JPS5948493A - ジ−(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法 - Google Patents

ジ−(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法

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JPS5948493A
JPS5948493A JP15803482A JP15803482A JPS5948493A JP S5948493 A JPS5948493 A JP S5948493A JP 15803482 A JP15803482 A JP 15803482A JP 15803482 A JP15803482 A JP 15803482A JP S5948493 A JPS5948493 A JP S5948493A
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菊池 敏夫
Yukimitsu Uno
宇野 幸光
Eiichi Tatsutani
栄一 龍谷
Tadashi Saito
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はジー(2−エチルヘキシル)リン酸の改良され
た製造方法である。 ジー(2−エチルヘキシル)リン酸自体は公知の化合物
であり、主に金属抽出剤としての用途をもち、高純度の
ものが要望されている。 i)L来、このものの製造方法として、二塩化リン々2
−エチルヘキンルアルコールヲ反応させジー(2−エチ
ルヘキシル)ハイドロジエンポスファイトを117、こ
れを塩素化しジー(2〜エチル〜キンル)ボスポロクロ
リゾイトとし、次いて加水分解する方法は公知である。 これを式で表わせは次のよってある。    。 pet3+  :u+(m −+ (1(0)、、P)
] + E(ct−1−2ncz  ・ ・ −110
0 (Ru)2PH+C,12→([’(0)2PCt+ 
HCt・・・・[2)(但し上式中のI)は2−エチル
ヘキシル基を示す。)ところがこの方法を通常操作した
場合には副生物として2−エチルへギシルクロライド、
塩酸。 トリヌー(2−エチルヘキシル〕リン酸、モノ−(2−
エテルヘキシル)リン酸、ビス2−エチル・\ギシルエ
ーテル、テトラ−(2−エチルヘキシル)ピロポスフェ
ート、その他の不純物が生じるため高純度、旨収ヰで目
的物が1号られない。 そこで特開昭5m−103188弓公報に見られるよう
に、反応雰囲気、塩素化条(I−1、加水分[!lIC
条件、精製条件等を種々検問した力1人が1P案されて
いる。しかしながらこの力を去(こも、−トロ己(2)
式で表わされる塩素化工程が−1−盾的には拍1′11
な’un視イ′1業を要する割にはその効果が四面Cな
いこと、(3)弐゛C表わされる加水分解」−稈を酸性
側て遂j」シているため副生ずる不純物、特にモノ−(
2−エチルヘキシル)リン酸の1]的物からの分jii
llが困?、、lCcあること、1」曲物の精製上程が
br心でないためll、I。 に大量に副生ずる2−エチルへA−シルク
【Jワイドの
分間1が充分てないこと、史に1フzμ’I’llての
真空蒸留、不活性ガスの吹込、薄膜蒸留による1−1的
物の分解が著しいこと等の種々の問題がある。 本発明名等は上記に鑑み、−1−業的に高純度の72−
(2−エテルヘキシル)リン酸を収・ネ゛良く製造すべ
く種々検語1した結果、三塩化リンと2−エチルヘキシ
ルアルコールとの反兄、を比較的高温で6定割合で反応
させ、その反応生成物を特5ト附の塩素で塩素化した後
、特に加水分解]二程さ目的物の精製エイjI↑を特定
条件Fて行うさ目的が達成されることを児出し本発明を
完成した。 即ち本発明は三塩化リンと2−エチルヘキシルアルコー
ルヲ反応すせジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエ
ンポスファイトを得、これを塩素化シシ〜(2−エチル
ヘキシル)ボスポロクロリゾイトとし、次いて加水分解
してジー(2−エチルヘキシル)リン酸を製ノ隻する方
法?こおいて、1)−面、塩fL ’Jノン:−エチル
ヘギシルアルコールのモル比1:295〜3. OOで
20〜5゜Cて反応させること 2)その反応生成物を、三塩化リン1モルに対して10
0〜1.05モル相当量の塩素ガスで塩素化すること 3つ 次いてその塩素化生成物を苛性アルカリ水溶液で
加水分解して和製ジー(2−エチルヘキシル)リン酸を
得ること 、1)そしてその41)製ジー(2−エテルヘキシル)
リン酸を水蒸気蒸留して精製すること からなることを特徴とするジー(2−エチルヘキシル)
リン酸の製造方法である。 す、正本発明を上記の1)ジー(2−エチルヘキシル)
ハイドロジエンポスファイト製造−1,稈、2)塩素化
工程、3)加水分解」−稈1.+)r:’i・k−1程
の順に説明する。 ジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエンポスファイ
トの製造に当っては、三1益化リンと2−エチルヘキシ
ルアルコールの反LL、fM’が巾要でifJ K1モ
ルに対して後者295〜300勃にifましくは297
〜299モルを用いる。この反1心昂、を外れた範囲で
は、トリー(2−エテルヘキンルウポスフェート、モノ
−(2−エチル−\ギシル)リン酸等に代表される不純
物の副生が増加し好ましくない。 このモル比と目11′J物であるジー(2−゛エテルヘ
キシル)リン酸の純度の関係を示すと第1図に示すグラ
フの通りてあり、又1=j rrJ物に含イ」される不
純物のモノ〜(2−エチルヘキシル)リン酸の量とモル
比との関係は第2図に示すグラフの通りてある。 一般にはこの反応は]0’C前後の低温でイ]われるこ
とが多く、その結果長時間を要するが、本発明では20
〜50℃という比較的高〆晶を採用することができる。 それは後述するυ11水分解条件、粕製条(’lと相俟
って不純物の1?1゛去が効率的に杓われるためてあろ
う6、従って反応時間も1〜2時間程度て充分である。 またこの反応は無溶媒でも不活性溶媒中てもPiうこと
がてきるが工業的には攪+゛Iした2−エチルヘキシル
アルコールの中に三塩化リンをl商トシつつ反応させ、
反応終了後は減化1へ゛に副生塩酸を除去する。反に、
雰囲気については窒素などの不活性ガス雰囲気トてイJ
うことは好ましいが必ずしも不−+Jj欠な条件ではな
い。生成物の検、7:]はガスクロマトグラフ分析によ
り監視する。 塩素化工程はジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエ
ンボスファイトに対して、原料である三塩化リン1モル
に対して100〜105モルt[1当歌の(益素ガスを
用いて、20〜40℃において2〜3時間j−」う。こ
の塩素駄はジー(2−エテルヘキシル)ハイドロジエン
ボスファイトの消費し尽される時点をガスクロマトグラ
フィーで追跡した結果決定されたもので、三塩化リンと
当■(11当ては塩素化反応は完結しない。この徴凧過
刺の塩素の存で口ま、不純物に消費される分、不完全な
気11に接触によるロス分、塩素化1−’、 A’)(
’を1lT11りL化するに充分な量を補償するのに寄
!Jするのてあろう1、いずれにせよ本発明においては
」−記!f1’A度範囲て反1.e、、するかきり、上
記特定量の塩素ガスを用いるだけという極めて」−業的
な操作てジー(2−エテル〜ギシル〕ボスホロクロリゾ
イトを容す、に製造できる。 尚この塩素化工程も通常はう11(溶媒で伺われるが、
不活性溶媒を用いることは差支えない1゜このようにし
て得られた塩素化生成物をJJ11水分解するのである
が、この際重要なことは、l′I′1′性アルカリ水溶
t(lて加水分解することである。何んとなれば単に水
を加えるだけては加水分解が元金てないばかりか、代表
的な副生物であるモ/−(2−エチルヘキシル)リン酸
の分子411が困Vjllだからである。本発明によれ
ばモノ−(2−エチルヘキシル)リン酸は用いる苛性ア
ルカリに相当したアルカリ塩となり水層へ移行し、一方
目曲物は2−エチルへギノルクロライドとともにη機層
へ移行し極めて効率よく分離できる。ここて用いる苛性
アルカリとしては苛性ソーダが代表的であるが、リチウ
ム、カリウド等の水酸化物も使用でき、好ましくは10
〜30屯量%程度の濃度のものを使用する。 何故ならあまり稀薄な苛性アルカリ水溶液では加水分解
が充分てなく、極端に濃厚なものは反応操作上取扱い難
いからである。 加水分解反応は60〜]00’Cにおいて2〜4時間程
度も行えば充分である。加水分解終了後は反応生成物を
静置し、常法に従って水層上有機層(主体は2−エチル
へギシルクロライドに溶解したジー(2−エテルヘキシ
ル)リン酸のアルカリ金属塩)を分離し、有機層を〕回
置水洗する。次いてジー(2−エチルヘキシル)リン酸
のアルカリ金属塩を適宜の鉱酸を用いてジー(2−エチ
ルヘキシル)リン酸を遊離させ次の精製工程へ移す。 内遊jiillの際に用いる鉱酸として副生ずる塩酸を
用いることは何ら差支えない。 加水分解の結果得られる主に2−エテルヘギシルクロラ
イドとジー(2−エチルヘキシル)リン酸からなる生成
物は1m常の蒸留、111(圧蒸留、不活性ガスの吹込
みなどによっては充分外μm11することができない。 本発明の目的物より低級アルキル基を有するジアルキル
リン酸例えはジメチルリン酸またはジエチルリン酸の製
造の場合には副生ずるそれぞれ相当するアルキルクロラ
イドが極めて揮発し易いので単蒸留でも容易に分割てき
、かかる問題はない。そこで本発明名等は加水分解生成
物を水蒸気蒸留することにより不純物のみを選択的に留
去し得ることを知見した。通常911点の、j−H,い
曲順を水蒸気の存在下で蒸留する所謂水蒸気蒸留は広く
イイ機物の精製方法として知られているが、これは水で
分解されない浦汀1を水と共に水゛蒸気圧を利用してよ
り低温で留出させるものであるが、本発明の目的物のよ
うに、水で分解し易いものと常識的に考えられる有機リ
ン酸エステルを水または水蒸気の存在下に蒸留すると目
的物はほとんど分解されずに、し力)も2−エチルへキ
シルクロライド、ビス2−エチルヘキンルエーテルのよ
うな不純物のみが選択的に留去され、蒸留釜残として高
収・キ′で高純度の[]的物が残るこ吉は本発明者等は
全く予期しなかった。 水蒸気蒸留に当っては、加水分解生成物に水蒸気を吹込
みつつ蒸留しても良いし、水を加えて加熱しても良い1
.その際2−エヂルヘキシルクロライドに代表される不
純物は水と共に留去してくるので、これを水層と有機層
に分肉11シ、水層は角び繰返し水蒸気蒸留に利用する
。第3図は本発明の精製[稈に利用し得る水蒸気蒸留装
置の一例である。ここて1はコンデンサー、2は加熱媒
体、3は水層、4はLI目的物含む有機層、5は4つ1
]反応装置、6はi’lli’L度計、7は攪拌装置、
8は水還流間、9は副生物を含む自機層である。反応装
置5中に加水分解生成物を装入し100℃付近で水蒸気
蒸留すると不純物と水が留去し3と9に分離するのて水
3を重度還流管8を通じ還流させて蒸留を続ける。この
際水の還流量は、原料の三塩化リンJモル当り】〜2t
Iこ相当する量で充分である。 この範囲内の水を還流させれば不純物はほぼ] (l 
0%留去でき高純度の目的物が街らイ1.る。第4図は
水の還流量と不純物有機層の留出割合をグラフ1しした
ものであり、第5図は水(ノルiW流用と目的物の純度
の関係をグラフ化したもので、これらの関係が良く理解
される。 最終目的物のジー(2−エチルヘキシル)リン酸は約1
50℃イマ]近て分解するため、本発明のように100
℃前後で水蒸気蒸留装置することは分解率が低く大変ル
イ都合である。尚水蒸夕(蒸留に先立ち2−エヂルヘギ
シルクロライドを;’h;に月1〜に出来るだけ除去す
るこ吉は一層θ丁ましいことである。 かくして本発明によれは、例えは金I黒抽出剤として使
用し得るような高純度のジー(2−エテルヘキシル)リ
ン酸を工業的に賓易に76るでとがてきる。 以F本発明を実施例、lJS較例をあけ更に具体的に説
明する。但し、収率を除き、%は車覇−%を示す。 実施例】 l)  p−(2−ニーy−ルヘキシル)ハイドロジエ
ンボスファイトの合成 2tの四つ[]フグラフに2−エテルヘギシルアルコー
ル3 s 9. ]、 y (2,98sモル)を仕込
んだ。攪拌しなから三塩化リン13742(1o。 モル)を1時間で南下した。反応温度は20 ’Cて滴
下を始め40゛cをこえない様に調整した。 滴下終γ後、温度を徐々に上げ50℃で1時間反応させ
た後、減圧下に塩化水素を除去した。 収量は484gであった。ガスクロマトグラフィー分析
の結果、ジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエンボ
スファイトは610%であった。(収率9G4%) II)ジー(2−エチルヘキシル)ホスホロクロリゾイ
トのば成 1)で合成したジー(2−エチルヘキシル)ハlノ イドロジエンポヌファイトを攪拌し、30CCから40
℃の範囲に反応温度を保持しなから塩素を導入した。ガ
スクロマトグラフィーて反1心を追跡し、ジー(2−エ
チル−\キシル)ハ・rドロジエンホスファイトが消失
した所で塩素の導入を停止した。このとき塩素の導入量
は752y(106モル)であり、時間は211’j間
を′枝した。 111〕  ジー(2−エチルヘキシル)リン酸の合1
戎11)で合成したジー(2−エチルヘキシル)ボスポ
ロクロリゾイトを攪拌しながら15%NaO■1水溶液
842 g(3,O0モル)を1Jllえ60cて2時
間反応後、更に]00’Cて211.1j間加水分解さ
せた。加水分解終了後、静置し十層の水層を分離し、有
機層を水150罰C15L(′1+シた。θ(に有機層
(即ち、2−エチルへキシルクロライドに溶解したジー
2−エチルヘキシルリン酸のN a塩)を攪拌しながら
、35%HCtI 05 g(,1,0モル)を徐々に
添加した1、;30℃て:うO分1党II′。 後、静置し下層の水層を分、j;Ifシた。 2tの四つ1」フラスコに第3図の、(へ留装置を付し
、前記自機層及び水、300 meを仕込め加熱した。 100℃に加熱すると水と共に不純物の2−エブールヘ
キシルクロライト°が留出してくるが、留出液を水層と
有機層に分離させ水は順次間つ[1フラスコにもどし循
環させた。水を10!i′/分の割合で還流させ25時
間続けた。水蒸気蒸留の後半には、1)工程て少量副生
する2−エテルヘキシルエーテルが留出してきた。水蒸
気蒸留を終了後静置し、四つログラスコ中の水層を分間
1し、有機層を20 mml−1,gまで7威圧し10
0℃に1時間保ち脱水してジー(2−エチルへキシル)
リン酸を帽た。収量は3089てあった。 中和滴定法による分析で純度は974%であった。 実施例2〜4 =、 塩化リン:2−エチルヘキシルアルコールのモル
比を変えて実施例1と同様に反応を行った結果、]・1
的物である高純度のジー(2−エテルヘキシル)リン酸
が得られた。 その結果を実施例1と共に第1表に示す。 尚、不純物として微量の七ノー(2−エテルヘキシル)
リン酸が含有されていたつ 実施例5 2−エチルヘキシルアルコール390.7 g(3,0
0モル)及び三塩化リン] 37.49 (1,00モ
ル)からジー(2−エチルヘキシル)リン酸を実施例】
と同様な方法で合成した。又、加水分解及び酸バックも
同様に処理した。水層を分間1し、η機層をエバ7」テ
レータに仕込み減圧蒸留を行なった。 20 mmHg 、  ]、 00℃で2時間蒸留を行
なったところジー(2−エテルヘキシル)リン酸の純度
は925%であった。しかし、これり、上蒸留を続けて
も純度は」こからなかった。そこで、第3図の蒸留装置
に移し、水300 meを仕込み水蒸気蒸留を1時間続
りた。その結果水の還流量は1!’500me/三塩化
リン1モルであった。 静置後、水層を分離し20 mmHgまで減圧し100
℃に1時間保ちジー(2−エテルヘキシル)リン酸を脱
水した。収量及び純度は3047及び977%であった
。す、−Lのように減圧蒸留だけでは完全に2−エチル
へキシルクロライドその他の不純物を除ノミ′Cきない
が、減圧蒸留後更に水蒸気蒸留することにより高純度の
目的物が?11られた。 比較例1 実施例1と同様な反応条件にて合成した和製ジー(2−
エテルヘキシル)リン酸を、通常の水蒸気蒸留を用いる
ことなく2−エチルへキレフレクロライドの回収を試み
た。 粗製ジー(2−エテルヘキシル)リン酸を、10mmH
gの減圧上温度90〜針5Cてo、 s lt、’j間
、さらに同減圧1” 125 ’Cまて眉l晶し、その
湿度て211!1間不純物の2−エブールヘキシルクロ
ライドを回収した。その後反応容器内にx2を125 
’C、50mmlIgにおいて1.7 K9/ hrの
速度で導入し、2−エテルへキシルクロライドを除去し
た。 ジー(2−エテルヘキシル)リン酸、モノ−・(2−エ
テルヘキシル)リン酸の含量と142導入時間の関係を
第2表に示す。 N、の導入により、ジー(2−エナルヘキシル)リン酸
の音数はり5%程度まて1屓するが、ll、’Jl)!
]の経過と共にモノ−(2−エテルヘギシル)リン酸の
増加が見られ、125Cという商791’+ ”Cはジ
ー(2−エチルヘキシル)リン酸の分解はまぬがれない
ということは明らかである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明における三J11、・1化す7.2−エ
チルヘギシルアルコールのモル比乏Ll曲物の純度との
関係を示すグラフ、第2図はモル化とl l I’l’
j物中の不純物有機層との関係を示すグラフ、第:3図
(ま水蒸気蒸留装置の一例を示す説明図、第4図は水運
流量と不純物有機層の留出割合との関係を7Jテすグラ
フ、及び第5図は水還流歇と目的物の純度との関係を示
すグラフである。 トコンデンザ−2・・加熱媒体 3 水層      4 L1的物を含む自機層5・4
つ1]反応装置 6・71′1□11度旧7・・・攪拌
装置    8・・水3′@流丑19・・・副生物を含
む有機層 第2図 モル比 第3図 手続補正書 昭和57年10月7日 特訪庁長官  若  杉  和  夫  殿l、コ1“
;件の表示 特願昭57−158034号 2、発明の名称 シー(2−エチルヘキシル)リン酸の 製造方〃: 3、補正をする者 J・1件との関係・特許出願人 東京都江東区亀戸9丁目15番1号 1」木化学工業株式会社 代表堪     棚   橋   幹   −4、代 
理 人 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号 三信ビル204号室 電話501−2+38豊IJ:l
内外特許事務所 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明Jの欄 6、補正の内容 明細書第14頁4〜5行目のr 75.2g(1,06
モル)」をr 73.0g(1,03モル)」に訂正す
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 fil  五塩化リンと2−エチルヘキシルアルコール
    を反応させジー(2−エチルヘキシル)ノ\イド1−7
    ジエンポスフアイトを胃、これを塩素化じジー(2−エ
    チルヘキシル)ホヌホロクロリテイトとし、次いで加水
    分解してジー(2−エチルヘキシル)リン酸を製造する
    方法において、1)二塩化リン 2−エテルヘキシルア
    ルコールのモル比]:295〜300て20〜50゛C
    て反応させること 2)その反1+j、生成物を、三塩化リン1モルに対シ
    て1.00〜105モル相当量の塩素ガスで塩か化する
    こと 3)次いてその塩素化生成物を苛性アルカリ水溶液で加
    水分解して粗製ジー(2−エテルヘキシル)リン酸を得
    ること 4)そしてその和製ジー(2−エチルヘキシル)リン酸
    を水蒸気蒸留して精製することからなることを特徴とす
    るジー(2−エチル−キシル)リン酸の製造方法。 (2)前記第3)の工程において、10〜30Φ、量%
    の苛性アルカリ水溶液を用いて60〜100℃で2〜4
    時間加水分解する特5′F請求の・陪間第1項記載のジ
    ー(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法。 (3)  前記第4)の工程において、原料の−く塩1
    1971モル当り1〜2tに相当する水を環t!lLさ
    せるように水蒸気蒸留して、不純物を選択的に留去し精
    製する特許請求の範囲第1項または第2項記載のジー(
    2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999010354A1 (fr) * 1997-08-26 1999-03-04 Daihachi Chemical Industry Co., Ltd. Composes esters phosphoriques et procede de production, composes esters phosphoriques du cuivre et procede de production, absorbant du proche infrarouge, et composition de resine acrylique absorbante dans le proche infrarouge

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56103188A (en) * 1980-01-03 1981-08-18 Mobil Oil Manufacture of dialkylphosphoric acid

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56103188A (en) * 1980-01-03 1981-08-18 Mobil Oil Manufacture of dialkylphosphoric acid

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999010354A1 (fr) * 1997-08-26 1999-03-04 Daihachi Chemical Industry Co., Ltd. Composes esters phosphoriques et procede de production, composes esters phosphoriques du cuivre et procede de production, absorbant du proche infrarouge, et composition de resine acrylique absorbante dans le proche infrarouge
US6410613B1 (en) 1997-08-26 2002-06-25 Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Phosphate compound and preparation process thereof, phosphate copper compound and preparation process thereof, near infrared ray absorber, and near infrared ray-absorbing acrylic resin composition

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