JPS5951691B2 - 真空遮断器用多層接触片の製造方法 - Google Patents
真空遮断器用多層接触片の製造方法Info
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- JPS5951691B2 JPS5951691B2 JP51095340A JP9534076A JPS5951691B2 JP S5951691 B2 JPS5951691 B2 JP S5951691B2 JP 51095340 A JP51095340 A JP 51095340A JP 9534076 A JP9534076 A JP 9534076A JP S5951691 B2 JPS5951691 B2 JP S5951691B2
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- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/24—After-treatment of workpieces or articles
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、少くとも35溶積%のクロム或はバナジウム
を含む銅含有複合材料、或は上記材料とコバルト、ニッ
ケル或は鉄との混合物より成る接触層と、ろう付は或は
溶接し得る坦体層とより作られ、これらの金属の粉末圧
縮成形体或は焼結体が真空るつぼ内で、無多孔性となる
ように溶融銅を以て含浸されて成る、真空中圧電力遮断
器用の多層的接触片の製造方法に関する。
を含む銅含有複合材料、或は上記材料とコバルト、ニッ
ケル或は鉄との混合物より成る接触層と、ろう付は或は
溶接し得る坦体層とより作られ、これらの金属の粉末圧
縮成形体或は焼結体が真空るつぼ内で、無多孔性となる
ように溶融銅を以て含浸されて成る、真空中圧電力遮断
器用の多層的接触片の製造方法に関する。
真空中圧電力遮断器用の接触片材料に於いては、以前に
於いて一般に使用された銅を主成分とする合金の代りに
、焼損性の少ないかつ残留ガスによるゲッタ作用のある
成分を持つ複合材料を使用するのが有利であることが実
証されている。
於いて一般に使用された銅を主成分とする合金の代りに
、焼損性の少ないかつ残留ガスによるゲッタ作用のある
成分を持つ複合材料を使用するのが有利であることが実
証されている。
同時に、電力の遮断後にもできるだけ高い絶縁破壊強度
を保証するには、接触材料が遮断時に負荷を受けた後も
融解した表面が平滑であることを要し、そして尖端部或
は滴状部を形成したり不安定な薄膜を生ずる傾向があっ
てはならない。
を保証するには、接触材料が遮断時に負荷を受けた後も
融解した表面が平滑であることを要し、そして尖端部或
は滴状部を形成したり不安定な薄膜を生ずる傾向があっ
てはならない。
そこで、少なくとも35溶積%のクロム或はバナジウム
を有する銅含有複合材料、或はこの材料とコバルト、ニ
ッケル或は鉄との混合物によって、このような要求が同
時に満たされることが判明した。
を有する銅含有複合材料、或はこの材料とコバルト、ニ
ッケル或は鉄との混合物によって、このような要求が同
時に満たされることが判明した。
しかし1400℃以下の溶融点を有する添加金属は、焼
損強度が低過ぎるので使用できない。
損強度が低過ぎるので使用できない。
これに対し2000℃以上の溶融点を有する金属は、そ
の溶融点が高いために遮断作用後は必ずしも融解した表
面を平滑に保つことができないので、絶縁破壊強度が害
されることになる。
の溶融点が高いために遮断作用後は必ずしも融解した表
面を平滑に保つことができないので、絶縁破壊強度が害
されることになる。
更にジルコン及びチタンのように1400℃乃至200
0℃を使用範囲とする金属は、銅相と共に焼損強度の低
い低溶融金属間化合物を作るので使用できない。
0℃を使用範囲とする金属は、銅相と共に焼損強度の低
い低溶融金属間化合物を作るので使用できない。
上記材料の製造は公知の真空焼結含浸法によって行われ
るが、その場合上述の金属から成る粉末圧縮成形体又は
焼結体は銅の融解温度以上の温度の溶融銅で含浸される
。
るが、その場合上述の金属から成る粉末圧縮成形体又は
焼結体は銅の融解温度以上の温度の溶融銅で含浸される
。
含浸るつぼ或は大面積の含浸用基台を使用する場合、上
記材料に含まれる反応金属、特にクロム及びバナジウム
が既知のあらゆるるつぼ材料と反応するので、著しい難
点が生ずる。
記材料に含まれる反応金属、特にクロム及びバナジウム
が既知のあらゆるるつぼ材料と反応するので、著しい難
点が生ずる。
このような反応(合金化)に於いては、るつぼ材料中の
好ましくない成分が拡散により接触片材料へ吸収される
ことを覚悟せねばならない。
好ましくない成分が拡散により接触片材料へ吸収される
ことを覚悟せねばならない。
このような難点を回避するには、るつは゛を用いずに、
含浸される接触片素材を小面積の支持体上に載せて、含
浸を行えば良い。
含浸される接触片素材を小面積の支持体上に載せて、含
浸を行えば良い。
しかしこの方法に於いては、接触片素材の載置点に含浸
銅の界面張力の変化を生じ、そのため銅の溶出と接触片
含浸の不足とが避は難い。
銅の界面張力の変化を生じ、そのため銅の溶出と接触片
含浸の不足とが避は難い。
接触片と担持棒との結合時にも、更に難点が生ずる。
何せならば、クロム及びバナジウムのような含有されて
いる反応金属の酸素親和力が高いため、真空中でろう付
けを施す場合にも表面に酸化を起し、従って通常の金属
ろうを以て濡らすことが妨げられるからである。
いる反応金属の酸素親和力が高いため、真空中でろう付
けを施す場合にも表面に酸化を起し、従って通常の金属
ろうを以て濡らすことが妨げられるからである。
このような難点を回避するため、接触片にはろう付けを
施す前に、電気メッキにより例えばニッケル或は銅より
成る金属層が設けられる。
施す前に、電気メッキにより例えばニッケル或は銅より
成る金属層が設けられる。
しかしこの場合は、接触片が残留電解質を以て汚される
おそれがある。
おそれがある。
脱酸素成分としては燐或はマンガンを含有し、従って電
気メッキを用いずにろう付けすることのできる二三の公
知の特殊ろうは、真空電力遮断器に対する接点材料とし
ては、脱酸素添加物質の沸点が低いという理由のために
使用できない。
気メッキを用いずにろう付けすることのできる二三の公
知の特殊ろうは、真空電力遮断器に対する接点材料とし
ては、脱酸素添加物質の沸点が低いという理由のために
使用できない。
本発明の目的は、上述の諸難点をすべて解決した上記種
類の接触片を製作する方法を提供することにある。
類の接触片を製作する方法を提供することにある。
本発明によれば、この目的は、粉末圧縮成形体或は焼結
体が、鉄、鋼或はCrNi・鋼より成るるつぼの中で酸
素を含まない銅を以て完全に含浸され、次いで含浸るつ
ぼの北部が少くとも部分的に取除かれることによって達
成される。
体が、鉄、鋼或はCrNi・鋼より成るるつぼの中で酸
素を含まない銅を以て完全に含浸され、次いで含浸るつ
ぼの北部が少くとも部分的に取除かれることによって達
成される。
本発明によって使用されるるつぼ材料は、合金化及びこ
れに続く拡散によって接触片に到達するるつぼ成分が接
点材料の許される或は好ましい添加物となるように、そ
の組成に配慮が施されている。
れに続く拡散によって接触片に到達するるつぼ成分が接
点材料の許される或は好ましい添加物となるように、そ
の組成に配慮が施されている。
これにより同時に、必要に応じてるつぼ或はその主成分
を接触片の中に一体化することも可能となる。
を接触片の中に一体化することも可能となる。
この場合るつぼ材料を適当に選択すれば、製造技術的効
果の外に、坦体棒と接触片の中に吸収されるるつぼ底と
の間に良好なろう付けの可能性も生ずる。
果の外に、坦体棒と接触片の中に吸収されるるつぼ底と
の間に良好なろう付けの可能性も生ずる。
このようなるつぼを使用した場合には、更に、適当に過
剰含浸により、圧縮成形され或は焼結された接点素材の
無多孔的含浸が保証される。
剰含浸により、圧縮成形され或は焼結された接点素材の
無多孔的含浸が保証される。
本発明の今一つの利点は、特別の結合処理を施すことを
要せずに、粉末泊金的に製作された無多孔的薄層を、今
一つの中実の基底層或は中間層と結合することが可能と
なることである。
要せずに、粉末泊金的に製作された無多孔的薄層を、今
一つの中実の基底層或は中間層と結合することが可能と
なることである。
上記接触片の製作は、含浸される金属粉末がcm2当り
IMP以下の圧縮力を以てるっは゛の中へ圧入されるが
、或は焼結された成形部品として含浸るつぼの中へ挿入
されるという仕方で行われる。
IMP以下の圧縮力を以てるっは゛の中へ圧入されるが
、或は焼結された成形部品として含浸るつぼの中へ挿入
されるという仕方で行われる。
何れの場合に於いても、酸素を含まない材料で作られた
コンパクトな円板の形の現存する多孔部分の容積に応じ
て必要とされるだけの銅が、既知の仕方で圧縮体或は焼
結体の上に載せられる。
コンパクトな円板の形の現存する多孔部分の容積に応じ
て必要とされるだけの銅が、既知の仕方で圧縮体或は焼
結体の上に載せられる。
これに引続き、真空中で約1150℃の温度で含浸処理
が施される。
が施される。
るつぼの壁厚は少なくとも0.5mmにしなけれは゛な
らないことが判明している。
らないことが判明している。
次に、図面と共に本発明の幾つかの実施例をもとに本発
明の作用及び効果につき詳細に説明する。
明の作用及び効果につき詳細に説明する。
実施例 1
1mm厚の深絞り鋼板より成る、直径80mm、高さ3
0mmの円筒形含浸るつは11の中へ、50容積%の空
間充填率を有するクロムより成る焼結体12が挿入され
た(第1図)。
0mmの円筒形含浸るつは11の中へ、50容積%の空
間充填率を有するクロムより成る焼結体12が挿入され
た(第1図)。
上記焼結体12の上へ酸素を含まない銅より成る円板1
3が載せられた。
3が載せられた。
これに引続き真空中で約1150℃の温度で、焼結体1
2が完全に含浸されるまで含浸処理が施された。
2が完全に含浸されるまで含浸処理が施された。
含浸処理が完了した後、含浸るつぼ11の外筒が削り取
られ、これに対しるつぼ11の底14は接触片へ合金的
に融合しているので、導電棒との結合のためのろう付け
を施し得る基底層としてそのまま保持された。
られ、これに対しるつぼ11の底14は接触片へ合金的
に融合しているので、導電棒との結合のためのろう付け
を施し得る基底層としてそのまま保持された。
これとは別に上記焼結体の代りにクロム粉末を注入或は
圧入し、以て単一の熱処理工程で焼結及び浸透処理を遂
行し得るようにしても良い。
圧入し、以て単一の熱処理工程で焼結及び浸透処理を遂
行し得るようにしても良い。
実施例 2
中央に林状の湾入部23が設けられた底22を有する深
絞り鋼板るつぼ21が、含浸型として使用された(第2
図)。
絞り鋼板るつぼ21が、含浸型として使用された(第2
図)。
るつは21の中へ50容積%の空間充填率を有するバナ
ジウムより成る焼結円板24が挿入され、この円板が湾
入部23へ載せられた。
ジウムより成る焼結円板24が挿入され、この円板が湾
入部23へ載せられた。
この焼結円板24の上には銅の円板25が載せられた。
含浸処理(実施例1と同じ)が施された後、るつぼ外筒
を削り取ることにより一つの二層接触片が得られた。
を削り取ることにより一つの二層接触片が得られた。
即ちこの接触片の開閉作用面は含浸焼結材料より成り、
その銅の基底層は鋼の壁で覆われた湾入部23を有し、
この湾入部へ導電棒を挿入してろう付けすれば良い。
その銅の基底層は鋼の壁で覆われた湾入部23を有し、
この湾入部へ導電棒を挿入してろう付けすれば良い。
実施例 3
深絞り鋼より階段状に作られたるつぼ31の中に、少な
くとも35容積%のクロムを含むクロム、コバルト及び
ニッケルの混合物より成す50容積%の空間充填率を有
する焼結円板32が挿入された(第3図)。
くとも35容積%のクロムを含むクロム、コバルト及び
ニッケルの混合物より成す50容積%の空間充填率を有
する焼結円板32が挿入された(第3図)。
上記円板の直径はるつぼ壁の階段状の肩33へ載せられ
るように選択され、従って底34から成る一定の距離が
保たれている。
るように選択され、従って底34から成る一定の距離が
保たれている。
焼結円板32の上には銅の円板35が載せられた。
含浸処理(実施例1と同じ)が施されている間、焼結円
板32とるつぼの底34との間の中間空所36は含浸材
料で充填された。
板32とるつぼの底34との間の中間空所36は含浸材
料で充填された。
るつぼ31の壁が取除かれた後、含浸焼結材料より成る
開閉面とるつぼ31の合金的に融合された底31とを有
する接触片用多層素材が得られた。
開閉面とるつぼ31の合金的に融合された底31とを有
する接触片用多層素材が得られた。
るつぼを階段状に形成する代りに、焼結円板を収容する
ための円錐状拡大部を有する形態を選択することもでき
る。
ための円錐状拡大部を有する形態を選択することもでき
る。
実施例 4
含浸型として薄い鋼板より成る深絞りるつぼ41が使用
され、その中に鉄或はCrNi・鋼の円板42が挿入さ
れた(第4図)。
され、その中に鉄或はCrNi・鋼の円板42が挿入さ
れた(第4図)。
この円板42の上に、50容積%の空間充填率を有する
クロムより成る焼結体43が配置された。
クロムより成る焼結体43が配置された。
焼結体43の上に酸素を含まない銅より成る銅円板44
が載せられた。
が載せられた。
含浸処理(実施例1)の完了後、焼結体43はCrNi
・円板42と結合された。
・円板42と結合された。
次いでるつぼの壁と底とが取除かれた。
第1図ないし第4図は本発明の異なる実施例を説明する
ための含浸工程におけるるつぼの断面図である。 11、 21. 31. 41・・・・・・るつぼ、1
2,24.32,43・・・・・・焼結体、13. 2
5. 35゜44・・・・・・銅の円板、14. 22
. 34・・・・・・るつは゛の底、42・・・・・・
鉄或はCrNi円板。
ための含浸工程におけるるつぼの断面図である。 11、 21. 31. 41・・・・・・るつぼ、1
2,24.32,43・・・・・・焼結体、13. 2
5. 35゜44・・・・・・銅の円板、14. 22
. 34・・・・・・るつは゛の底、42・・・・・・
鉄或はCrNi円板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少くとも35容積%のクロム或はバナジウムを含む
銅含有複合材料、或は上記材料とコバルI・、ニッケル
或は鉄との混合物より成る接触層と、ろう付は或は溶接
可能な坦体層とより作られ、これらの金属の粉末圧縮成
形体或は焼結体が真空るつぼ内で無多孔性となるように
溶融銅を以て含浸されて成る、真空遮断器用多層接触片
の製造方法に於いて、粉末圧縮成形体或は焼結体12,
24゜32.43が鉄、銅或はCrNi鋼より作られた
るつぼ11,21,31,41.の中で酸素を含まない
銅13,25,35,44を以て完全に含浸され、次い
で含浸るつぼ11,21,31.41の少くとも一部が
取除かれることを特徴とする真空遮断器用多層接触片の
製造方法。 2 深絞り鋼より成りその底22の中央に杯状の湾入部
23を有するるつぼ21の中で、円板状の焼結体或は粉
末圧縮成形体24が酸素を含まない銅25を以て無多孔
的に含浸され、次いでるつぼの底22が坦体層の構成部
分となるようにるつぼ壁が取除かれることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 深絞り鋼より成り階段状に眉付けられたるつぼ31
の中に、焼結円板或は粉末圧縮成形体32がるつは゛の
底34の上ではなく一定の中間室36が保たれるように
挿入され、前記焼結円板32が酸素を含まない銅35を
以て完全に含浸され、その際中間室36が含浸材料を以
て充たされるようにし、次いでるつぼの壁部分が取除か
れることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法
。 4 薄い鋼板より深絞りで作られたるつぼ41が使用さ
れ、るつぼ41の中に鉄或はCrNi鋼の円板或は型材
が挿入され、この円板或は型材上に焼結体43が載せら
れ、この焼結体43が酸素を含まない44を以て完全に
含浸され、次いでるつぼ41の壁及び底が取除かれるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19752536153 DE2536153B2 (de) | 1975-08-13 | 1975-08-13 | Verfahren zum herstellen mehrschichtiger kontaktstuecke fuer vakuummittelspannungsleistungsschalter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPS5222769A JPS5222769A (en) | 1977-02-21 |
| JPS5951691B2 true JPS5951691B2 (ja) | 1984-12-15 |
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Family Applications (1)
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- 1976-08-13 GB GB33829/76A patent/GB1504644A/en not_active Expired
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