転可能なように複数枚取付
けられている。１４は蒸射用シャッタを軸１２に固定す
るためのナツトである。ホルダ１０には、切欠き１へ１
６が設けられており、この切欠き１１％１６Ｆｉ、それ
ぞノしストツノく１フとレノ酬１８の突出部に係合する
ようになっている。レノく１８は、０リング２１によっ
て真空容器１の真空シールをしながら、真を容器１の底
部を貝通し、ギヤ列２０を介してモータ１９によシ回転
させられるようＫなっている。軸１２は、レバ１８の回
転中心を貫通し、化の下端は、連結ロッド２３を介して
送りネジ２４に連駆され、送りネジ２４の回転によって
、蒸着用シャッタ３と共に上下動するようになっている
。送りネジ２４によ、ギヤ列２６を舜ｌ−てモータ２５
によって回転させられる。なお、２２は真空シールをす
るための０リンク゛である。
又前記したシャツタ板９の大きさは、黒海３粒子の大部
分が付着する大きさが必要であル、実用的にはるつは径
の５倍以上が望ましい。以上のよう忙構成した本実施例
の作用を以下説すノＪすも各蒸着用シャッタ３は、１枚
当りの蒸着粒子の付着量や蒸着月利の種類に尾、じて選
択的に使用される。
分が付着する大きさが必要であル、実用的にはるつは径
の５倍以上が望ましい。以上のよう忙構成した本実施例
の作用を以下説すノＪすも各蒸着用シャッタ３は、１枚
当りの蒸着粒子の付着量や蒸着月利の種類に尾、じて選
択的に使用される。
一方シャッタ板９は、蒸着粒子の付治紺が一定限度越え
た時点で取外して、新しいシャツタ板９と交換し、取外
されたシャツタ板９は、きれ込に掃除され保管する。
た時点で取外して、新しいシャツタ板９と交換し、取外
されたシャツタ板９は、きれ込に掃除され保管する。
本実施例の場合は、蒸着源２に設けたるつは２α〜２ｆ
の６個に対し、６枚の蒸后用シャッタ３を設け、蒸着利
刺の種類に応じて選択的に蒸着用シャッタ３を切替え、
使用するようにしたものである。以下これについて作用
を説明する。・先ず蒸着用シャッタ３の選択切替え操作
について説明する。第５図におりて、利１１１２は、送
りネジ２４によって上下動さぜられ、これに伴って蒸着
用シャッタ３も上下動する。この蒸射用シャッタ３の上
下動によりて、レバ１８の突出部は、。
の６個に対し、６枚の蒸后用シャッタ３を設け、蒸着利
刺の種類に応じて選択的に蒸着用シャッタ３を切替え、
使用するようにしたものである。以下これについて作用
を説明する。・先ず蒸着用シャッタ３の選択切替え操作
について説明する。第５図におりて、利１１１２は、送
りネジ２４によって上下動さぜられ、これに伴って蒸着
用シャッタ３も上下動する。この蒸射用シャッタ３の上
下動によりて、レバ１８の突出部は、。
ホルダ１０に設けた切欠き１６を選択して係合する。
このようにして、レバ１８の突出部と切欠き１６とが係
合したホルダ１０の他の切欠き１５は、ストッパ１７の
切欠き部にちょうど位置しており自由な状態となってお
り、レバ１８の回転によって、ホルダ１０は回転させら
れる。この時他の切欠き１５は、ストッパ１フに係合し
、蒸着用シャッタ３は、回転しない。このようにして、
送りネジ２４のｕ作によって先ず、蒸着用シャッタ３を
選択し、次いでレバ１８を回転して蒸着用シャッタ３を
回転させる。
合したホルダ１０の他の切欠き１５は、ストッパ１７の
切欠き部にちょうど位置しており自由な状態となってお
り、レバ１８の回転によって、ホルダ１０は回転させら
れる。この時他の切欠き１５は、ストッパ１フに係合し
、蒸着用シャッタ３は、回転しない。このようにして、
送りネジ２４のｕ作によって先ず、蒸着用シャッタ３を
選択し、次いでレバ１８を回転して蒸着用シャッタ３を
回転させる。
今仮りに、第４図において、るつ１１２αに対応して、
第５図の最上段の蒸着用シャッタ３を伯、用し、順次る
つは２ｂに対応して二段目の蒸着用シャッタ３を選択的
に使用するようにすれば、蒸着用シャッタ３は、常に同
じ＃着利料を入ノ′たるつｔｌを遮蔽することになる。
第５図の最上段の蒸着用シャッタ３を伯、用し、順次る
つは２ｂに対応して二段目の蒸着用シャッタ３を選択的
に使用するようにすれば、蒸着用シャッタ３は、常に同
じ＃着利料を入ノ′たるつｔｌを遮蔽することになる。
従ってシャツタ板９に付着する蒸着粒子は、同じ材質の
ものとなって単一層として付着し、多層付着のような層
間のひずみは起らず、安定した付着となつて脱落はしな
い。
ものとなって単一層として付着し、多層付着のような層
間のひずみは起らず、安定した付着となつて脱落はしな
い。
上記した蒸着材料の種類に対応して蒸悪用シャッタ３を
選択的に切替える以外の使用例として、例えば蒸着用シ
ャッタ３の数に対して、るつほの数が多いような場合は
、シャツタ板９に付着する蒸着粒子は同−利質ではなく
なり、多層付着となる。このような場合は、シャツタ板
９への蒸着粒子の付着量を検出し、（例えは使用回数）
シャツタ板９を取外して、新らしいものと交換する。こ
の父換頻度は、複数枚設けら２した蒸着用シャッタ３の
全部に、ある一定量付着するまで交換する必要がなく、
蒸沿用シャッタ３の設置枚数によって決まる。
選択的に切替える以外の使用例として、例えば蒸着用シ
ャッタ３の数に対して、るつほの数が多いような場合は
、シャツタ板９に付着する蒸着粒子は同−利質ではなく
なり、多層付着となる。このような場合は、シャツタ板
９への蒸着粒子の付着量を検出し、（例えは使用回数）
シャツタ板９を取外して、新らしいものと交換する。こ
の父換頻度は、複数枚設けら２した蒸着用シャッタ３の
全部に、ある一定量付着するまで交換する必要がなく、
蒸沿用シャッタ３の設置枚数によって決まる。
以上において、蒸着用シャッタについて説明したが、ス
パッタについても同様の使用が可能である。
パッタについても同様の使用が可能である。
以上詳述した通り、本発明の蒸滝用シャッタによれば、
複数枚の蒸着用シャッタを設け、このシャッタを選択し
て切換え使用できるようにしたので、シャツタ板への蒸
着粒子の付着は、回−材料の単−屑付着とすることがで
き、又−オスの蒸着用シャッタの使用頻度も少くなり、
これら相剰効果によって、汝定した付着となシ、句着し
た蒸着粒子の脱落は起らない。又シャツタ板を取外し容
易にしたのでシャツタ板の取換えが容易となシ、たとえ
異種利料の多層付着でも、一定量の付着量になった状態
でシャツタ板を取換えるので、シャツタ板に付着した蒸
着粒子の脱落は起らない。
複数枚の蒸着用シャッタを設け、このシャッタを選択し
て切換え使用できるようにしたので、シャツタ板への蒸
着粒子の付着は、回−材料の単−屑付着とすることがで
き、又−オスの蒸着用シャッタの使用頻度も少くなり、
これら相剰効果によって、汝定した付着となシ、句着し
た蒸着粒子の脱落は起らない。又シャツタ板を取外し容
易にしたのでシャツタ板の取換えが容易となシ、たとえ
異種利料の多層付着でも、一定量の付着量になった状態
でシャツタ板を取換えるので、シャツタ板に付着した蒸
着粒子の脱落は起らない。
このようにして蒸着粒子の脱落が防止された（ハで、蒸
着源あるし）はスパッタ源−Ｎの異物の混入はなくなシ
、不純物の少い高品質の薄膜とすることができ、顕著な
効果を奏する。
着源あるし）はスパッタ源−Ｎの異物の混入はなくなシ
、不純物の少い高品質の薄膜とすることができ、顕著な
効果を奏する。
又蒸着用シャッタを複数枚設けたので、一枚の蒸着用シ
ャッタの使用赤丸が少なくなり、真空を破らずに長時間
の使用が可能となシ、その分力こけ生産性を向上させる
ことができるなど似れた効果を賽する。
ャッタの使用赤丸が少なくなり、真空を破らずに長時間
の使用が可能となシ、その分力こけ生産性を向上させる
ことができるなど似れた効果を賽する。
第１図は、蒸着装酋の概略を説明するために示した説明
用図、第２図は、従来の蒸着用シャッタの問題点を説明
するために示した説明用図、第３図は、従来の蒸着用シ
ャッタの斜視図である。第４図乃至第７図は、本発明の
実施例であわ、第４図は本実施例の平面図、第５図は、
第４図のＡ−Ｅ−Ｃｈ面図、第６図及び第１図は、シャ
ツタ板とホルダとの嵌着状態を示す他の実施例である。 ｌ・・・真空容器、 ２・・・蒸着源、３・・・蒸着用
シャッタ、 ４・・・基板、９・・・シャツタ板、ｌＯ
・・・ホルダ。 早 １ 図 ！ 牛Ｚ図 １ ＋ ３ 図 参 ４ 図 斗 タ 図 ７
用図、第２図は、従来の蒸着用シャッタの問題点を説明
するために示した説明用図、第３図は、従来の蒸着用シ
ャッタの斜視図である。第４図乃至第７図は、本発明の
実施例であわ、第４図は本実施例の平面図、第５図は、
第４図のＡ−Ｅ−Ｃｈ面図、第６図及び第１図は、シャ
ツタ板とホルダとの嵌着状態を示す他の実施例である。 ｌ・・・真空容器、 ２・・・蒸着源、３・・・蒸着用
シャッタ、 ４・・・基板、９・・・シャツタ板、ｌＯ
・・・ホルダ。 早 １ 図 ！ 牛Ｚ図 １ ＋ ３ 図 参 ４ 図 斗 タ 図 ７
Claims (2)
- （１） 真空容器の内部に回転可能に軸支された複数枚
の蒸着用シャッタと、該複数枚の蒸射用シャッタを選択
的に１枚づつ回動させる機構とから成シ、上記蒸着用シ
ャッタを蒸着源ある旨はスパッタ源の上面まで選択的に
回動し、薄膜わｌ子を遮蔽するようにしたことを特徴と
する薄膜形成用シャッタ。 - （２） 特許請求の範囲第１項記載の蒸着用シャッタ
において、薄膜粒子を遮蔽する部分を板状に成形してシ
ャツタ板と々し、該シャツタ板をホルダに嵌着して蒸着
用シャッタと成し、該ホルダを複数個回転可能に軸支し
、ホルダを選択的に回動させるようにしたことを特徴と
する薄膜形成用シャッタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16831682A JPS5959881A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | 薄膜形成用シヤツタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16831682A JPS5959881A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | 薄膜形成用シヤツタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5959881A true JPS5959881A (ja) | 1984-04-05 |
Family
ID=15865768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16831682A Pending JPS5959881A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | 薄膜形成用シヤツタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5959881A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63290261A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-11-28 | Hitachi Ltd | 膜形成装置のシヤツタ機構 |
| JPH02213466A (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-24 | Mitsubishi Electric Corp | 蒸着装置 |
| CN106868455A (zh) * | 2017-03-17 | 2017-06-20 | 武汉华星光电技术有限公司 | 蒸镀坩埚及蒸镀装置 |
| WO2021052592A1 (en) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | Applied Materials, Inc. | Method of operating an evaporation source, evaporation system, and shield handling apparatus |
| WO2021052595A1 (en) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | Applied Materials, Inc. | Method of operating an evaporation source, evaporation system, and shield handling apparatus |
-
1982
- 1982-09-29 JP JP16831682A patent/JPS5959881A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63290261A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-11-28 | Hitachi Ltd | 膜形成装置のシヤツタ機構 |
| JPH02213466A (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-24 | Mitsubishi Electric Corp | 蒸着装置 |
| CN106868455A (zh) * | 2017-03-17 | 2017-06-20 | 武汉华星光电技术有限公司 | 蒸镀坩埚及蒸镀装置 |
| WO2021052592A1 (en) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | Applied Materials, Inc. | Method of operating an evaporation source, evaporation system, and shield handling apparatus |
| WO2021052595A1 (en) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | Applied Materials, Inc. | Method of operating an evaporation source, evaporation system, and shield handling apparatus |
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