JPS5953848A - Ｘ線電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 最近光導電材料として、その組成式が １３ｉｘＭＯｎ （但しＭはゲルマニウム、珪素、チタン、ガリウムおよ
びアルミニウムのうちの 少なくとも１種であり、Ｘは１０≦Ｘ ≦１４なる条件を満たす数であり、ま た１］は上記ＭおよびＸ次第で化学量論的に決定される
酸素原子截を示す） で表わされる酸化ビスマス系複合酸化物の体心立方晶系
（γ型）結晶が注目されるようになった。このｒ型結晶
性複合酸化物はＸ線の照射を受ける時導電性になり、従
ってＸ線の照射によって静電潜像が形成さ」しるＸ線電
子写真法に用いられる感光体のアＣ導電材料とし一〇使
用することができる（　’Ｌ！＋開昭５３　　４：３５
３１号参照）。

一上記複合酸化物のγ型結晶粒子を有機結合剤中に分散
してなる感Ｘ線層を導電性基板上に設し〕だＸ線電子写
真感光体はかなり高感度である。例えば、従来Ｘ線電子
写真感光体として導電性基板とこの導電性基板上に蒸着
によつで設けらＪｌ．た非晶質セレン層とからなる感光
体が知もれており、この感光体はマンモグラフイー等に
実用されているが、上記複合酸化物のγ型結晶粒子を有
機結合剤中に分散してなる感Ｘ線層を有する感光体は、
一般に上記非晶質セレン感Ｘ線層を有する従来実用の感
光体＆Ｃ　ＪＩＺ較してＸ　＋％！　ｖｃ対する感度が
約５乃至’　Ｏ　ｆｆ．ｆ　ｉｉ’＜＋　’１１，’　
。

とこイ）でＸ線？ｌＸ子写真感光体が特に医療診断を目
的とーＩ゛るＸ線電子写真法に用（・られる場合Ｋ　＆
：ｌ、、患者の被曝線量を少なくするために感光付はで
きるだけ高感度であるのが望ましく・０このような点か
ら、上記複合酸化物のγ型結品λ：；７　ｒ’，４イ１
機結合剤中に分散して！、朱゛る感Ｘ線層を自する感光
体についてもその感度をより一層向上させることが望ま
れている。

上記複合酸化物のγ型結晶粒子と共にｌ１型半導体粒子
を有機結合剤中に分散せしめて感Ｘ線層を構成する場合
には、感Ｘ線層の感度が向上する１９本出願人はこのよ
うな上記複合酸化物のｒ型結晶粒子と共に■〕型半導体
粒子を有機結合剤中に分散してなる感Ｘ線層を導電性基
板上に有する感度の向上したＸ線電子写真感光体を先に
特許出願した（特願昭５６−１５６６９５号）。

上記特願昭５６−１５６６９５号のＸ線電子写真感光体
の感Ｘ線層は上述のように上記複合酸化物のγ型結晶粒
子および１］型型半体粒子を分散状態で含むものである
のてその表面は比較的粗く、特に粒子径の大きな複合酸
化物γ型結晶粒子およびｎ型半導体粒子が用いられた感
Ｘ線層の表面はかなり粗い。この特願昭５６−１．５６
６９５号の感光体かトナー現像。

転写、クリーニングを伴なうカールソン法により使用さ
れる場合、このように感Ｘ線層の表面が粗いことは得ら
れる画像の画質および画像形成後の感光体のクリーニン
グ操作に悪影響を及ぼ−・ｊ、１づ−なわち、特願昭５
６−ｉ５Ｇ６９５号の感光体＆、１．　トナー現像の際
にかぶりを生じ易く、従つ゛（？！Ｊられる画像は一般
にかぶり濃度が高く、−合のために解像度が低い。また
特願昭５６−１５６（ｌ９５号の感光体は一般に従来実
用の非晶；ｌタセレン感Ｘ線層を有する感光体等に適用
さハ、ている通常のクリーニング法によっては残存トナ
ーを次回の画像形成が悪影響を受けない程度に除去する
のが困難である。

本発明のＸ線電子写真感光体は上記特願昭５６−１５６
６９５月のＸ線電子写真感光体の感Ｘ線層上Ｖこさらに
オーバーコート層として下記５７種の物質からなる無機
物質群より選ばれる無機物質の層を設けて該感光体の表
面の平滑性を高め、それによって該感光体によって得ら
れる画像の画質を向上させ、また該感光体の画１象形成
後のクリーニングを容易に行なうことができるようにし
たものである；ＳｉＣ、Ｂｌ”　、　Ａ１１ｊＰ　、　
Ａ４Ａｓ　、　ＧａＮ　、　ＧａＰ　、ＺｎＯ、Ｐｌｉ
ＯｌＢａＯ、ＴｉＯ２、Ａｌｊ２０３　、　ＮｉＯ、八
ＪｎＯ、Ｊ、ｉ　　２０　　、　　Ｊ３ｃＯ。

Ｎａ２Ｏ，ＭｇＯ，５ｉＯｚ　、Ｋ２Ｏ，Ｃ；１０．５
Ｃ２０３、Ｖ２Ｏ３、Ｃｒ　２０３　、　ＦｃＯ、Ｆｅ
ｚＯ３，Ｆｃ３０ｉ　、ＣＩＪ２０　、　ＣｕＯ１Ｃｏ
０１ＺｒＯｚ　、Ｎ１）２０５　、　ＭＯＯ２、ＭＯＯ
３、Ｃｄ０１Ｓ１１０２．５ｂ２０：＋　、　Ｃ８２０
、ＩＩｆＯ２，ｉ’ａｚｏ：＋　、ＷＯ＋＋　、Ｔｌ２
Ｏ，１３ｊ　２０３　、Ｔ１１０２　、　ＵＯ２、Ｃｅ
Ｏ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎ（＋２０３、ＡｇＦ２．　ｌＶＩ
ｇＦ２、ＣａＦ２、ＢＮ　、　Ｓｉ　３Ｎ４　、５ｌ）
０３　、５ｂ２ｏｓ、ＡＳ２０３　、ＡＳ２０５および
Ｎａ３ＡｌＦ６゜すなわち、本発明のＸ線？に子写真感
光体は１）少なくとも一方の面が導電性である基板、１
１）上記基板の導電性の面上に設けられており、有機結
合剤と、この有機結合剤中に分散された　ａ）上記酸化
ビスマス系複合酸化物のγ型結晶粒子および　ｂ）１］
型型半体粒子とからなる感Ｘ線層、およびｌ１１）上記
感Ｘ線層」二に設けられた上記５７種の物質からなる無
機物質群より選ばれる無機物質の層からなることを特徴
とづ−る。

以下本発明の詳細な説明する。

本発明のＸ線電子写真感光体は以下に述べるような方法
によって製造さ、ｌする。

まず最ｖｎｃ １）化学的ＩＩ（／Ａ化Ｊ−ろこノー乙・＜Ｊ存柊的に
形成される感Ｘ線）？四の有槻結介ヘリとなる］　（’
、：＋ｘもし７くは２種以」二の有機物質、あるいは ２）則えば」１定の樹脂とその架ｌ喬削のような以下に
述べる加熱乾燥時に互に反 応して最、終曲に形成される感Ｘ線層の有（・（＆結合
剤となる２種以上の有機物質、あるいは ：３〕　上Ｈ１’、：　ｌ　）および２）全適当な溶媒
に溶解してなる溶液中に上記酸化ビスマス系複合酸化物
のγ型結晶粒子およびｎ型半導イ・１・粒Ｆを分散せし
めた分散液が調製される（以［上記１）、２）および３
）ｉｆ’有機結合剤）％口１」ということにする）。上
記有機結合剤中、＋４−）は１Ｖ合酸化物γ型結晶粒子
および１１型半導体粒子・に悪影響を及ぼさず、かつそ
れら粒１′−が分散した少なくとも通常のＸ線七子写−
ＡＩ・′Ｘ）作θ、による取扱いに耐えうる程度の機械
的強度を有する層全形成しつるものであればいかなる有
機物質からなるものであってもよい。一般に従来電子写
真感光体の感光層ｋ　構成する有機結合剤の原４”ｌと
して使用することができることが知Ｃ）７１．−こいる
１イ中もしくは２種以上の有、膿胸り４は本発明におい
ても有磯結合剤原オ・１として使用することかできる。

また上記有機結合剤原料ｒ溶解して溶液とするための溶
媒は使用される有（幾結合剤原料に応じて適宜選択され
る。

本発明のＸ線心子写真感光体の感Ｎ線層を構成する有機
結合剤として特に好捷しいものとして、ポリエステル樹
脂、ポリエステル樹脂Ｊ脂と例えばアルキッド樹脂のよ
うなその他の樹脂との混合物、ジイソシアネーＩ・等の
架橋剤によって架橋されたポリエステル樹脂、および前
記架橋剤によって架橋されたポリエステル樹脂と例えば
アルキッド樹脂のようなそあ他の樹脂との混合物が挙げ
られる。なお、特開昭５６　５５４９号には上記酸化ビ
スマス系複合酸化物のｒ型結晶粒子を電荷担体輸送能を
持つ有機結合剤中に分散してなる感Ｘ線層を有するＸ　
＋腺′ｆ［ｉ；子写真感光体が開示されているが、本ｑ
Ｆ明の感光体の感Ｘ線層を構成する有（幾結ｒｒ　＋′
ｉｌＩ　＆ｌ、１記公開公・ト１シの感光体に使用され
ている。１、°〕な１１Ｃ荀４１１体輸送能を持つもの
であつ−Ｃも」、い３、電、Ｇ７川用輸ｉＸ　１ｊｆ６
を持つ有機結合剤の具ｒ＝ｌｋ　１ａｌｌについては例
えばＬ記公開公報を参照され／、二い。

酸化ビスマス系複合酸化物のγ型結晶粒子に、チョクラ
ルスキー法等の従来公知の方法で製造された該複合酸化
物のγ型結晶体（単結晶あるいは多結晶）を粉砕するこ
とによって作られる。この複合酸化物ｒ型、晴晶粒子は
一般に粒子径が１０００μｍ以下のものが使用され、好
ましくは２００μｍ以下、より好丑しくは１００μｍ以
下のものが使用される。本発明に１′ 使用される酸化ビスマス系腹合酸化物のうちでも、得ら
れる／ｉ＆光体の感度の点から上記組成式のＭがゲルマ
ニウムおよび珪素のうちのいずれか一方あるいはその両
方である複合酸化物、すなわちその組成式が Ｂｉｘ　（Ｏｅ＋−ｙ　＋　Ｓｉｙ　）　Ｏｎ（但しＸ
および１］は上記と同じ定義を有し、ｙは０≦Ｙ　５　
］なる］件を満たす数である） で表わされる複合酸化物が竹に好オしい。この特定の腹
自酸化物のうちても、上記組成式０式％ である複合酸化物（すなわちｆ３ｉ＋２０ｃＯｚｏ　）
およびＸが１２であり、ｙカＩ　テあり、１】が２０で
ある榎合酸ｆヒ物（すなわちＴ３１１２Ｓ　１０２ｏ　
）が行に好ましい。

本発明に使用される１１型半導体粒子の具体例とシテ、
Ｃ（ダイヤモンド）、へ（ｇｚＡ６２０４、ｐ　−Ｓｉ
Ｃ，ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｖ２Ｏ４、Ｍｎ０ｚ、Ｊ’　
Ｑ２０３、Ｆｃ５２、Ｚｌｌｏ、ＣＬＩ２Ｓ　、　　Ｃ
ｕ１ｎＳｅｚ　、　ＺＩＩＳ　。

Ｚｎ５ｃ　、　ＺｎＴｃ　、　ＱｅＳｅ　、　　５ｒＯ
１Ｎ＋）２０５、Ｎ１〕２ｏ４、Ｎ′ｂ２０３　、　　
ＭＯＯ３、八４ｏＳ　　、　　　ＭｏＳ２　　、　　ｌ
？　　−ＡｇｚＳ　　、７９−　ＡｇｚＳｅ、β−Ａｇ
ｚ’ｌ’ｃ　、　　ＣｄＳ、ＩｎＳｅ　、　　５ｎＯ１
ＳｎＯｚ、ＳＩＩ’Ｓｅ　、　　５ｌ）２０４、Ｔ　ａ
　２０３、Ｔａｚ（Ｊ５、ＷＯａ、ＨｇＳｃ、Ｊ１ｉ２
ｓ３、Ｂｉ２Ｓｅ３、Ｃｅｏ　２、Ｎ（１２０３、円＋
ＣｒＯイ、Ｉ］ｇＳ　　等の粒子が挙げられる。これら
ＯＱ９１＝　ＶＩＬ体粒子粒子ちでも、得られる感光１
＼の感１Φの点からＺｌｌｏ、（シｄ８、〜Ｖ０３およ
びｌ’　ｉ　０２の粒子が・特にａｔｔしい。一般に１
１・型半導体粒子は０１用される複合酸化物γ型結晶粒
子と同等あるいはそれよりも小さな粒子径のものが使用
される。

複合酸化物γ型結晶粒子とＩｌ型半導体粒子は一般にｎ
型半導体粒子の量が両者の合計１１」の０１乃至５０容
叶％となるような割合で使用され、好丑しくは１乃至３
０容１Ｌより好ましくは：３乃至１０容に係となるよう
な割合で使用される。寸だ、複合酸化物γ型結晶粒子、
１］型型半体粒子および有、磯結合剤原別は一般に、イ
Ｊ槻結合剤原料の楢が三者の合１ｊ−ｌ’　、Ｉ仕の１
乃至１〕（）容！４［％となるようなｉＩ＃！１合で使
用され、好捷しくは１ｏ乃至７ｏ容量％、より好ましく
は２０乃至５ｏ容量係となるような′側合で使用される
っ 分散液の調製は有機結αＩｉ＋）原イーＦ全溶媒に溶Ｊ
’Ｊイしてなる溶液に複合酸化（吻ｒｊｌｉ！Ｑ結晶粒
子および１１型半４１’４−粒子ケ添）Ｊｌｌ　Ｌ　、
適当な手段で充分に４ＦＬ　Ｉテ１’混合するこ々にょ
ってイイなわれるこのユ易合、複合１′唆化！ｌ勿γ型
結Ｉｆｉ！１粒子および１１型゛１丘導体粒子ｏ７↓で
きるたけ一次粒子として有機結合剤原旧溶１夜中に分散
され５のが好丑しい。

次に上述のようにして調製された分１救液が少なくとも
その一方の面が導′１Ｌ性である基板の導電性の向上に
均一に塗布される。使用される基板は分散液か塗布ざＩ
Ｌる而、すなわち感Ｘ　＃ｊノ・Δが形成される面が’
ｔ＋”ｉ　ｊｂ、　＋＋−であればいかなるものであっ
てもよいが、一般には金属板が上記基板として使用され
る。金４ｇ板のうちでも、行に経済性およびノ１ｙ仏い
性の点からアルミニウム板、ステンレススチール板ある
いは亜鉛板が使用されるのが好ましい。分散液の塗布は
ワイヤルバー、ドクターグレード、ロールコ−ター、ナ
イフ：ｊ−ターＷＥ　ｋ　使ＪＩＪ　する一般的ｉＩ：
１方イＩノ方法によって行なわれる。一般に分散７１’
ｊ−は以１・°に述べる加熱乾燥後の厚さくすなわ０感
Ｘ線層の厚さ）が１０乃全２０００、　　１ｌｎ１とな
るユうン（＝（を布され、々ｆましくは３０乃至８００
　〕１１ｍ」、り好丑シ＜は１００乃至４００Ｊｉｍと
なるように塗布される、 分散液／ｉ′：布の後、分散液塗膜は分散液に含まれる
溶媒のθ１）点よりも高いｚｌ、１度で加熱乾燥される
３、ε−の加熱乾燥は分散液に含まれている溶媒Ｘｊ・
ｌ！３傅Ｊ　Ｌ、、て基板トに感Ｘ線層全形成せしめる
／・−めにｒＪなわれるものであるが、有機７貼合ｊ’
＋ＩＪ片、ＩＦが１記２）あるいは３）である場合には
、このＪＪＩＩＡ・（（・：１２．燥は該原料を＋ｆ７
Ｊ成する反応成分を反応′さ、１て面磯結合剤にあるい
は有機結合剤の一部ｅ（＝することをも１にねるもので
ある。この方旧；１冒＋”／、’燥によって形成される
感Ｘ線層は有機結合剤と、この有機結合剤中に分散　　
　　１された複合酸化物γ型結晶粒子およびＩＩ型形導
体粒子とからなる。

なお、上述のようにして］、（板上に形成された感ｘｍ
層がさらに核感Ｘ腺層を構成する有機結合剤の軟化点以
」二であるがその分解開始温度よりも低い温度て熱処理
される場合には、その感Ｘ線層の感度はさらに向上する
。この熱処理は充分な感度向上効果が得られるようにそ
の：ｒ；Ａ度およびｌＬ’ｊ間か厳密に制叫１されなけ
ればならない。すなわち、熱処理か有機結合剤の１ｐｆ
（化点あるいはそれに近い／、１．２．度て行なわれる
場合には、充分な感度向上効果を得るためには比較的長
時間の熱処Ｊ４１ｊか材間てあり、逆に熱処理が有機結
合剤の分解１ｊＦ］始１１（１ｊｔ度に近い温度で行な
われる」場合には、比較的短１１．５″間の熱処理で充
分な感度向１−効果を得ることかできる。竹に熱処理か
イ〕磯結合剤の分解開始温度に近い温度で行なわれる場
合には、感Ｘ線層に焼けあるいはこげか生しないように
するために熱処理時間はより一層厳密に制御される必要
がある、一般に上記熱処理が励された感Ｘ線層の感度は
熱処理前の感Ｘ線層の感度の約２乃至；ふ倍である。上
記熱処理によって感Ｘ線層の感度が＋ｒｒｔ−Ｌするの
は、熱処理によって有機結合剤が軟化し、それによって
複合酸化物γ型結晶粒子と１１型半導体粒子との接触が
向上するだめであると思われる。

以上説明したような方法で少なくともその一方の面か導
電性である基板と、この基板の導電性の面上に設けられ
た感Ｘｍ層とからなり、該感Ｘ線層が有機結合剤と、こ
のイ１重結合剤中に分散された　ａ）上記酸化ビスマス
系複合酸化物の７種結晶粒子および　１））ＩＩ型半導
体粒ｊ”、！、からなるＸ　ａ９准子写真感光体（すな
わち上記ｉｔケ願昭５６−１５６（５９５号のＸ線電子
写真感光体）が得られるが、この感光体の感Ｘ線層表面
は一般に粗く、特に粒子径の大きな複合酸化物ｒ型結晶
粒子および１］型型半体粒子が用いられた感Ｘ線層表面
の表面はかなり和い１．このＸ線電子写真感光体の感Ｘ
線ノー表面の平滑性を高めるために、次にこのノさ光体
の感Ｘ線層ヒに上記５７神の物ＴＬからなる無機物質群
より選ばれる無機物質の層がオーバーコート層として形
成される。−上記５７種の無機物質のうちでもオーバー
コート層の材料どして特に好ましいものはＺ＋】Ｏ、Ｐ
ｌ）０、ＴｌＯ２、Ａ、６２０：＋、ＭｇＯ１ＳｉＯｚ
、Ｃｃｏ　２、Ａ６Ｆ３、ＭｇＦ　２、Ｃａ１ｒ２およ
びＮａ：＋Ａ６’ｌｉ”＋；である。

上記；！ｌ！Ｑ機物り′ｔのオーバー：＋−１一層は一
般にスパッタ蒸着法、真空蒸着法等によって形成される
。このオーバーコート層の厚さは感Ｘ線層表面の粗さの
程度等に依存して適宜選択されるが、一般には０．０１
乃至２０００７１１１１　であり、好寸しぐは０１乃至
２００　／１１１１である。

なお、感Ｘ線層上にスパッタ蒸着法により無機物質のオ
ーバーコート層を形成する際には、被蒸着体である感Ｘ
線層が２００　”Ｇ程度になるので、感Ｘ線層全構成す
る有機結合剤は耐熱性が高いものである必要がある。

以上説明した製造方法に」、つて得られる不発゛明のＸ
線電子写真感光体Ｑよ１）少なくとも一方の面が導電性
である基板、１１狂記基板の導この有機結合剤中に分散
されたａ）上記酸化ビスマス系複合酸化物のｒ型結晶オ
カ子および１））１１型半導体粒子とからなる感Ｘ腺層
、および１（１）上記感Ｘ線層１−に設けられた上記５
７種の物質からなる無機物質群より選ばれる無機物質の
層（詞・−）・−コート層）からなる１、この本発明の
感光体の表面、すなわち無機物質オーバーコー　１層の
表面ハ、該オーバーコート層が設け１゛、れＺ）前の感
光体の表面、すなわち感Ｘ線層の表面よりも著しく平滑
であるっ従って、カールツノ法により使用される場合、
本発明の感光体は無機物質オーバーコート層か設けられ
ていない感光体（すなわち」二記特願昭５６　＝−１５
６（ｉ９５号の感光体）に比較してトナー現像の際にか
ぶりが生じにくく、従って本発明の感光体によって得ら
れる画像は無機物質オーバー、レ−１・層が設けられて
いない感光体に、１．って１１１られる両像よりもかぶ
り濃度カ低く）θｆ１ゴ３゛度か高い。また無機物質オ
ー・・−コート層が設けられていない感光体は一般に従
来実用の非晶質セレン感Ｘ線層を有する感光体等に適用
されている通′ｌ’ｌ：のクリーニング法によっては残
存トナー金（’／（回の画像形成に悪影響を及ぼさない
程度に除去するのが困難であるが、これに対して本うと
明の感光体は感光体表面の平滑性が向上し／ζものであ
るので上記１層常のクリー二／グ法によりほぼ完全に残
存トナーを除去することが１月能であり、クリーニング
された感光体はそのまま次回の画像形成に使用すること
かできる。このように本発明の感光体は無機物質オーバ
ーコート層が設けられていない感光体よりも残存トナー
のクリーニングをよね容易に行なうことができ、従って
本発明の感光体全便用してクリーニングの容易化を計る
ことにより画像形成プロセスを簡易化することが可能で
あり、ひいてはＸ線電子写真装置を小型ｒヒすることが
可ｈｈである。な、お、無機物質のオーバーコート層は
一般に高い耐摩耗性を有しており、従って本発明の感う
“１４体は一般に繰返し使用特性が高い。

以１４，１シ＋ｌ　１９１１−２／、−ように、本発明
は上記！ｌ′Ｊ、１ら１１１昭５６−１１コｆｉ（ｊ！
１５号のＸ線電子写真感光体の感Ｘ線層上にさらにオー
バーコート層として特定の無機物Ｉｐｊの層全設けて該
感光体の表面の平滑１生全高め、・それによって該感光
体によって得られる画１象の画質全向上さす、また該感
光体の画像形成酸のクリ−ニック全容易に行なうことが
できるようにしたものであり、その工業的利用イ＋１ｆ
ｉ値は大きなものである。

次に実施例によって本発明全説明する７実施例　１ メチルエチルクトンとドルエンド’ａ＝１’４の重量比
で混合してなる混合溶剤７８７にポリエステル樹脂（東
洋紡製バイロン２００　）１．５７およびアルギッド樹
脂の４０重川用キシレン溶液（大Ｅ１本インキ化学工梁
製ベソコラＷ　トＭ　−６２ｆ１２−’４０　）　１．
２５５’　ｆ添加し、攪拌溶解させて有機結合剤原利溶
液全調製１〜た。次にこの有機結合剤原料溶液に粒子径
が２０乃至４０　／ＺｌｌｌのＢｉｔ追ｃＯｚｏγ型結
晶粒子４０７およびｉ］型半導体粒子としてＺｒ＋０粒
子（堺（ヒ学製ザゼノクス４００（１）　２　ｇｆ、Ｈ
添加し、ホモジナイザーを用いて］　００００　ｒ　、
　ｐ　、ｍで３分間攪拌混合してＢＪＩ２Ｇ００２０粒
子およびＺ１１０粒子を溶液中に分散させた。なお使用
したＩ３　ｉ　＋２０ｅＯ２゜のγ型結晶粒子はチョク
ラルスキー法によって製造した１３　ｉ　＋　２０ｅｏ
　２０の７〜型単結晶金粉砕し、分級することに」：つ
てイ４＋たものである。

得られた分散液をドクターブンードを用いてアルミニウ
ム板上に乾燥後の厚さが約＝ｌ　Ｏ０３ｍとなるように
均一に塗布した。塗布後、塗膜を大気中で６０　”Ｃで
１時間加熱乾燥し、さらに同じく大気中で１２０　”（
：て１０時間加熱乾燥してアルミニウム板上に感Ｘ線層
全形成した。このようにして」二記ポリエステル樹脂と
上記アルキッド樹脂との混合物中に上記１３−１ｚ（３
ｅＯｚｏγ型結晶粒子および上記ＺｎＯ粒子が分散され
た約４００μｍ厚の感Ｘ線層金アルミニウム板１−にイ
→するＸ線電子写真感光体１）だが、この感光体の感度
を向りさぜるために感光体音さらに大気中で２４０℃の
温度（上記混合イ何脂の１１す（化点よりも高いがその
分解開始温度よりも低い／１１１ｉ’１度）で２時間熱
処理した。

上記熱処理の後、感光体の感Ｘ線層上にスパッタ蒸着法
により厚さ５μｍの８１０２の層（オー・・−コート層
）全形成した。この５ｉ（Ｊｚのスパッタ蒸着は３　Ｘ
　］　Ｏ”Ｔｏｒ＋のＡｒ＋５％０２の雰囲気中におい
て、■モト゛パワー２５０Ｗの放電条件で純度９９．９
９９９９係の８１０２　　ターゲット（・１インチ径）
を用い、２５０　Ａ、／　分ノ蒸着速度で２００分間行
なった。このようにして感Ｘ線層上に５ｉ０２オ一バー
コート層を有する本発明のＸ線電子写真感光体ｆｆｉ　
？４Ｉた。このようにして得た感光体を感光子扉１とし
たつまた、５７ｚｍ厚の８１０２オーバーコーＩ・層の
代わりに同じ厚さのＺｎ（１）オーバーコート層をスパ
ッタ蒸着法により形成すること以外は」ニ記感光体蔦１
と同様にして本発明のＸ線？匡子写真感光体を得た。こ
のようにして得た感光体全感光子扉２とした。なお、Ｚ
ｎＯのスパッタ蒸着は３　Ｘ　１０　　ＴｏｒｒのＡｒ
＋５％０２（７）雰囲気中において、Ｒ１−パ１ノー　
２００　Ｗの放電条件で９９．９９９％のＺｎＯのター
ゲット（４インチ径）を用い、２５０Ａ／分の蒸着速度
で２０Ｑ分間行なった。

さらに、５　μｍ厚の８１０２のオーバーコート層の代
わりに同じ厚さのＴｉＯ２オーバーコート層をスパッタ
蒸着により形成すること以外は上記感光体扁１と同様に
して本発明のＸ線？Ｅ子写真感光体を得た。このように
して得た感光体を感光体１６．３とした。なお、　　Ｔ
ｉＯ２のスパッタ蒸着は３　Ｘ　Ｉ　ＯＴｏｒ＋のＡｒ
　＋　５％０２ノ雰囲気中において、ＲＦパワー２００
Ｗの放電条件で９９．９９９％のＴｌＯ２のターゲット
（４インチ径）を用い、３．３０Ａ／分の蒸着速１変で
１５０分間行なった。

−さらに、オーバーコート層を設けないこと以外は上記
感光子馬１．扁２および漁３七同様にしてｊ゛い１１−
シのためのＸａ電子写真感光体を製造した。このオーバ
ーコー１−　）ｊｒｉが設けられていない比１１１史の
だめの感光体を感光子扉４とした。

オーバー：１１・層が設けられた感光体４．１゜Ａ２お
、１：ひノに３のオーバーコート層の表面はその層が形
成される前の感Ｘ線層の表面、即ち感）’（：　（−ト
ガ６・１の表面よりも平滑性が著しく高かつ／こ。

−Ｊ：　述（’）　、１：りにして得た本発明のオーバ
ーコート層が設けられた感光子扉］、Ａ２および扁３と
オーバー　コート層が設けられていない比較Ｖ／ｑの感
光Ｕ＼扁４のＸ線感度金以下の様にして測定した、 感光子馬１．蔦２．篇３および扁４を暗所で５Ｊ（Ｖの
コロナ電圧でコロナ帯電させ、続いて表面電位Ｒ１（川
口電機製ＳＳ　Ｖ、−Ｉ＋−５０）で表面電位を測定し
ながら感光体にＸ線を照射した。Ｘ線照射条件は以下の
通りであったー。

Ｘ　８発生りｔｊｌＪＷＩＴ］装置　　　　ｆＪｉ　芝
ｇ　Ｋ　Ｘ　Ｏ−Ｊ　５Ｘ　線　管　球　　　　東芝製
ＤＩＬＸ−１９０Ａ管電圧　　　）ｉ　Ｑ　Ｋ　Ｖ　Ｉ
） 管電流　　　１　ｌｎＡ 焦点−感光体間距離　　１　＋ｎ 照射モード　　　　　　連続モード 感光体面照射ＩＪＩ量率　　４．７用Ｉｔ／秒（ピクト
リーン損」ｑモデル５００ 線機測定器による測定 値） Ｘ線感度の尺度として、Ｘ線照射直前の表面電位（初期
電圧）を半分に低下させるのに必要な照射線７１Ｊ二（
半減衷照射祉）を測定した。

その結果を下記第１表に示す。

下記第１表から明らかなように、本発明のオーバーコー
ト層が設けられた感光体ＡＩ。

４θ２および扁３はいずれもオーバーコート層を設けな
いこと以外は上記本発明の感光体と同様にして製造され
た感光子扉４とほぼ同等の一感度金示した。

第１表 次に各感光体についてＩ！１？ｌ！像度の測定全以下の
ようにして行なった。

感光体Ａ　Ｉ　、　Ａ　２　、＋煮３および扁４を暗所
で一５ＫＶのコロナ電圧でコロナ？’Ｙ　Ｔ（ｔ、　ｋ
行ない、次でＥＭＩＬ　　ＦＵＮＫ　０１）ＴＩＫ　Ｆ
ＯＴＯ社製Ｘ糾テストチャートを用いてＸ　５１画像露
光を行ない、その後磁気ブラシＥＪｌ像法により正帯電
した粉体トノー−を用いて現像全行ないトナー像を得た
。解像度の尺度としてトナー像が１關当り何本の線１で
識別しｒ（Ｉるがを測定した。その結果を下記第２表に
示す。なお、Ｘ線照射条件ｔよ上記感度測定の場合と同
じであ明４＋１１７１４のン？印！：（内容に変更なし
）つた。

下記第２表から明らかなように、本発明のオーバーコー
ト層が設けられた感光子扉１゜扁２およびＡ３はいずれ
もオーバーコート層金設けないこと以外は上記本発明の
感光体と同様にして製造された感光体Ａ４に比較して著
しく高い解像度を示した。

さらに、上記トナー現像により得られたトナー像を通常
の方法により紙に転写して転写像を形成した。トナー像
の場合と同様に、本発明の感光体７ｉ１ｉ１．Ａ２およ
びＡ３により得られた転写像は比較例の感光体通４によ
りｍられた転写像に比較して解像度が著しく高く、また
その画ｆ９！はｆＱＹ明でがっかぶりが少ながった。−
１’／こ、Ｊ−、記本発明の感光体形１．扁２および扁
３と比較（９１Ｊの感光体１６．４−　ｋ通常のクリー
ニング方θ、によりクリー二／グしたところ、オーバー
コ−１・層を有さない感光体Ａ４においては残Ｉ′ｆｌ
・ナーを次回の両縁形成に悪影響企及はさない程度に除
去するのが困難であったのに対して、本発明のオーバー
コート層を有する感光体ＡＩ、茄２および扁３において
はいず）１も残ＹＪトナーが容易に除去され、次回の画
像１［ヨ成に使用される状態になった。

実施例　２ メチル上ノールクト／とトルエン、！：’ｔｌ：４の重
量比で（１１合してなる混合溶剤７．８７にボＩＪ　ｘ
　スツールｌｌ７Ｊ　脂（東洋紡製バイロン２００＞１
、５５’　Ｊ：、よひアルキッド樹脂の４０重量％キ７
レン溶液（大１１本インキ化学工業製ベノコラ’ｆ　ｌ
・Ｍ　−１ｉ２（１２４０）１．２５１　ｋ添加し、攪
拌溶１リイさぜ°ＣイＪ機結合剤原刺溶液全調製した。

次にこの有機結合剤原料溶液に粒子径が２０乃￥４０　
μｍのＢｉ　ｔ２ＧｃＯｚｏ　ｙ型結晶粒子４０７」・
・よひ１１型半導体粒子としてＣ（ｌ　８粒子（山中化
学製）２７を添加し、ホモジナイザーを用いて］　００
００ｒ、ｐ、ｍで３分間隔１′１ミ混合してＪ３ｉ　ｔ
ｚＧｅｏｚ。

粒子および０６８粒子を溶液中に分散さぜた。

なお使用した１３ｉ　＋２０ｅＯｚｏ　　のｒ型結晶粒
子はヂョクラルスキー法によって製造した１３ｉ　ｒ　
ｚＯＣＱ２゜のγ型巣結晶を粉砕し、分級することによ
って得たものである。

得られた分散液をドクターブレードを用いてアルミニウ
ム板上に乾燥後の厚さが約４００４１ｎとなるように均
一に塗布した。塗布後、塗膜を大気中で６０”Ｃで１時
間加熱乾燥し、さらに同しく大気中で１２０“Ｃで１０
時間加熱乾燥してアルミニウム板上に感Ｘ線層を形成し
た。このようにして上記ポリエステル（匍）指と上記ア
ルキッド樹脂との混合物中に上記１３ｉ＋２ＧｅＯｚｏ
　　、型結晶粒子および上記ＣｄＳ粒子が分散された約
４００μｍη厚の感Ｘ　＃ｊ！層をアルミニウノ・板上
にイエするＸ線電子写真感光体を得たが、このｊｌ・＼
光体の感度を白玉さぜるために感光体をさらに大気中で
２４０　”Ｇの温度（上記混合樹脂の軟化点よりも高い
がその分）ＩＩ１１！開始温度よりも低い温度）で２時
間熱処理したＯ 上記熱処理の後、感光体の感Ｘ線層上にスパッタ蒸着法
により厚さ５μｍ］］の８１０２の層（オーバーコート
層）′ｆｆ：形成した。この５Ｉ０２のスパッタ蒸着は
３　Ｘ　１０−２ＴｏｒｒのＡｒ　＋　５％０２の雰１
ノＨ気中において、Ｊ？、　Ｉ喝゛パワー２５０Ｗの放
電条件で純度９９．９’９９９９係の５１０２ターゲソ
＋−（−１インチ径）を用い、２５ＯＡ／分の蒸着速度
で２　（１（１分間行なったっこのようにして感Ｘ線層
上にＳ　ｉｏｚオーツく−コート層を有する本発明のＸ
線電子写真感光体を得た。このようにしてイＩＩた感光
体を感光体蔦５とした。

また、５μｍ厚の８１０２オ一バーコート層の代わりに
同じ厚さのＺｎＯオーバーコート層金スパッタ蒸着に」
：り形成すること以外は−１−１７己感光体／Ｉ６５と
同様にして本発明のＸ線電子写真感光体を得た。このよ
うにして得た感光体全感光体７ｆ；６とした。なお、Ｚ
ｎＯのスパッタ蒸着は３　Ｘ　１０　１’ｏｒｒＯＡ１
＋５％０２の雰囲気中において、ＪｊＦパワー２００　
Ｗの放電条件で９９．９９９係のＺ＋１０のターゲット
（４インチ径）を用ｂ、２５０　Ａ　７分の蒸着速度で
２００分間行なった。

さらに、５μｍｎ厚の５ｉＯｚオ一バーコート層の代わ
りに同じ厚さの’Ｉ’ｉ（ルオーバーコート層全スパッ
タ蒸着により形成すること以外は上記感光体形５と同様
にして本発明のＸ　ａＩンＱ；子写真感光体を得た。こ
のようにして得た感光体’を感光体）に７とした。なお
、’Ｉ”ｉｏｚのスパッタ蒸着は３　Ｘ　１０−２ｉ”
ｏｒｒのＡｒ　−１−５４０２の雰囲気中において、１
１．１”パワー２００　Ｗの放電条件で’−１９，９９
５）係のＴ　ｉ　０２のターゲット（４インチ径）を用
い、３３０Ａ／分の蒸着速度で１５０分間行なった。

さらに、オーバーコート層を設けないこと以外は上記感
光子扉５．ノにＧおよびＡ７と同様にして比’Ｉｌｙ、
のためのＸ線電子写真感光体を製造した。このオーバー
コート層が設けられていない比較のだめの感光体全感光
子扉８とした。

オーバーコート層が設けられた感光体Ａ３７ｆ；６およ
びＡ７のオーバーコート層の表面はその７％が形成され
る前の感Ｘ線層の表面、＃ｌＪち感光体形８の表面より
も平滑性が著しく高かつ／、二。

上述の、１：　’＞にして得た本発明のオーバーコート
層が設けられた感光体Ａ５．Ａ６およびＡ７とオーバー
コート層が設けられていない比較例の感光体１６．８の
Ｘｍ感度全実施例１と同様にして測定した。その結果を
下記第３表に示す、。

下記第１３表から明らかなように、本発明のオーバーコ
ーｌ＋　Ｊｉｉが設けられた感光体形５゜煮６お」、び
扁７はいずれもオーバーコート層を設け／Ｉいこと以外
は上記本発明の感光体と明細書のγ７１ｉ！：：（内′
１′ｉに変更なし）同様にして製造さハた感光体、１６
８と１１Ｑ゛下同等の感度を示した。

第　　３　　表 次に各感ブ〔、什についてブ竹作度の１ｌｊｉｌ″ｉヒ
庖実施例１ど同様にして行なった。その結果を下記ｔ（
３４１−に示１６ Ｔ　；ｉｌ、＋狗）４表から１町らか４［、［うに、川
・う１−町のオーバーコート層が設けら才また／＋Ｒつ
Ｃ２体）’ｈ；　Ｊ　ＨＪｈＧふ５よひｔ１６７　＆よ
いず才１もＡ−バーコード層を設けないこと上り、外は
上ｈ１．″、木釦）明のＡ＋：４　）（：体と１ｉｉＪ
杭にして製造さハ、た感う“ｃ体／１６８に比較して：
＋、’；　シ＜高い角Ｉｌ８“腹を４ミした。

明Ｉｌｌ’ｌｌＩ書）ｌ’１′＋、ｌｉ、（Ｉｌ（容に
変更なし）す１）Ｕ（−１Ｉ：ｉｉｌ冒・ナー、！、１
１．イ故ニ、シリイｌｌｌらＡ′またトナー１イ（４仙
常の力θ、により紙に％＜写して転写１“イ゛　イｉｌ
ｔりＤＶＬ、　　ハｈ、ｌ・　ノー　−ｆイ；　の　；
（、Ｉ、ｔ　　、ｊ−ｊ　　と　ｌ＋ＩＪ　　イ・１＜
　　鈍二　木　ジ也明の］凸ブ（１１本）１６５．ノｔ
ｂ　Ｇおよび、１６７匠よりイ：ｔも１１、７と転′！
−ｌ像は」１．Ｉｌｌ、ｙ！例の感う°Ｃ体、！≦８に
よりイ：すらｔ’した転写イ３′に比較してｌｉｉ’ｒ
像度か著しく　ｉｖｌ　（、ま／こその両区はＭ明でか
つかぶりが少なかった。また、」二記本発明の感光体１
６’　５　、７１６６および、１６７と比較例の感光体
、１６８を通常のクリーニングカ法によりクリーニング
し５だところ、オーバーコート層恐〜有さない感）°Ｃ
体Ｊ６８　ｖｃおいては残存トナーを次回の画像形成に
悪影曽を及ｔ−Ｊさない４−度に除去するのがμ・１角
１１であつだのに対して、本発明９オーツ（−コート層
を有する感光体ｚ％　５　、　／１６６およびｙ１６７
　Ｖｃｊ６　イてはいずれも残存トナーが容易に除去さ
れ、次回の画像形成に使用される状態になった。

テ「続ン１）　、’ｉＥ書（ｈ式） ％式％ ２、発明の名称 Ｘ　ｌｉｔ　’ｔｒｉ子写真熱写真 感光体３をりる育 事イ′１どの関係　　　　　　特許出願人中Ｊ＋を都港
区六木木５１目２岳１号 昭和５１１（＋　　２７−Ｊ　２１．＋　　（発送１」
■）ノ相５８年２ＪＪ２２１］）１）明１１１書中第２
８．２９．３５および３３６頁を添付のものと差換え、
適正な表に訂正す゛る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （ｉ）　　ｉ）少なくともその一方の面が導電性である
   基板、１１）上記基板の導電性の面上に設けられており
   、有機結合剤と、この有機結合剤中に分散されたａ）そ
   の組成式が ３３　ｉ　ｘ　Ｍ　Ｏｎ （但しＭはゲルマニウム、珪素、チタン、ガリウムおよ
   びアルミニウムのうちの少な（とも１種であり、Ｘは１
   ０≦Ｘ≦１４なる条件を満た′１″数であり、また１１
   は一ト記ＭおよびＸ次第で化学量論的に決定される酸素
   原子数を示す） で表」；される酸化ビスマス系複合酸化物のγ型結晶粒
   子およびｂ）１】型半導体粒子とからなる感Ｘ線層、お
   よび１１１）上記感Ｘ線層上に設けられた下記５７種の
   物質からなる無機物質群より選ばれる無機物質の層から
   なることを％徴とするＸ線電子写真感光体；ＳｉＣＸＢ
   ｌ’　、、Ａ、ｇＰ　、　ＡｌＡ、ｓ　、　ＧａＮＸＧ
   ａＰ。 ＺｎＯ、ＰＬ＋０　％　ＢａＯＸＴｉＯ２、Ａ１２０ａ
   、Ｎｉｐ。 ＭｎＯ、、Ｌｉ　２０、ＢｅＯ、、Ｎａ２Ｏ、ＭｇＯＸ
   ＳｉＯ２、Ｋ２Ｏ、ＣａＯ、５Ｃ２０３、Ｖ２Ｏ３、Ｃ
   ｒ２Ｏ３、ＦｃＯ、Ｆｅ　２０：＋、Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｕ
   ２Ｏ、Ｃｕｂ。 Ｃ００％　ＺｒＯ□、Ｎｂ　２０５、Ｖ０Ｏ２、Ｖ０Ｏ
   ３、ＣｄＯ，、ξ→１１０２．５ｂ２０３、Ｃｓ２Ｏ、
   ＨｆＯ２、Ｔａ２（、）＋＋　、　込りＩＩ　％　　Ｔ
   ｌｚＯ，ＢｉｚＯ３、Ｔ１１０２、ＵＯ２、ＣｅＯ２、
   ■）ｒ２０３、Ｎｄ２Ｏ３＼ＡｌＦ３＼ＭｇＦ２、Ｃａ
   Ｆ２、ＢＮ、　５ｉａＮ４、ＳｂＯ３、Ｓｂ　２０ｒ＋
   、ＡＳ２０３、Ａ８２Ｑ　５、およびＮａ３ＡｌＦ６゜
   （２）上記無機物質の層の厚さが０．０１乃至２０００
   　ｔａｎ　であることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載のＸｆｆ！Ｊ電子写真感光体。 （３）上記無機物質の層の厚さが０１乃至２００μｍで
   あることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載のＸ線
   電子写真感光体。 （４）上記無機物質がＺｎＯ、ＰｂＯ、ＴｉＯ２、ｆｉ
   Ｊ　２０３、ＭｇＯＸＳｉＯ２、ＣｅＯ２、ＡｌＦ３、
   ＭｇＦｚ、Ｃａ１ｔ’２お、しびＮａ３ＡｌＦ６からな
   る無機物質群より選ばれることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項乃至第３項のいずれかの項記載のＸ線電子写
   真感光体。 （５）上記１１型半導体粒子がＺｎＯ、Ｃ（Ｉｓ　、Ｗ
   Ｏ３、およびＩ’ｉＱ２のうちの少なくとも１種の粒子
   であることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４
   項のいずれかの項記載のＸ線電子写真感光体。 （６）　　上記組成式のＭがゲルマニウムおよび珪素の
   うちのいずれか一方ある℃・はその両方であることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項乃至第５項のいずれかの
   項記載のＸ線電子写真感光体。 （７）上記組成式のＭがゲルマニウムであり、Ｘが１２
   であり、１ｔが２０であることを特徴とする特許請求の
   範囲第６項記載のＸ線電子写真感光体。 （８）上記組成式のＭが珪素であり、Ｘが１２であり、
   １１が２０であることを特徴とする感光体。