JPS5955848A - スチルベン−4,4′−ジアルデヒドの製造方法 - Google Patents

スチルベン−4,4′−ジアルデヒドの製造方法

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JPS5955848A
JPS5955848A JP57166765A JP16676582A JPS5955848A JP S5955848 A JPS5955848 A JP S5955848A JP 57166765 A JP57166765 A JP 57166765A JP 16676582 A JP16676582 A JP 16676582A JP S5955848 A JPS5955848 A JP S5955848A
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stilbene
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はスチルベン−4,4′−ジアルデヒドを製造
するための新規な方法に関する。
ビニル的に、又はアリル的に置換された有機化合物、中
でもスチロール類又はスチルベン類は対応するハロゲン
化物を第3級アミンの存在のもとに、例えばアクリル酸
メチルエステルやエチレンのようなオレフィン類と接触
的に反応させることによって製造することができる。触
媒としては好ましくは酢酸パラジウムとトリノエニルホ
スフィン又はトリー0−トリルホスフィンとの混合物が
用いられる。この反応は有機溶剤、例エバメタノール、
アセトニトリル、N。
N−ジメチルホルムアミド、又はN、N−ジメチルアセ
トアミド等を添加し、又は添加することなく、或は過剰
のオレフィンを用いて実施することができる1、ハロゲ
ン化ペンゾールとエチレンとを圧力のもとで反応さぜた
場合にそねぞハの反応条件及び/又は出発ハロゲン化ペ
ンゾールに従ってスチロール類及び/又はスチルベン類
が牛する〔例えば米国特Fl−第:4922299号公
報汲びJ、Org、Chem、43.24!’i4及び
同す−92941(+!178)参照〕。日本化学会誌
46.1505(目17 :3)によJlば種々のオレ
フィン類、中でもエチレン又はプロピレンを白金黒又は
Pc1C12と、及び酸受容体としての酢酸カリウl、
の議剰との存在のもとにハロゲン化ペンゾール類、中で
もヨードペンゾール類のメタノールi ’M 液を用℃
・て芳香族化すて)ことができる。こねらの既知の方法
においてはバラジウノ、化合物はハロゲン化ペンゾール
にえJして少なくとも1モル%以上の開で使用される。
本発明者は触媒としてパラジウノ、化合物と塩基とσγ
存在のもとにエチレンを4−ブロモベンズアルデヒドと
反応させることによりスチルベン−4,4′−ジアルデ
ヒドを製造する方法を見出したが、こhはその反応を0
01ないし1バールのエチレン分圧において実施するこ
とを特徴とするものである。
本発明に従うこの方法によればスチルベン−4,4′−
ジアルデヒドを混和な反応条件のもとで、また容易に入
手できる4−ブロモベンズアルデヒドの使用のもとに経
済的に簡単に製造することができる。この場合に非常に
低いエチレン分圧のもとで驚く程短かい反応時間の間に
予期しない程の高い収率を得ることができる。
好ましくはこの反応は01ないし10バールのエチレン
分圧において実施さ、lする。上に規定したエチレン分
圧は、例えばエチレンを常圧のもとて反応溶液中に導入
するか、又は不活性ガスを密閉リアクタ中に予め入れて
おくことによって達成することができる。
これらの型の触媒や4−ブロモベンズアルデヒドは公知
である。公知の触媒であって公知の方法により製造でき
なし・ものはない1.エチレン及び4−ブロモベンズア
ルデヒドは少なくとも化学州論酌量以上の量で用いら脂
する。
塩基としては本発明に従う方法においては下記式(1)
又は(川、即し く但し上式においてQは直鎖又は分岐鎖状のC2−−−
C6のアルキレン基を表わし、Q+は例えば塩素又は臭
素のような・・ロゲン原子或はCI−C。
の、中でもCl−02のアルキル基又はアルコキン基に
よって置換されていてもよ(・Cl−CI2のアルキル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基
、又はベアジル基を、C2及びC3ばq、に同一である
か又は異っている自−CI2のアルキル基を5そしてC
4はメチル基又はエチル基を意味する)の化合物を使用
することができろ。
上式におけるQlないしQ−4のアルキル基は直鎖状で
あっても又は分岐鎖状であってもよい。
Q+ないしQ がアルキル基であるときはこれらは合計
して少なくとも9個以上の炭素原子を有するのが有利で
ある。好ましくは式(1)の化合物が用いられる。
上記式(1)及び(2)の化合物の例としては、トリエ
チルアミン、トリー11−ブチルアミ/、トリー(2−
エチルヘキシルアミン)、トIJ−n−オクチルアミン
、トリーn−ドデシルアミン、及び例えばN−ベンジル
ジメチルアミン、N−ベンジルジエチルアミン、N−(
4−クロロベンジル)−ジメチルアミン、及びN−(3
−メチル−又は3−メトキシ−ベンジル)−ジメチルア
ミンのよりなN−ベンジルジアルキルアミン、N 、 
N 、 N’ 、 N’−テトラメチル−エチレンジア
ミン、N 、 N 、 N’ 、 N’−テトラエチル
−エチレンジアミン、N 、 N 、 N’ 、 N’
−テトラメチル−1,3−ジアミノプロパン、及びN、
N。
N’ 、 N’−テトラメチル−1,6−ジアミツヘキ
サンがあげられる。好ましくはトリーn−ブチルアミン
が用いられる。
こねらの塩基は少なくとも化学量論的量以上の量で使用
される。好ま1〜くは4−ブロモベンズアルデヒドに対
して過剰の塩基、たとえば約5モルまでの、中でも12
5モルの塩基が用いらiする。
本発明に従う反応のための反応温度は好都合には30℃
から200℃まて′、中で′も80℃と150℃との間
である。好ましくはこの反応はその反応成分に対して不
活性の有機溶剤中て行なわ才する1、適当1(不活性有
機溶剤は環式アミド類、又はN、N−ジ置換のアミド類
、中でも下記式(曲 Q 5Q 6NcoQ7     (II)〔但し上式
においてC5及びC6は仏に独立(〜て直鎖状又(」−
゛分岐鎖状のC、−C8のアルギル基、C,、−C8の
シクロアルキル基、又はベンンル基を意味するか、又は
−緒になって−(CII2)、−1−(CI]2)4−
1又は−(CH2)2−0−(C■■2)2−を表わし
、そしてC7は水素原子、直鎖状又は分岐鎖状のCl−
C8のアルキル基を意味するか、又はC5と一緒になっ
て−(CH2)、−を表わし、その際qは3,4.又の
5の数を意味する〕の化合物で゛ある。
アルキル基Q5及びC6は好ましくは1個ないし5個、
中でも1個ないし3個の炭素原子を有する。もしC5及
び/又はC6がシクロアルキル基を表わす場合には、中
でもシクロペンチル基又はシクロヘキシル基が対象とな
る。アルキル基Q3は好ましくは1個又は2個の炭素原
子を有する、上記式(]■)の化合物の例としては、N
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチルホルムア
ミド、N、N−ジ−n−ブチルホルムアミド、N、N−
ジイソペンチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド、N、N−ジメチルグロピオンアミド、N−メチ
ル−N−ベンジルホルムアミド、N−エチル−N−シク
ロへキンルホルムアミド、N−ホルミルピペリジン、N
−ホルミルピロリジン、N−アセチルモルポリン、N−
メチルピロリドン、N−エチルピロリドン及びN−メチ
ルピペリドンがあげらJする。
好マしくは溶剤としてN、N−ジメチルポルムアミド、
N、N−ジエチルホルムアミド、N。
N−ジノチルアセトアミド又はN−メチルピロリドンが
用いら、iする。特に好まし℃・ものはN。
N−ジノチルホルムアミドである。溶剤としてはまた、
N、N、N’、N’−テトラメチル尿素を使用すること
も可能である。
触媒としては例えば米国特許第3922294)号公報
に記述さオ′1ているようなパラジウノ、錯化合物、中
でもパラジウム(11)錯化合物、即し例えばトリアル
キル−、トリアリール−、トリアルコキン−及びトリフ
ェノキン−ホスフィン類或は−アルシン類のような3価
の燐化合物又はヒ素化合物、或は混合置換の3価の燐又
はヒ素の化合物と、例えばPdCl’2 、Pc1Br
2、Pd(CN)2、Pd(NOs)z −Pd(CH
3COCI(COCHz )2、P (I COOC’
(C1−012アルキル)〕2、中でも酢酸パラジウム
等との錯塩、更ンこはまた例えばビス−(ジベンジリデ
ンアセトン)パラジウム(0)及びビス−(フエyルイ
ソニトリル)パラジウム(0)とのパラジウム(0)錯
化合物を使用することができる。
このような燐又はヒ素の化合物の例としては、トリフェ
ニルアルソン、ジフェニルメチルホスフィン、ジンエニ
ルメトキシホスフイン、トリメチルホスフィン、トリエ
チルホスフィン、トリーn−ブチルホスフィン、トリフ
ェニルホスフィン、フェニル−ジーn−ブトキ/ホスフ
ィン、トリフェニルホスファイト及び特ニトリーo−ト
リルポスフィンがあげられよう。これらの錯化合物はそ
のような姿で使用するか、又はその場で、即らその反応
媒体内で生成させることができる。
上記の燐−配位子或はヒ素−配位子は好都合にはパラジ
ウムに対して2なし・し10倍モルの過剰量で用いられ
る。好ましくは触媒としてPdCIz 又は幹酸パラジ
ウムとトリーn−ブチルホスフィン、トリフェニルホス
フィン、トリー o −トリルホスフィン又はトリフェ
ニルホスファイトとの混合物が用いられる。特に好まし
いものは酢酸パラジウムとトリフェニルホスフィン又は
トリー0−トリルホスフィンとの混合物である。
本発明に従し・製造することのできるスチルベン−4,
/l’−ノアルデヒドは公知の種々の光学的明色化剤の
製造に使用することができる。この種の光学的明色化剤
は例えば米国特許第4.1(18,887号公報中に記
述さ、hている。本発明に従し・製造さiする化合物は
更にまた、場合により例えばアミン基等の適当な詔能基
の導入のもとに及び/又はその芳香族基のスルホン化に
よって公知のよ5に染料又は光学的明色化剤に変えるこ
とかできる(例えばEncyclopedia orC
hemical Tcchnology等2版、第19
巻]ない1− + t)fj 参!!<t )。スチル
ベンill&ヒスチルベン誘導体を4、また、ン/チレ
 タ、接着剤添加物、殺虫剤或は光安定化剤としても用
(・られる(例えばCl1c+n1cal Al)st
racts 78 、39352 、同84゜1 :3
7 :386及び同85,224]6参照)。
本発明を以下、幾つかの実施例によって説明するが、こ
れらは発明を何等縮減するものではない。
例  1 アルゴン雰囲気のもとて20m1のジメチルホルムアミ
ド中に002244g(00001モル)の酢酸パラジ
ウム及び0.1216 g(0,0004モル)のトリ
ー(0−トリル)−ホス−フィンを溶解した基礎溶液を
作る。還流装置中にエチレン雰囲気のもとにg、 5 
mlのジノチルホルムアミドを入れ、そして4.63 
g(25ミIJモル)の4−ブロモベンズアルデヒド、
6.56 ml (22,5ミリモル)のトリーn〜ブ
チルアミン及び05m1の基礎溶液を加える。この混合
物を130℃においてエチレンの同時的導入のもとに8
時間攪拌する。次にこの反応混合物に20m+!の水を
加え、その際析出するスチルベン−4,4′−ジアルデ
ヒドを濾別する。22 s 、9 (9,5ミ+)モル
)のスチルベン−4,4’−ジアルデヒドが融点170
−172℃の黄色結晶として得られ、これは理論値の7
6%の収率に相当する〔4−プロモベノズアルデヒドに
対して001モル%のp d含治部、転化数、即しく最
終生成物のモル数)/(P(+化合物のモル数):4−
プロモベ7スアルテヒドに関してv 6 o o 3゜
例  2 十記例1に言己述したと同様に行なうが、但しトリー1
1  ブチルアミンの代りKN−ベンジルジメチルアミ
ンイI 4 +11/!(27,5ミリモル)を川(・
イ)。1.77 !1(7,5ミリモル)のスチルイノ
−4,4′−ジアルデヒドが得られ、こilは理論値の
60%の収率に相当する(P(1含有94.’ : 0
.01モル%、転化数: 6 o o o )。
例  3 前記例1に記述したと同様に行なうが、但しジメチルポ
ルムアミドの代りKN、N−ジノチルアセトアミドを用
いる。
2:う7.9(JOOミリモル)のスチルベン−4,4
′−ジアルデヒドが得られ、これは理論値のRO%の収
率に相当する(Pd含有−fil:o、ojモル%、転
化数:8000)。
例  4 前記例1に記述したと同様に行なうが、但しジメチルホ
ルムアミドの代りにN−メチルピロリドンを用し・る。
2.22 g(9,4ミリモル)のスチルベン−4,4
′−ジアルデヒドが得られ、これは理論値の75%の収
率に相当する( P’cl含有量:0.0]モル%、転
化数: 7500)。
例  5 前記例】に記述したと同様に行なうが、但しジメチルホ
ルムアミドの代りにN 、 N 、 N’ 、 N’ 
−テトラメチル尿素を用いる。2.05 g(8,7ミ
リモル)のスチルベン−4,4’−ジアルデヒドが得ら
れ、これは理論値の699’oの収率に相当する(Pd
含有量=001モル%、転化数6900)。
例  6 前記例】に記述したと同様に行なうが、但し0、2 m
lの基礎溶液及びg、 B mlのジメチルホルムアミ
ドを用いる。反応時間16時間の後で233g(99ミ
リモル)のスチルベン−4,4′−ジアルデヒドが得ら
れ、これは理論値の79%に相当する(P(1含有囲、
 : 0.004モル%、転化数:J975(+)。
例  7 前記例Jに記述したと同様に行なうが、但し2、5 m
lの基礎溶液及び7.5 ml!のジメチルホルムアミ
ドを用〜・る。2.22 g(9,4ミリモル)のスチ
ルベン−4,4’−ジアルデヒドが得うレ1、二J1は
理論値の75%の収率に相当する(pd含有弼: (1
,05モル%、転化数:]500)特へ′丁出願人 ヂバ−= ガイギ−アクチェン ゲセルンヤフト代理人 251

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 11)  触媒としてのパラジウム化合物と塩基との存
    在のもとにエチレンと4−ブロモベンズアルデヒドとを
    反応させることによりスチルベン−4,47−ジアルデ
    ヒドを製造するに肖り、コノ反応を(〕01ないし1バ
    ールのエチレン分圧において実施することを特徴とする
    、上記スチルベン−/1.4’−ジアルデヒドの製造方
    法 (2)  反応を触媒と(2て酢酸パラジウムとトリー
    0−トリルホスフィンとの混合物の存在のもとに実施す
    る、上記特許請求の範囲第1項に記載の方法。 13)  反応を01バールと1,0バールとの間のエ
    チレン分圧におし・て実施する、上記特許請求の範囲第
    2項に記載の方法。 (4)触媒を4−ブロモベンズアルデヒドに対して0.
    01ないし2モル%の量で使用する、上記特許請求の範
    囲第3項に記載の方法。 (5)  反応を30°Cと20 (+ ’Cとの間の
    温度、特に80℃と150℃との間の温度において、且
    反応成分に対して不活性な有機溶剤の存在のもとで行な
    わせる、上記特許請求の範囲差1項ないし第4項のいづ
    れかに記載の方法。 (6)  溶剤として環状アミド又はN、N−ジ置換の
    アミドを用いる、上記特許請求の範囲第5項に記載の方
    法。 (力 反応を塩基の存在のもとで行なわせる、上記特許
    請求の範囲第1項ないし第6項のいづれかに記載の方法
    。 (8)塩基として次式 の化合物(但し上式においてQは直鎖状又は分岐鎖状の
    C2−c6  のアルキレン基を意味し、またQ+は例
    えば塩素又は臭素のようなハロゲン原子或はC1−C,
    lの、中でもCl−C2のアルキル基又は、アルコキシ
    基によって置換されて(・でもよいCl−CI2のアル
    キル基、シクロペンチル基、シクロペンチ基、フェニル
    基、又はベンジル基を表わし、そして。2及びC3は−
    qに同一の、又は異っているc、  CI2のアルキル
    基を、またC4はメチル基又はエチル基な意味する)を
    使用する、上記特許請求の範囲第7項に記載の方法。 (9)  塩基と[〜でトリーn−ブチルアミンを使用
    する、」二記特許請求の範囲第8項に記載の方法7、 (10)溶剤と(7て、下記式 %式% の化合物〔世し」二式において05及びC6は互に独立
    して直鎖状又は分岐鎖状のC,−、C8のアルキル基、
    C5−08の7クロアルキル基、又はベンジル基を表わ
    すが、或は両者は一緒になって−(CH2)3−1 (
    CH2)a−1又は(CH2) 2−O−(CH2) 
    2−を表わし、そしてC7は水素原子、直鎖状又は分岐
    鎖状のC1−C8のアルキル基を意味するか、又&4−
    Q5と一緒になって−(CH2)q〜を表わし、その際
    qは3゜4、又は5の数を意味する〕を使用する、前記
    特許請求の範囲第6項に記載の方法。
JP57166765A 1982-09-27 1982-09-27 スチルベン−4,4′−ジアルデヒドの製造方法 Granted JPS5955848A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5399865A (en) * 1992-06-18 1995-03-21 Hitachi, Ltd. Liquid metal ion source with high temperature cleaning apparatus for cleaning the emitter and reservoir

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5399865A (en) * 1992-06-18 1995-03-21 Hitachi, Ltd. Liquid metal ion source with high temperature cleaning apparatus for cleaning the emitter and reservoir

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