JPS5949847B2 - 放電加工装置 - Google Patents
放電加工装置Info
- Publication number
- JPS5949847B2 JPS5949847B2 JP11493378A JP11493378A JPS5949847B2 JP S5949847 B2 JPS5949847 B2 JP S5949847B2 JP 11493378 A JP11493378 A JP 11493378A JP 11493378 A JP11493378 A JP 11493378A JP S5949847 B2 JPS5949847 B2 JP S5949847B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- machining
- discharge
- processing
- power source
- Prior art date
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- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/022—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges for shaping the discharge pulse train
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H2300/00—Power source circuits or energization
- B23H2300/20—Relaxation circuit power supplies for supplying the machining current, e.g. capacitor or inductance energy storage circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は直流電源をトランジスタ等のスイッチによりオ
ン・オフして加工パルス列を発生し、発生パルス列を電
極と被加工体の加工間隙に供給して加工する放電加工装
置の改良に係る。
ン・オフして加工パルス列を発生し、発生パルス列を電
極と被加工体の加工間隙に供給して加工する放電加工装
置の改良に係る。
パルス列は加工単位のパルス巾τ。
ｎ、ｓと間隔τｏｆｆ、ｓを有するパルス列を発生する
。また好ましくはノ飢ス列をパルスの無い間隔τ。ｆｆ
によつて中断制御し、この中断により分離された継続時
間τｏｎのパルス列と中断間隔τ。ｆｆとを繰返すパル
スを加工間隙に供給して放電加工する。また前記τｏｎ
、τｏｆｆ等を加工間隙の放電状態により制御し、また
τ。ｎ、ｓ、τｏｆｆ、ｓ等も制御することにより最適
加工することができる。パルスの中断制御により発生加
工屑がこの期間中に排除され、間隙浄化が行なわれるか
ら、次のパルス列による放電は安定して行なわれ、たと
え放電がアーク等になつても次の中断制御によつて容易
に遮断することができる。一方加工間隙の間隙長制御は
通常加工間隙の放電状態を信号として行なうが、常に易
放電状態に制御する。
。また好ましくはノ飢ス列をパルスの無い間隔τ。ｆｆ
によつて中断制御し、この中断により分離された継続時
間τｏｎのパルス列と中断間隔τ。ｆｆとを繰返すパル
スを加工間隙に供給して放電加工する。また前記τｏｎ
、τｏｆｆ等を加工間隙の放電状態により制御し、また
τ。ｎ、ｓ、τｏｆｆ、ｓ等も制御することにより最適
加工することができる。パルスの中断制御により発生加
工屑がこの期間中に排除され、間隙浄化が行なわれるか
ら、次のパルス列による放電は安定して行なわれ、たと
え放電がアーク等になつても次の中断制御によつて容易
に遮断することができる。一方加工間隙の間隙長制御は
通常加工間隙の放電状態を信号として行なうが、常に易
放電状態に制御する。
前記パルス列の各パルスによつて不発放電が発生しない
ように制御するが、間隙を狭めればそれだけアーク放電
が発生し易く洗浄効果も悪くなる。したがつてこのよう
なときはパルス列の続く時間巾τＩを短かくし中断制御
の繰返し数を高めればよいが、それでは加工速度が低下
する。またそれでは加工間隙長を広く匍脚してやればよ
いが、これにより洗浄効果が上つてもパルス列中の放電
が発生しない不発放電数が増加するから好ましくない。
本発明はこのような点に鑑みて提案されたもので、加工
パルス列を発生する主加工用電源の他に、前記加工パル
スを発生する直流電源より高電圧の充電々線で充電され
るコンデンサの放電々流を供給する補助電源を加工間隙
に接続し、前記主加工用電源の発生するパルス列に、該
加工パルス数より少ない割合で前記補助電源のコンデン
サ放電々流を組入れるようにしたもので、コンデンサ放
電電流はパルス列加工パルスによる放電々流よりも高電
圧、高電流となり、これにより放電エネルギ増大パルス
が加工パルス列中に組入れられることになり、加工間隙
は通常よりも広げられるが、連続して広がるわけではな
く、したがつて加工間隙の易放電状態は維持され、且つ
間隙洗浄効果は高められ、コンデンサ放電々流の組入数
、率によつて間隙制御が最適にでき、またパルス列の中
断制御を行なう回数を少なくして安定加工ができ、加工
速度を高めることができる。
ように制御するが、間隙を狭めればそれだけアーク放電
が発生し易く洗浄効果も悪くなる。したがつてこのよう
なときはパルス列の続く時間巾τＩを短かくし中断制御
の繰返し数を高めればよいが、それでは加工速度が低下
する。またそれでは加工間隙長を広く匍脚してやればよ
いが、これにより洗浄効果が上つてもパルス列中の放電
が発生しない不発放電数が増加するから好ましくない。
本発明はこのような点に鑑みて提案されたもので、加工
パルス列を発生する主加工用電源の他に、前記加工パル
スを発生する直流電源より高電圧の充電々線で充電され
るコンデンサの放電々流を供給する補助電源を加工間隙
に接続し、前記主加工用電源の発生するパルス列に、該
加工パルス数より少ない割合で前記補助電源のコンデン
サ放電々流を組入れるようにしたもので、コンデンサ放
電電流はパルス列加工パルスによる放電々流よりも高電
圧、高電流となり、これにより放電エネルギ増大パルス
が加工パルス列中に組入れられることになり、加工間隙
は通常よりも広げられるが、連続して広がるわけではな
く、したがつて加工間隙の易放電状態は維持され、且つ
間隙洗浄効果は高められ、コンデンサ放電々流の組入数
、率によつて間隙制御が最適にでき、またパルス列の中
断制御を行なう回数を少なくして安定加工ができ、加工
速度を高めることができる。
以下図面の一実施例により本発明を説明する。
第１図は中断制御されたパルス列（電流パルス）を示す
もので、加工単位のパルス巾τ。Ｎ．５と間隔τ０ｆｆ
．，を有するパルスは加工材質、力旺条件等によつて設
定される。このパルス列を中断するパルスの無い間隔τ
。Ｆｆは前の放電によつて発生した加工屑等が間隙から
充分排除される時間を必要とし、またパルス列の継続時
間τ。。は各パルスによる放電が独立したパルス放電を
発生する範囲で設定する。パルス列中に高い電圧に充電
されたコンデンサ放電を組入れることによつて波高値１
ｐが増大制御される。第２図は一実施例回路図で、１は
加工用電極、２は被加工体で、この両者の対向により加
工間隙を形成する。
もので、加工単位のパルス巾τ。Ｎ．５と間隔τ０ｆｆ
．，を有するパルスは加工材質、力旺条件等によつて設
定される。このパルス列を中断するパルスの無い間隔τ
。Ｆｆは前の放電によつて発生した加工屑等が間隙から
充分排除される時間を必要とし、またパルス列の継続時
間τ。。は各パルスによる放電が独立したパルス放電を
発生する範囲で設定する。パルス列中に高い電圧に充電
されたコンデンサ放電を組入れることによつて波高値１
ｐが増大制御される。第２図は一実施例回路図で、１は
加工用電極、２は被加工体で、この両者の対向により加
工間隙を形成する。
３は主加工用電源の直流電源、４はオン・オフスイツチ
ング制御して加工パルスを発生するトランジスタ等のス
イツチで、電源３をスイツチングして発生した加工パル
スを加工間隙に供給して放電加工する。
ング制御して加工パルスを発生するトランジスタ等のス
イツチで、電源３をスイツチングして発生した加工パル
スを加工間隙に供給して放電加工する。
５は加工単位のパルス巾τ００．８と間隔τ。
Ｆｆ．８を有するパルス列を発生する発振器、６は時間
巾τ。ｎと間隔τ。Ｆｆの中断制御パルスを発生する発
振器で、両発振器５，６の出力パルスをアンドゲート７
で結合することにより第１図に示したパルス列が時間１
］τ００継続し、次に中断間隔τ。Ｆｆの中断制御が行
なわれ、これが次々に繰返すパルスを発生し、スイツチ
４を制御する。即ち前記発振器によつてスイツチ制御パ
ルスの発生回路を構成する。
巾τ。ｎと間隔τ。Ｆｆの中断制御パルスを発生する発
振器で、両発振器５，６の出力パルスをアンドゲート７
で結合することにより第１図に示したパルス列が時間１
］τ００継続し、次に中断間隔τ。Ｆｆの中断制御が行
なわれ、これが次々に繰返すパルスを発生し、スイツチ
４を制御する。即ち前記発振器によつてスイツチ制御パ
ルスの発生回路を構成する。
８は補助電源の直流電源で、前記主加工電源の直流電源
３より高くしてある。
３より高くしてある。
９は直流電源８によつて充電され放電用コンデンサ、１
０が放電制御スイツチで、サイリスタが用いられている
。
０が放電制御スイツチで、サイリスタが用いられている
。
１１はコンデンサ９の充電々圧を検出する抵抗、１２は
検出信号によりスイツチ１０をオン導通制御するパルス
発生回路で、スイツチ１０オンによりコンデンサ９放電
々流を加工間隙に供給する。
検出信号によりスイツチ１０をオン導通制御するパルス
発生回路で、スイツチ１０オンによりコンデンサ９放電
々流を加工間隙に供給する。
以上において主加工電源からはスイツチ４のオン・オフ
スイツチング制御によつて、加工単位のパルス巾τ。
スイツチング制御によつて、加工単位のパルス巾τ。
０．５と間隔τ。
Ｆｆ．８を有するパルス列が中断間隔τ。Ｆｆで中断制
御された時間巾τ。ｎ継続するパルス列の加工パルスが
次々に繰返して発生し加工間隙に供給され放電加工が行
なわれる。そしてこの加工パルス列に補助電源からスイ
ツチ１０のオン・オフ制御によつてコンデンサ９の放電
々流が組入れられ、このコンデンサ９の放電々流は主加
工電源の直流電源３より高電圧の直流電源８によつて充
電され、スイツチ１０のオン導通により衝撃的に放電す
るから高電流パルスが組入られ、第１図に示すようなパ
ルスを加工間隙に流すことができる。この波高値増大パ
ルスの組入れはコンデンサ９の充電速度によつて制御さ
れ、所定の充電が行なわれる毎に抵抗１１の検出信号に
よつてパルス回路１２が作動し制御パルスをスイツチ１
０に加えて制御しコンデンサ９放電を行なうようにして
いる。充電速度が毎回殆んど一定ならば第１図のように
所定間隔毎に波高値増大パルスを組入れることができる
。増大する波高値はコンデンサ９の充電々圧及び放電回
路抵抗等によつて制御され任意に制御することができる
。この波高値増大パルスによつて所定のτ。
御された時間巾τ。ｎ継続するパルス列の加工パルスが
次々に繰返して発生し加工間隙に供給され放電加工が行
なわれる。そしてこの加工パルス列に補助電源からスイ
ツチ１０のオン・オフ制御によつてコンデンサ９の放電
々流が組入れられ、このコンデンサ９の放電々流は主加
工電源の直流電源３より高電圧の直流電源８によつて充
電され、スイツチ１０のオン導通により衝撃的に放電す
るから高電流パルスが組入られ、第１図に示すようなパ
ルスを加工間隙に流すことができる。この波高値増大パ
ルスの組入れはコンデンサ９の充電速度によつて制御さ
れ、所定の充電が行なわれる毎に抵抗１１の検出信号に
よつてパルス回路１２が作動し制御パルスをスイツチ１
０に加えて制御しコンデンサ９放電を行なうようにして
いる。充電速度が毎回殆んど一定ならば第１図のように
所定間隔毎に波高値増大パルスを組入れることができる
。増大する波高値はコンデンサ９の充電々圧及び放電回
路抵抗等によつて制御され任意に制御することができる
。この波高値増大パルスによつて所定のτ。
Ｎ．５とτ０ｆｆ．８で繰返されるパルス列による加工
間隙の放電状態に変化をきたし、即ち加工間隙を形成す
る電極１にサーボ送り機構が設けてあり、サーボは間隙
信号にょつて制御され、加工間隙に流れる電流が増大す
るときは間隙長を広げ、電流が低減するときは間隙を狭
めるよう制御するが、このサーボによる間隙の制御は一
般に間隙長をｌとすればで表わされる。
間隙の放電状態に変化をきたし、即ち加工間隙を形成す
る電極１にサーボ送り機構が設けてあり、サーボは間隙
信号にょつて制御され、加工間隙に流れる電流が増大す
るときは間隙長を広げ、電流が低減するときは間隙を狭
めるよう制御するが、このサーボによる間隙の制御は一
般に間隙長をｌとすればで表わされる。
したがつてＩｐはｌパルスの波高値であるが、サーボが
追従できない高周波の場合は平均電流値と考えてよく、
平均電流を高めることによつて間隙長が広がることがわ
かる。第１図 Ｊのようにパルス列中に波高値増大パル
スを組入れることによつて組入時にサーボにより加工間
隙が広げられることがわかる。そしてこの波高値増大パ
ルスの組入れにより時間間隙を広げられ、組入れ数によ
り間隙長を任意に制御できることがわかる。通常組入れ
数はパルス列中に１〜３０％程度に制御することにより
充分であり、加工間隙を制御することにより加工屑排除
効果を高め放電を制御し安定した加工をすることができ
る。またこの波高値増大パルスによつて間隙の加工屑等
の不動−態化物、被加工体表面の放電噴出等を溶断し排
除することも期待され、放電がアーク等になりかけたと
きこの波高値増大パルスを組入れることによつて安定加
工を続けることができる。以上のようにして加工パルス
列中に波高値増大パルスを組入れることによつて加工間
隙を制御するから特に加工パルスの電圧制御をする必要
がなく、定電圧の低電圧パルスでもつて安定した加工が
でき、またパルス列による安定加工ができるので、パル
ス列の継続時間τ。
追従できない高周波の場合は平均電流値と考えてよく、
平均電流を高めることによつて間隙長が広がることがわ
かる。第１図 Ｊのようにパルス列中に波高値増大パル
スを組入れることによつて組入時にサーボにより加工間
隙が広げられることがわかる。そしてこの波高値増大パ
ルスの組入れにより時間間隙を広げられ、組入れ数によ
り間隙長を任意に制御できることがわかる。通常組入れ
数はパルス列中に１〜３０％程度に制御することにより
充分であり、加工間隙を制御することにより加工屑排除
効果を高め放電を制御し安定した加工をすることができ
る。またこの波高値増大パルスによつて間隙の加工屑等
の不動−態化物、被加工体表面の放電噴出等を溶断し排
除することも期待され、放電がアーク等になりかけたと
きこの波高値増大パルスを組入れることによつて安定加
工を続けることができる。以上のようにして加工パルス
列中に波高値増大パルスを組入れることによつて加工間
隙を制御するから特に加工パルスの電圧制御をする必要
がなく、定電圧の低電圧パルスでもつて安定した加工が
でき、またパルス列による安定加工ができるので、パル
ス列の継続時間τ。
ｎを長くすることができ、中断間隔τ。Ｆｆを短かくす
ることができ、中断制御の繰返しを少なくでき、または
中断制御を必要としなくなり、これにより加工速度を高
めることができる。また波高値増大パルスのＩｐは、例
えば他の加工パルス列のパルスの２倍になつても加工面
粗さは理論上１．２倍にしか増大せず、しかも波高値増
大パルスの組入れ数は全体パルス列の３０％程度以下の
少量であり、又、波高値増大パルスを前記のようにコン
デンサ放電によつて供給するようにしたから、Ｉｐを充
分高くでき、そのときのパルス幅を充分小さくでき、し
たがつて加工面粗さは殆んど変化なく、また加工精度も
低下させないで安定加工できる。例えば放電コンデンサ
９に０．０５μＦを用い、これをなるべく加工間隙の近
くに配置し接続して放電回路のインダクタンスがＬ ＝
０．２μＨにし、組入パルスをパルス巾０．１μｓ、
波高値Ｉｐ２ＯＯＡとし、加工パルス列はパルス巾１３
μｓ、間隔１３μＳ）波高値５０Ａの中断制御なしのパ
ルスを用い、これに前記コンデンサ放電による波高値増
大パルスを３％の割合で組入れるようにして、ＷＣｕ電
極でＦｅ材の加工をしたとき加工速度は０．３１／Ｍｗ
ｔ．加工面粗さ１３μＲｍａｘｂ電極消耗比Ｅ／Ｗ３％
であつた。
ることができ、中断制御の繰返しを少なくでき、または
中断制御を必要としなくなり、これにより加工速度を高
めることができる。また波高値増大パルスのＩｐは、例
えば他の加工パルス列のパルスの２倍になつても加工面
粗さは理論上１．２倍にしか増大せず、しかも波高値増
大パルスの組入れ数は全体パルス列の３０％程度以下の
少量であり、又、波高値増大パルスを前記のようにコン
デンサ放電によつて供給するようにしたから、Ｉｐを充
分高くでき、そのときのパルス幅を充分小さくでき、し
たがつて加工面粗さは殆んど変化なく、また加工精度も
低下させないで安定加工できる。例えば放電コンデンサ
９に０．０５μＦを用い、これをなるべく加工間隙の近
くに配置し接続して放電回路のインダクタンスがＬ ＝
０．２μＨにし、組入パルスをパルス巾０．１μｓ、
波高値Ｉｐ２ＯＯＡとし、加工パルス列はパルス巾１３
μｓ、間隔１３μＳ）波高値５０Ａの中断制御なしのパ
ルスを用い、これに前記コンデンサ放電による波高値増
大パルスを３％の割合で組入れるようにして、ＷＣｕ電
極でＦｅ材の加工をしたとき加工速度は０．３１／Ｍｗ
ｔ．加工面粗さ１３μＲｍａｘｂ電極消耗比Ｅ／Ｗ３％
であつた。
なお波高値増大パルスを組入れないときは加工速度０．
１２ｇ／Ｍｚ７ｚ，加工面粗さ１３μＲｍａｘ、電極消
耗比１３％であつた。第３図はコンデンサ放電を制御す
るスイツチ１０を加工パルスを発生するアンドゲート？
の出力制御パルスをプリセツトカウンタ１３で所定のカ
ウントを行なう毎にスイツチ制御する例である。
１２ｇ／Ｍｚ７ｚ，加工面粗さ１３μＲｍａｘ、電極消
耗比１３％であつた。第３図はコンデンサ放電を制御す
るスイツチ１０を加工パルスを発生するアンドゲート？
の出力制御パルスをプリセツトカウンタ１３で所定のカ
ウントを行なう毎にスイツチ制御する例である。
，４は制御パルス発生回路である。これによるときは加
工パルスと波高値増大パルスの組入率は設定により一定
に制御できる。
工パルスと波高値増大パルスの組入率は設定により一定
に制御できる。
第４図は加工間隙の放電状態によつて波高値増大パルス
の組入を制御するもので、１５は加工間隙の放電を検出
する回路、１６は回路１５の検出にもとずく信号、即ち
放電数、正常放電数、不良放電数等をカウントするプリ
セツトカウンタ、ＩＴはカウンタ１６の信号によつて制
御信号を発生するパルス発生回路で、制御パルスをスイ
ツチ１０に加えてオン・オフ制御する。即ちこの実施例
によれば加工間隙の放電にもとずいて、波高値増大パル
スを組入れることができ、間隙状態に応じて最適制御が
できる。
の組入を制御するもので、１５は加工間隙の放電を検出
する回路、１６は回路１５の検出にもとずく信号、即ち
放電数、正常放電数、不良放電数等をカウントするプリ
セツトカウンタ、ＩＴはカウンタ１６の信号によつて制
御信号を発生するパルス発生回路で、制御パルスをスイ
ツチ１０に加えてオン・オフ制御する。即ちこの実施例
によれば加工間隙の放電にもとずいて、波高値増大パル
スを組入れることができ、間隙状態に応じて最適制御が
できる。
以上のように本発明は加工パルス列に組入れて波高値増
大パルスを供給するのにコンデンサ放電によつて供給す
るようにしたので、Ｉｐを充分高くでき、Ｉｐの高いパ
ルスを容易に供給することができ、しかもコンデンサ放
電によつてパル久幅を充分小さくでき、加工パルス列に
よる加工面粗さとか加工精度を悪くすることなく、その
加工特性に殆んど影響を与えることなしに加工すること
ができ、この波高値増大パルスの組入れによつて加工間
隙が広げられ、チツプ等の排除効果が高まり安定加工に
より加工速度を高めることができる。そしてコンデンサ
放電を利用することにより充電電源は小容量、小型にで
き、短絡大電流を流し電源を破損したり、加工面を傷付
けたりすることもなく安定した放電加工を行なうことが
できる。
大パルスを供給するのにコンデンサ放電によつて供給す
るようにしたので、Ｉｐを充分高くでき、Ｉｐの高いパ
ルスを容易に供給することができ、しかもコンデンサ放
電によつてパル久幅を充分小さくでき、加工パルス列に
よる加工面粗さとか加工精度を悪くすることなく、その
加工特性に殆んど影響を与えることなしに加工すること
ができ、この波高値増大パルスの組入れによつて加工間
隙が広げられ、チツプ等の排除効果が高まり安定加工に
より加工速度を高めることができる。そしてコンデンサ
放電を利用することにより充電電源は小容量、小型にで
き、短絡大電流を流し電源を破損したり、加工面を傷付
けたりすることもなく安定した放電加工を行なうことが
できる。
第１図は本発明を説明するパルス波形図、第２図は本発
明の一実施例回路構成図、第３図及び第４図は他の実施
例回路構成図である。 １は電極、２は被加工体、３は直流電源、４はスイツチ
、５，６は発振器、７はアンドゲート、８は直流電源、
９はコンデンサ、１０はスイツチ、１１は電圧検出抵抗
、１２はパルス発生回路、１３はカウンタ、１４はパル
ス発生回路、１５は信号検出回路、１６はカウンタ、１
７はパルス発生回路である。
明の一実施例回路構成図、第３図及び第４図は他の実施
例回路構成図である。 １は電極、２は被加工体、３は直流電源、４はスイツチ
、５，６は発振器、７はアンドゲート、８は直流電源、
９はコンデンサ、１０はスイツチ、１１は電圧検出抵抗
、１２はパルス発生回路、１３はカウンタ、１４はパル
ス発生回路、１５は信号検出回路、１６はカウンタ、１
７はパルス発生回路である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 加工用電極と被加工体の加工間隙に、直流電源とオ
ン・オフスイッチ及び該スイッチを制御するパルス発生
回路により加工単位のパルス幅と間隔を有するパルス列
の加工用パルスを供給する主加工用電源を接続すると共
に、放電用コンデンサと前記直流電源より高電圧の充電
電源と放電制御用スイッチ及び該スイッチを制御するパ
ルス発生回路によりコンデンサ放電電流を供給する補助
電源を接続し、前記主加工用電源の発生するパルス列に
該パルス列のパルス数より少ない割合で前記補助電源の
コンデンサ放電電流を組入れるようにしたことを特徴と
する放電加工装置。 ２ 主加工用電源は、加工単位のパルス幅と間隔を有す
るパルス列をパルスの無い間隔によつて中断させてパル
ス列の接続時間と中断間隔とを交互に繰返す加工用パル
スを供給することを特徴とする特許請求の範囲第１項に
記載の放電加工装置。 ３ 補助電源のパルス発生回路は放電用コンデンサの充
電電圧を信号として制御パルスを発生することを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の放電加工装置。 ４ 補助電源のパルス発生回路は所定の時間間隔で制御
パルスを発生することを特徴とする特許請求の範囲第１
項に記載の放電加工装置。 ５ 補助電源のパルス発生回路は加工間隙の状態に応じ
て制御パルスを発生することを特徴とする特許請求の範
囲第１項に記載の放電加工装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11493378A JPS5949847B2 (ja) | 1978-09-18 | 1978-09-18 | 放電加工装置 |
| US06/056,856 US4503309A (en) | 1978-07-21 | 1979-07-12 | EDM Method and apparatus with successive trains of intermittently enlarged elementary pulses |
| GB7925101A GB2025824B (en) | 1978-07-21 | 1979-07-18 | Electrical descharge machining |
| DE19792929454 DE2929454A1 (de) | 1978-07-21 | 1979-07-20 | Verfahren und vorrichtung zum elektroerosiven bearbeiten |
| IT49827/79A IT1118893B (it) | 1978-07-21 | 1979-07-20 | Procedimento e dispositivo per la lavorazione a scarica elettrica consequenze di treni di impulsi elementtari amplificati ad intermittenza |
| FR7918849A FR2431345A1 (fr) | 1978-07-21 | 1979-07-20 | Procede et appareil pour l'usinage par decharges electriques |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11493378A JPS5949847B2 (ja) | 1978-09-18 | 1978-09-18 | 放電加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5542743A JPS5542743A (en) | 1980-03-26 |
| JPS5949847B2 true JPS5949847B2 (ja) | 1984-12-05 |
Family
ID=14650247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11493378A Expired JPS5949847B2 (ja) | 1978-07-21 | 1978-09-18 | 放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5949847B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IL123390A (en) * | 1997-04-03 | 2000-11-21 | Funai Electric Co | Air conditioning system |
-
1978
- 1978-09-18 JP JP11493378A patent/JPS5949847B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5542743A (en) | 1980-03-26 |
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