JPS5948493A - ジ−(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法 - Google Patents
ジ−(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法Info
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- JPS5948493A JPS5948493A JP15803482A JP15803482A JPS5948493A JP S5948493 A JPS5948493 A JP S5948493A JP 15803482 A JP15803482 A JP 15803482A JP 15803482 A JP15803482 A JP 15803482A JP S5948493 A JPS5948493 A JP S5948493A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明はジー(2−エチルヘキシル)リン酸の改良され
た製造方法である。 ジー(2−エチルヘキシル)リン酸自体は公知の化合物
であり、主に金属抽出剤としての用途をもち、高純度の
ものが要望されている。 i)L来、このものの製造方法として、二塩化リン々2
−エチルヘキンルアルコールヲ反応させジー(2−エチ
ルヘキシル)ハイドロジエンポスファイトを117、こ
れを塩素化しジー(2〜エチル〜キンル)ボスポロクロ
リゾイトとし、次いて加水分解する方法は公知である。 これを式で表わせは次のよってある。 。 pet3+ :u+(m −+ (1(0)、、P)
] + E(ct−1−2ncz ・ ・ −110
0 (Ru)2PH+C,12→([’(0)2PCt+
HCt・・・・[2)(但し上式中のI)は2−エチル
ヘキシル基を示す。)ところがこの方法を通常操作した
場合には副生物として2−エチルへギシルクロライド、
塩酸。 トリヌー(2−エチルヘキシル〕リン酸、モノ−(2−
エテルヘキシル)リン酸、ビス2−エチル・\ギシルエ
ーテル、テトラ−(2−エチルヘキシル)ピロポスフェ
ート、その他の不純物が生じるため高純度、旨収ヰで目
的物が1号られない。 そこで特開昭5m−103188弓公報に見られるよう
に、反応雰囲気、塩素化条(I−1、加水分[!lIC
条件、精製条件等を種々検問した力1人が1P案されて
いる。しかしながらこの力を去(こも、−トロ己(2)
式で表わされる塩素化工程が−1−盾的には拍1′11
な’un視イ′1業を要する割にはその効果が四面Cな
いこと、(3)弐゛C表わされる加水分解」−稈を酸性
側て遂j」シているため副生ずる不純物、特にモノ−(
2−エチルヘキシル)リン酸の1]的物からの分jii
llが困?、、lCcあること、1」曲物の精製上程が
br心でないためll、I。 に大量に副生ずる2−エチルへA−シルク
た製造方法である。 ジー(2−エチルヘキシル)リン酸自体は公知の化合物
であり、主に金属抽出剤としての用途をもち、高純度の
ものが要望されている。 i)L来、このものの製造方法として、二塩化リン々2
−エチルヘキンルアルコールヲ反応させジー(2−エチ
ルヘキシル)ハイドロジエンポスファイトを117、こ
れを塩素化しジー(2〜エチル〜キンル)ボスポロクロ
リゾイトとし、次いて加水分解する方法は公知である。 これを式で表わせは次のよってある。 。 pet3+ :u+(m −+ (1(0)、、P)
] + E(ct−1−2ncz ・ ・ −110
0 (Ru)2PH+C,12→([’(0)2PCt+
HCt・・・・[2)(但し上式中のI)は2−エチル
ヘキシル基を示す。)ところがこの方法を通常操作した
場合には副生物として2−エチルへギシルクロライド、
塩酸。 トリヌー(2−エチルヘキシル〕リン酸、モノ−(2−
エテルヘキシル)リン酸、ビス2−エチル・\ギシルエ
ーテル、テトラ−(2−エチルヘキシル)ピロポスフェ
ート、その他の不純物が生じるため高純度、旨収ヰで目
的物が1号られない。 そこで特開昭5m−103188弓公報に見られるよう
に、反応雰囲気、塩素化条(I−1、加水分[!lIC
条件、精製条件等を種々検問した力1人が1P案されて
いる。しかしながらこの力を去(こも、−トロ己(2)
式で表わされる塩素化工程が−1−盾的には拍1′11
な’un視イ′1業を要する割にはその効果が四面Cな
いこと、(3)弐゛C表わされる加水分解」−稈を酸性
側て遂j」シているため副生ずる不純物、特にモノ−(
2−エチルヘキシル)リン酸の1]的物からの分jii
llが困?、、lCcあること、1」曲物の精製上程が
br心でないためll、I。 に大量に副生ずる2−エチルへA−シルク
【Jワイドの
分間1が充分てないこと、史に1フzμ’I’llての
真空蒸留、不活性ガスの吹込、薄膜蒸留による1−1的
物の分解が著しいこと等の種々の問題がある。 本発明名等は上記に鑑み、−1−業的に高純度の72−
(2−エテルヘキシル)リン酸を収・ネ゛良く製造すべ
く種々検語1した結果、三塩化リンと2−エチルヘキシ
ルアルコールとの反兄、を比較的高温で6定割合で反応
させ、その反応生成物を特5ト附の塩素で塩素化した後
、特に加水分解]二程さ目的物の精製エイjI↑を特定
条件Fて行うさ目的が達成されることを児出し本発明を
完成した。 即ち本発明は三塩化リンと2−エチルヘキシルアルコー
ルヲ反応すせジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエ
ンポスファイトを得、これを塩素化シシ〜(2−エチル
ヘキシル)ボスポロクロリゾイトとし、次いて加水分解
してジー(2−エチルヘキシル)リン酸を製ノ隻する方
法?こおいて、1)−面、塩fL ’Jノン:−エチル
ヘギシルアルコールのモル比1:295〜3. OOで
20〜5゜Cて反応させること 2)その反応生成物を、三塩化リン1モルに対して10
0〜1.05モル相当量の塩素ガスで塩素化すること 3つ 次いてその塩素化生成物を苛性アルカリ水溶液で
加水分解して和製ジー(2−エチルヘキシル)リン酸を
得ること 、1)そしてその41)製ジー(2−エテルヘキシル)
リン酸を水蒸気蒸留して精製すること からなることを特徴とするジー(2−エチルヘキシル)
リン酸の製造方法である。 す、正本発明を上記の1)ジー(2−エチルヘキシル)
ハイドロジエンポスファイト製造−1,稈、2)塩素化
工程、3)加水分解」−稈1.+)r:’i・k−1程
の順に説明する。 ジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエンポスファイ
トの製造に当っては、三1益化リンと2−エチルヘキシ
ルアルコールの反LL、fM’が巾要でifJ K1モ
ルに対して後者295〜300勃にifましくは297
〜299モルを用いる。この反1心昂、を外れた範囲で
は、トリー(2−エテルヘキンルウポスフェート、モノ
−(2−エチル−\ギシル)リン酸等に代表される不純
物の副生が増加し好ましくない。 このモル比と目11′J物であるジー(2−゛エテルヘ
キシル)リン酸の純度の関係を示すと第1図に示すグラ
フの通りてあり、又1=j rrJ物に含イ」される不
純物のモノ〜(2−エチルヘキシル)リン酸の量とモル
比との関係は第2図に示すグラフの通りてある。 一般にはこの反応は]0’C前後の低温でイ]われるこ
とが多く、その結果長時間を要するが、本発明では20
〜50℃という比較的高〆晶を採用することができる。 それは後述するυ11水分解条件、粕製条(’lと相俟
って不純物の1?1゛去が効率的に杓われるためてあろ
う6、従って反応時間も1〜2時間程度て充分である。 またこの反応は無溶媒でも不活性溶媒中てもPiうこと
がてきるが工業的には攪+゛Iした2−エチルヘキシル
アルコールの中に三塩化リンをl商トシつつ反応させ、
反応終了後は減化1へ゛に副生塩酸を除去する。反に、
雰囲気については窒素などの不活性ガス雰囲気トてイJ
うことは好ましいが必ずしも不−+Jj欠な条件ではな
い。生成物の検、7:]はガスクロマトグラフ分析によ
り監視する。 塩素化工程はジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエ
ンボスファイトに対して、原料である三塩化リン1モル
に対して100〜105モルt[1当歌の(益素ガスを
用いて、20〜40℃において2〜3時間j−」う。こ
の塩素駄はジー(2−エテルヘキシル)ハイドロジエン
ボスファイトの消費し尽される時点をガスクロマトグラ
フィーで追跡した結果決定されたもので、三塩化リンと
当■(11当ては塩素化反応は完結しない。この徴凧過
刺の塩素の存で口ま、不純物に消費される分、不完全な
気11に接触によるロス分、塩素化1−’、 A’)(
’を1lT11りL化するに充分な量を補償するのに寄
!Jするのてあろう1、いずれにせよ本発明においては
」−記!f1’A度範囲て反1.e、、するかきり、上
記特定量の塩素ガスを用いるだけという極めて」−業的
な操作てジー(2−エテル〜ギシル〕ボスホロクロリゾ
イトを容す、に製造できる。 尚この塩素化工程も通常はう11(溶媒で伺われるが、
不活性溶媒を用いることは差支えない1゜このようにし
て得られた塩素化生成物をJJ11水分解するのである
が、この際重要なことは、l′I′1′性アルカリ水溶
t(lて加水分解することである。何んとなれば単に水
を加えるだけては加水分解が元金てないばかりか、代表
的な副生物であるモ/−(2−エチルヘキシル)リン酸
の分子411が困Vjllだからである。本発明によれ
ばモノ−(2−エチルヘキシル)リン酸は用いる苛性ア
ルカリに相当したアルカリ塩となり水層へ移行し、一方
目曲物は2−エチルへギノルクロライドとともにη機層
へ移行し極めて効率よく分離できる。ここて用いる苛性
アルカリとしては苛性ソーダが代表的であるが、リチウ
ム、カリウド等の水酸化物も使用でき、好ましくは10
〜30屯量%程度の濃度のものを使用する。 何故ならあまり稀薄な苛性アルカリ水溶液では加水分解
が充分てなく、極端に濃厚なものは反応操作上取扱い難
いからである。 加水分解反応は60〜]00’Cにおいて2〜4時間程
度も行えば充分である。加水分解終了後は反応生成物を
静置し、常法に従って水層上有機層(主体は2−エチル
へギシルクロライドに溶解したジー(2−エテルヘキシ
ル)リン酸のアルカリ金属塩)を分離し、有機層を〕回
置水洗する。次いてジー(2−エチルヘキシル)リン酸
のアルカリ金属塩を適宜の鉱酸を用いてジー(2−エチ
ルヘキシル)リン酸を遊離させ次の精製工程へ移す。 内遊jiillの際に用いる鉱酸として副生ずる塩酸を
用いることは何ら差支えない。 加水分解の結果得られる主に2−エテルヘギシルクロラ
イドとジー(2−エチルヘキシル)リン酸からなる生成
物は1m常の蒸留、111(圧蒸留、不活性ガスの吹込
みなどによっては充分外μm11することができない。 本発明の目的物より低級アルキル基を有するジアルキル
リン酸例えはジメチルリン酸またはジエチルリン酸の製
造の場合には副生ずるそれぞれ相当するアルキルクロラ
イドが極めて揮発し易いので単蒸留でも容易に分割てき
、かかる問題はない。そこで本発明名等は加水分解生成
物を水蒸気蒸留することにより不純物のみを選択的に留
去し得ることを知見した。通常911点の、j−H,い
曲順を水蒸気の存在下で蒸留する所謂水蒸気蒸留は広く
イイ機物の精製方法として知られているが、これは水で
分解されない浦汀1を水と共に水゛蒸気圧を利用してよ
り低温で留出させるものであるが、本発明の目的物のよ
うに、水で分解し易いものと常識的に考えられる有機リ
ン酸エステルを水または水蒸気の存在下に蒸留すると目
的物はほとんど分解されずに、し力)も2−エチルへキ
シルクロライド、ビス2−エチルヘキンルエーテルのよ
うな不純物のみが選択的に留去され、蒸留釜残として高
収・キ′で高純度の[]的物が残るこ吉は本発明者等は
全く予期しなかった。 水蒸気蒸留に当っては、加水分解生成物に水蒸気を吹込
みつつ蒸留しても良いし、水を加えて加熱しても良い1
.その際2−エヂルヘキシルクロライドに代表される不
純物は水と共に留去してくるので、これを水層と有機層
に分肉11シ、水層は角び繰返し水蒸気蒸留に利用する
。第3図は本発明の精製[稈に利用し得る水蒸気蒸留装
置の一例である。ここて1はコンデンサー、2は加熱媒
体、3は水層、4はLI目的物含む有機層、5は4つ1
]反応装置、6はi’lli’L度計、7は攪拌装置、
8は水還流間、9は副生物を含む自機層である。反応装
置5中に加水分解生成物を装入し100℃付近で水蒸気
蒸留すると不純物と水が留去し3と9に分離するのて水
3を重度還流管8を通じ還流させて蒸留を続ける。この
際水の還流量は、原料の三塩化リンJモル当り】〜2t
Iこ相当する量で充分である。 この範囲内の水を還流させれば不純物はほぼ] (l
0%留去でき高純度の目的物が街らイ1.る。第4図は
水の還流量と不純物有機層の留出割合をグラフ1しした
ものであり、第5図は水(ノルiW流用と目的物の純度
の関係をグラフ化したもので、これらの関係が良く理解
される。 最終目的物のジー(2−エチルヘキシル)リン酸は約1
50℃イマ]近て分解するため、本発明のように100
℃前後で水蒸気蒸留装置することは分解率が低く大変ル
イ都合である。尚水蒸夕(蒸留に先立ち2−エヂルヘギ
シルクロライドを;’h;に月1〜に出来るだけ除去す
るこ吉は一層θ丁ましいことである。 かくして本発明によれは、例えは金I黒抽出剤として使
用し得るような高純度のジー(2−エテルヘキシル)リ
ン酸を工業的に賓易に76るでとがてきる。 以F本発明を実施例、lJS較例をあけ更に具体的に説
明する。但し、収率を除き、%は車覇−%を示す。 実施例】 l) p−(2−ニーy−ルヘキシル)ハイドロジエ
ンボスファイトの合成 2tの四つ[]フグラフに2−エテルヘギシルアルコー
ル3 s 9. ]、 y (2,98sモル)を仕込
んだ。攪拌しなから三塩化リン13742(1o。 モル)を1時間で南下した。反応温度は20 ’Cて滴
下を始め40゛cをこえない様に調整した。 滴下終γ後、温度を徐々に上げ50℃で1時間反応させ
た後、減圧下に塩化水素を除去した。 収量は484gであった。ガスクロマトグラフィー分析
の結果、ジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエンボ
スファイトは610%であった。(収率9G4%) II)ジー(2−エチルヘキシル)ホスホロクロリゾイ
トのば成 1)で合成したジー(2−エチルヘキシル)ハlノ イドロジエンポヌファイトを攪拌し、30CCから40
℃の範囲に反応温度を保持しなから塩素を導入した。ガ
スクロマトグラフィーて反1心を追跡し、ジー(2−エ
チル−\キシル)ハ・rドロジエンホスファイトが消失
した所で塩素の導入を停止した。このとき塩素の導入量
は752y(106モル)であり、時間は211’j間
を′枝した。 111〕 ジー(2−エチルヘキシル)リン酸の合1
戎11)で合成したジー(2−エチルヘキシル)ボスポ
ロクロリゾイトを攪拌しながら15%NaO■1水溶液
842 g(3,O0モル)を1Jllえ60cて2時
間反応後、更に]00’Cて211.1j間加水分解さ
せた。加水分解終了後、静置し十層の水層を分離し、有
機層を水150罰C15L(′1+シた。θ(に有機層
(即ち、2−エチルへキシルクロライドに溶解したジー
2−エチルヘキシルリン酸のN a塩)を攪拌しながら
、35%HCtI 05 g(,1,0モル)を徐々に
添加した1、;30℃て:うO分1党II′。 後、静置し下層の水層を分、j;Ifシた。 2tの四つ1」フラスコに第3図の、(へ留装置を付し
、前記自機層及び水、300 meを仕込め加熱した。 100℃に加熱すると水と共に不純物の2−エブールヘ
キシルクロライト°が留出してくるが、留出液を水層と
有機層に分離させ水は順次間つ[1フラスコにもどし循
環させた。水を10!i′/分の割合で還流させ25時
間続けた。水蒸気蒸留の後半には、1)工程て少量副生
する2−エテルヘキシルエーテルが留出してきた。水蒸
気蒸留を終了後静置し、四つログラスコ中の水層を分間
1し、有機層を20 mml−1,gまで7威圧し10
0℃に1時間保ち脱水してジー(2−エチルへキシル)
リン酸を帽た。収量は3089てあった。 中和滴定法による分析で純度は974%であった。 実施例2〜4 =、 塩化リン:2−エチルヘキシルアルコールのモル
比を変えて実施例1と同様に反応を行った結果、]・1
的物である高純度のジー(2−エテルヘキシル)リン酸
が得られた。 その結果を実施例1と共に第1表に示す。 尚、不純物として微量の七ノー(2−エテルヘキシル)
リン酸が含有されていたつ 実施例5 2−エチルヘキシルアルコール390.7 g(3,0
0モル)及び三塩化リン] 37.49 (1,00モ
ル)からジー(2−エチルヘキシル)リン酸を実施例】
と同様な方法で合成した。又、加水分解及び酸バックも
同様に処理した。水層を分間1し、η機層をエバ7」テ
レータに仕込み減圧蒸留を行なった。 20 mmHg 、 ]、 00℃で2時間蒸留を行
なったところジー(2−エテルヘキシル)リン酸の純度
は925%であった。しかし、これり、上蒸留を続けて
も純度は」こからなかった。そこで、第3図の蒸留装置
に移し、水300 meを仕込み水蒸気蒸留を1時間続
りた。その結果水の還流量は1!’500me/三塩化
リン1モルであった。 静置後、水層を分離し20 mmHgまで減圧し100
℃に1時間保ちジー(2−エテルヘキシル)リン酸を脱
水した。収量及び純度は3047及び977%であった
。す、−Lのように減圧蒸留だけでは完全に2−エチル
へキシルクロライドその他の不純物を除ノミ′Cきない
が、減圧蒸留後更に水蒸気蒸留することにより高純度の
目的物が?11られた。 比較例1 実施例1と同様な反応条件にて合成した和製ジー(2−
エテルヘキシル)リン酸を、通常の水蒸気蒸留を用いる
ことなく2−エチルへキレフレクロライドの回収を試み
た。 粗製ジー(2−エテルヘキシル)リン酸を、10mmH
gの減圧上温度90〜針5Cてo、 s lt、’j間
、さらに同減圧1” 125 ’Cまて眉l晶し、その
湿度て211!1間不純物の2−エブールヘキシルクロ
ライドを回収した。その後反応容器内にx2を125
’C、50mmlIgにおいて1.7 K9/ hrの
速度で導入し、2−エテルへキシルクロライドを除去し
た。 ジー(2−エテルヘキシル)リン酸、モノ−・(2−エ
テルヘキシル)リン酸の含量と142導入時間の関係を
第2表に示す。 N、の導入により、ジー(2−エナルヘキシル)リン酸
の音数はり5%程度まて1屓するが、ll、’Jl)!
]の経過と共にモノ−(2−エテルヘギシル)リン酸の
増加が見られ、125Cという商791’+ ”Cはジ
ー(2−エチルヘキシル)リン酸の分解はまぬがれない
ということは明らかである。
分間1が充分てないこと、史に1フzμ’I’llての
真空蒸留、不活性ガスの吹込、薄膜蒸留による1−1的
物の分解が著しいこと等の種々の問題がある。 本発明名等は上記に鑑み、−1−業的に高純度の72−
(2−エテルヘキシル)リン酸を収・ネ゛良く製造すべ
く種々検語1した結果、三塩化リンと2−エチルヘキシ
ルアルコールとの反兄、を比較的高温で6定割合で反応
させ、その反応生成物を特5ト附の塩素で塩素化した後
、特に加水分解]二程さ目的物の精製エイjI↑を特定
条件Fて行うさ目的が達成されることを児出し本発明を
完成した。 即ち本発明は三塩化リンと2−エチルヘキシルアルコー
ルヲ反応すせジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエ
ンポスファイトを得、これを塩素化シシ〜(2−エチル
ヘキシル)ボスポロクロリゾイトとし、次いて加水分解
してジー(2−エチルヘキシル)リン酸を製ノ隻する方
法?こおいて、1)−面、塩fL ’Jノン:−エチル
ヘギシルアルコールのモル比1:295〜3. OOで
20〜5゜Cて反応させること 2)その反応生成物を、三塩化リン1モルに対して10
0〜1.05モル相当量の塩素ガスで塩素化すること 3つ 次いてその塩素化生成物を苛性アルカリ水溶液で
加水分解して和製ジー(2−エチルヘキシル)リン酸を
得ること 、1)そしてその41)製ジー(2−エテルヘキシル)
リン酸を水蒸気蒸留して精製すること からなることを特徴とするジー(2−エチルヘキシル)
リン酸の製造方法である。 す、正本発明を上記の1)ジー(2−エチルヘキシル)
ハイドロジエンポスファイト製造−1,稈、2)塩素化
工程、3)加水分解」−稈1.+)r:’i・k−1程
の順に説明する。 ジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエンポスファイ
トの製造に当っては、三1益化リンと2−エチルヘキシ
ルアルコールの反LL、fM’が巾要でifJ K1モ
ルに対して後者295〜300勃にifましくは297
〜299モルを用いる。この反1心昂、を外れた範囲で
は、トリー(2−エテルヘキンルウポスフェート、モノ
−(2−エチル−\ギシル)リン酸等に代表される不純
物の副生が増加し好ましくない。 このモル比と目11′J物であるジー(2−゛エテルヘ
キシル)リン酸の純度の関係を示すと第1図に示すグラ
フの通りてあり、又1=j rrJ物に含イ」される不
純物のモノ〜(2−エチルヘキシル)リン酸の量とモル
比との関係は第2図に示すグラフの通りてある。 一般にはこの反応は]0’C前後の低温でイ]われるこ
とが多く、その結果長時間を要するが、本発明では20
〜50℃という比較的高〆晶を採用することができる。 それは後述するυ11水分解条件、粕製条(’lと相俟
って不純物の1?1゛去が効率的に杓われるためてあろ
う6、従って反応時間も1〜2時間程度て充分である。 またこの反応は無溶媒でも不活性溶媒中てもPiうこと
がてきるが工業的には攪+゛Iした2−エチルヘキシル
アルコールの中に三塩化リンをl商トシつつ反応させ、
反応終了後は減化1へ゛に副生塩酸を除去する。反に、
雰囲気については窒素などの不活性ガス雰囲気トてイJ
うことは好ましいが必ずしも不−+Jj欠な条件ではな
い。生成物の検、7:]はガスクロマトグラフ分析によ
り監視する。 塩素化工程はジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエ
ンボスファイトに対して、原料である三塩化リン1モル
に対して100〜105モルt[1当歌の(益素ガスを
用いて、20〜40℃において2〜3時間j−」う。こ
の塩素駄はジー(2−エテルヘキシル)ハイドロジエン
ボスファイトの消費し尽される時点をガスクロマトグラ
フィーで追跡した結果決定されたもので、三塩化リンと
当■(11当ては塩素化反応は完結しない。この徴凧過
刺の塩素の存で口ま、不純物に消費される分、不完全な
気11に接触によるロス分、塩素化1−’、 A’)(
’を1lT11りL化するに充分な量を補償するのに寄
!Jするのてあろう1、いずれにせよ本発明においては
」−記!f1’A度範囲て反1.e、、するかきり、上
記特定量の塩素ガスを用いるだけという極めて」−業的
な操作てジー(2−エテル〜ギシル〕ボスホロクロリゾ
イトを容す、に製造できる。 尚この塩素化工程も通常はう11(溶媒で伺われるが、
不活性溶媒を用いることは差支えない1゜このようにし
て得られた塩素化生成物をJJ11水分解するのである
が、この際重要なことは、l′I′1′性アルカリ水溶
t(lて加水分解することである。何んとなれば単に水
を加えるだけては加水分解が元金てないばかりか、代表
的な副生物であるモ/−(2−エチルヘキシル)リン酸
の分子411が困Vjllだからである。本発明によれ
ばモノ−(2−エチルヘキシル)リン酸は用いる苛性ア
ルカリに相当したアルカリ塩となり水層へ移行し、一方
目曲物は2−エチルへギノルクロライドとともにη機層
へ移行し極めて効率よく分離できる。ここて用いる苛性
アルカリとしては苛性ソーダが代表的であるが、リチウ
ム、カリウド等の水酸化物も使用でき、好ましくは10
〜30屯量%程度の濃度のものを使用する。 何故ならあまり稀薄な苛性アルカリ水溶液では加水分解
が充分てなく、極端に濃厚なものは反応操作上取扱い難
いからである。 加水分解反応は60〜]00’Cにおいて2〜4時間程
度も行えば充分である。加水分解終了後は反応生成物を
静置し、常法に従って水層上有機層(主体は2−エチル
へギシルクロライドに溶解したジー(2−エテルヘキシ
ル)リン酸のアルカリ金属塩)を分離し、有機層を〕回
置水洗する。次いてジー(2−エチルヘキシル)リン酸
のアルカリ金属塩を適宜の鉱酸を用いてジー(2−エチ
ルヘキシル)リン酸を遊離させ次の精製工程へ移す。 内遊jiillの際に用いる鉱酸として副生ずる塩酸を
用いることは何ら差支えない。 加水分解の結果得られる主に2−エテルヘギシルクロラ
イドとジー(2−エチルヘキシル)リン酸からなる生成
物は1m常の蒸留、111(圧蒸留、不活性ガスの吹込
みなどによっては充分外μm11することができない。 本発明の目的物より低級アルキル基を有するジアルキル
リン酸例えはジメチルリン酸またはジエチルリン酸の製
造の場合には副生ずるそれぞれ相当するアルキルクロラ
イドが極めて揮発し易いので単蒸留でも容易に分割てき
、かかる問題はない。そこで本発明名等は加水分解生成
物を水蒸気蒸留することにより不純物のみを選択的に留
去し得ることを知見した。通常911点の、j−H,い
曲順を水蒸気の存在下で蒸留する所謂水蒸気蒸留は広く
イイ機物の精製方法として知られているが、これは水で
分解されない浦汀1を水と共に水゛蒸気圧を利用してよ
り低温で留出させるものであるが、本発明の目的物のよ
うに、水で分解し易いものと常識的に考えられる有機リ
ン酸エステルを水または水蒸気の存在下に蒸留すると目
的物はほとんど分解されずに、し力)も2−エチルへキ
シルクロライド、ビス2−エチルヘキンルエーテルのよ
うな不純物のみが選択的に留去され、蒸留釜残として高
収・キ′で高純度の[]的物が残るこ吉は本発明者等は
全く予期しなかった。 水蒸気蒸留に当っては、加水分解生成物に水蒸気を吹込
みつつ蒸留しても良いし、水を加えて加熱しても良い1
.その際2−エヂルヘキシルクロライドに代表される不
純物は水と共に留去してくるので、これを水層と有機層
に分肉11シ、水層は角び繰返し水蒸気蒸留に利用する
。第3図は本発明の精製[稈に利用し得る水蒸気蒸留装
置の一例である。ここて1はコンデンサー、2は加熱媒
体、3は水層、4はLI目的物含む有機層、5は4つ1
]反応装置、6はi’lli’L度計、7は攪拌装置、
8は水還流間、9は副生物を含む自機層である。反応装
置5中に加水分解生成物を装入し100℃付近で水蒸気
蒸留すると不純物と水が留去し3と9に分離するのて水
3を重度還流管8を通じ還流させて蒸留を続ける。この
際水の還流量は、原料の三塩化リンJモル当り】〜2t
Iこ相当する量で充分である。 この範囲内の水を還流させれば不純物はほぼ] (l
0%留去でき高純度の目的物が街らイ1.る。第4図は
水の還流量と不純物有機層の留出割合をグラフ1しした
ものであり、第5図は水(ノルiW流用と目的物の純度
の関係をグラフ化したもので、これらの関係が良く理解
される。 最終目的物のジー(2−エチルヘキシル)リン酸は約1
50℃イマ]近て分解するため、本発明のように100
℃前後で水蒸気蒸留装置することは分解率が低く大変ル
イ都合である。尚水蒸夕(蒸留に先立ち2−エヂルヘギ
シルクロライドを;’h;に月1〜に出来るだけ除去す
るこ吉は一層θ丁ましいことである。 かくして本発明によれは、例えは金I黒抽出剤として使
用し得るような高純度のジー(2−エテルヘキシル)リ
ン酸を工業的に賓易に76るでとがてきる。 以F本発明を実施例、lJS較例をあけ更に具体的に説
明する。但し、収率を除き、%は車覇−%を示す。 実施例】 l) p−(2−ニーy−ルヘキシル)ハイドロジエ
ンボスファイトの合成 2tの四つ[]フグラフに2−エテルヘギシルアルコー
ル3 s 9. ]、 y (2,98sモル)を仕込
んだ。攪拌しなから三塩化リン13742(1o。 モル)を1時間で南下した。反応温度は20 ’Cて滴
下を始め40゛cをこえない様に調整した。 滴下終γ後、温度を徐々に上げ50℃で1時間反応させ
た後、減圧下に塩化水素を除去した。 収量は484gであった。ガスクロマトグラフィー分析
の結果、ジー(2−エチルヘキシル)ハイドロジエンボ
スファイトは610%であった。(収率9G4%) II)ジー(2−エチルヘキシル)ホスホロクロリゾイ
トのば成 1)で合成したジー(2−エチルヘキシル)ハlノ イドロジエンポヌファイトを攪拌し、30CCから40
℃の範囲に反応温度を保持しなから塩素を導入した。ガ
スクロマトグラフィーて反1心を追跡し、ジー(2−エ
チル−\キシル)ハ・rドロジエンホスファイトが消失
した所で塩素の導入を停止した。このとき塩素の導入量
は752y(106モル)であり、時間は211’j間
を′枝した。 111〕 ジー(2−エチルヘキシル)リン酸の合1
戎11)で合成したジー(2−エチルヘキシル)ボスポ
ロクロリゾイトを攪拌しながら15%NaO■1水溶液
842 g(3,O0モル)を1Jllえ60cて2時
間反応後、更に]00’Cて211.1j間加水分解さ
せた。加水分解終了後、静置し十層の水層を分離し、有
機層を水150罰C15L(′1+シた。θ(に有機層
(即ち、2−エチルへキシルクロライドに溶解したジー
2−エチルヘキシルリン酸のN a塩)を攪拌しながら
、35%HCtI 05 g(,1,0モル)を徐々に
添加した1、;30℃て:うO分1党II′。 後、静置し下層の水層を分、j;Ifシた。 2tの四つ1」フラスコに第3図の、(へ留装置を付し
、前記自機層及び水、300 meを仕込め加熱した。 100℃に加熱すると水と共に不純物の2−エブールヘ
キシルクロライト°が留出してくるが、留出液を水層と
有機層に分離させ水は順次間つ[1フラスコにもどし循
環させた。水を10!i′/分の割合で還流させ25時
間続けた。水蒸気蒸留の後半には、1)工程て少量副生
する2−エテルヘキシルエーテルが留出してきた。水蒸
気蒸留を終了後静置し、四つログラスコ中の水層を分間
1し、有機層を20 mml−1,gまで7威圧し10
0℃に1時間保ち脱水してジー(2−エチルへキシル)
リン酸を帽た。収量は3089てあった。 中和滴定法による分析で純度は974%であった。 実施例2〜4 =、 塩化リン:2−エチルヘキシルアルコールのモル
比を変えて実施例1と同様に反応を行った結果、]・1
的物である高純度のジー(2−エテルヘキシル)リン酸
が得られた。 その結果を実施例1と共に第1表に示す。 尚、不純物として微量の七ノー(2−エテルヘキシル)
リン酸が含有されていたつ 実施例5 2−エチルヘキシルアルコール390.7 g(3,0
0モル)及び三塩化リン] 37.49 (1,00モ
ル)からジー(2−エチルヘキシル)リン酸を実施例】
と同様な方法で合成した。又、加水分解及び酸バックも
同様に処理した。水層を分間1し、η機層をエバ7」テ
レータに仕込み減圧蒸留を行なった。 20 mmHg 、 ]、 00℃で2時間蒸留を行
なったところジー(2−エテルヘキシル)リン酸の純度
は925%であった。しかし、これり、上蒸留を続けて
も純度は」こからなかった。そこで、第3図の蒸留装置
に移し、水300 meを仕込み水蒸気蒸留を1時間続
りた。その結果水の還流量は1!’500me/三塩化
リン1モルであった。 静置後、水層を分離し20 mmHgまで減圧し100
℃に1時間保ちジー(2−エテルヘキシル)リン酸を脱
水した。収量及び純度は3047及び977%であった
。す、−Lのように減圧蒸留だけでは完全に2−エチル
へキシルクロライドその他の不純物を除ノミ′Cきない
が、減圧蒸留後更に水蒸気蒸留することにより高純度の
目的物が?11られた。 比較例1 実施例1と同様な反応条件にて合成した和製ジー(2−
エテルヘキシル)リン酸を、通常の水蒸気蒸留を用いる
ことなく2−エチルへキレフレクロライドの回収を試み
た。 粗製ジー(2−エテルヘキシル)リン酸を、10mmH
gの減圧上温度90〜針5Cてo、 s lt、’j間
、さらに同減圧1” 125 ’Cまて眉l晶し、その
湿度て211!1間不純物の2−エブールヘキシルクロ
ライドを回収した。その後反応容器内にx2を125
’C、50mmlIgにおいて1.7 K9/ hrの
速度で導入し、2−エテルへキシルクロライドを除去し
た。 ジー(2−エテルヘキシル)リン酸、モノ−・(2−エ
テルヘキシル)リン酸の含量と142導入時間の関係を
第2表に示す。 N、の導入により、ジー(2−エナルヘキシル)リン酸
の音数はり5%程度まて1屓するが、ll、’Jl)!
]の経過と共にモノ−(2−エテルヘギシル)リン酸の
増加が見られ、125Cという商791’+ ”Cはジ
ー(2−エチルヘキシル)リン酸の分解はまぬがれない
ということは明らかである。
第1図は本発明における三J11、・1化す7.2−エ
チルヘギシルアルコールのモル比乏Ll曲物の純度との
関係を示すグラフ、第2図はモル化とl l I’l’
j物中の不純物有機層との関係を示すグラフ、第:3図
(ま水蒸気蒸留装置の一例を示す説明図、第4図は水運
流量と不純物有機層の留出割合との関係を7Jテすグラ
フ、及び第5図は水還流歇と目的物の純度との関係を示
すグラフである。 トコンデンザ−2・・加熱媒体 3 水層 4 L1的物を含む自機層5・4
つ1]反応装置 6・71′1□11度旧7・・・攪拌
装置 8・・水3′@流丑19・・・副生物を含
む有機層 第2図 モル比 第3図 手続補正書 昭和57年10月7日 特訪庁長官 若 杉 和 夫 殿l、コ1“
;件の表示 特願昭57−158034号 2、発明の名称 シー(2−エチルヘキシル)リン酸の 製造方〃: 3、補正をする者 J・1件との関係・特許出願人 東京都江東区亀戸9丁目15番1号 1」木化学工業株式会社 代表堪 棚 橋 幹 −4、代
理 人 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号 三信ビル204号室 電話501−2+38豊IJ:l
内外特許事務所 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明Jの欄 6、補正の内容 明細書第14頁4〜5行目のr 75.2g(1,06
モル)」をr 73.0g(1,03モル)」に訂正す
る。
チルヘギシルアルコールのモル比乏Ll曲物の純度との
関係を示すグラフ、第2図はモル化とl l I’l’
j物中の不純物有機層との関係を示すグラフ、第:3図
(ま水蒸気蒸留装置の一例を示す説明図、第4図は水運
流量と不純物有機層の留出割合との関係を7Jテすグラ
フ、及び第5図は水還流歇と目的物の純度との関係を示
すグラフである。 トコンデンザ−2・・加熱媒体 3 水層 4 L1的物を含む自機層5・4
つ1]反応装置 6・71′1□11度旧7・・・攪拌
装置 8・・水3′@流丑19・・・副生物を含
む有機層 第2図 モル比 第3図 手続補正書 昭和57年10月7日 特訪庁長官 若 杉 和 夫 殿l、コ1“
;件の表示 特願昭57−158034号 2、発明の名称 シー(2−エチルヘキシル)リン酸の 製造方〃: 3、補正をする者 J・1件との関係・特許出願人 東京都江東区亀戸9丁目15番1号 1」木化学工業株式会社 代表堪 棚 橋 幹 −4、代
理 人 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号 三信ビル204号室 電話501−2+38豊IJ:l
内外特許事務所 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明Jの欄 6、補正の内容 明細書第14頁4〜5行目のr 75.2g(1,06
モル)」をr 73.0g(1,03モル)」に訂正す
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 fil 五塩化リンと2−エチルヘキシルアルコール
を反応させジー(2−エチルヘキシル)ノ\イド1−7
ジエンポスフアイトを胃、これを塩素化じジー(2−エ
チルヘキシル)ホヌホロクロリテイトとし、次いで加水
分解してジー(2−エチルヘキシル)リン酸を製造する
方法において、1)二塩化リン 2−エテルヘキシルア
ルコールのモル比]:295〜300て20〜50゛C
て反応させること 2)その反1+j、生成物を、三塩化リン1モルに対シ
て1.00〜105モル相当量の塩素ガスで塩か化する
こと 3)次いてその塩素化生成物を苛性アルカリ水溶液で加
水分解して粗製ジー(2−エテルヘキシル)リン酸を得
ること 4)そしてその和製ジー(2−エチルヘキシル)リン酸
を水蒸気蒸留して精製することからなることを特徴とす
るジー(2−エチル−キシル)リン酸の製造方法。 (2)前記第3)の工程において、10〜30Φ、量%
の苛性アルカリ水溶液を用いて60〜100℃で2〜4
時間加水分解する特5′F請求の・陪間第1項記載のジ
ー(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法。 (3) 前記第4)の工程において、原料の−く塩1
1971モル当り1〜2tに相当する水を環t!lLさ
せるように水蒸気蒸留して、不純物を選択的に留去し精
製する特許請求の範囲第1項または第2項記載のジー(
2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15803482A JPS5948493A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | ジ−(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15803482A JPS5948493A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | ジ−(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5948493A true JPS5948493A (ja) | 1984-03-19 |
JPS6352039B2 JPS6352039B2 (ja) | 1988-10-17 |
Family
ID=15662821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15803482A Granted JPS5948493A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | ジ−(2−エチルヘキシル)リン酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5948493A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999010354A1 (fr) * | 1997-08-26 | 1999-03-04 | Daihachi Chemical Industry Co., Ltd. | Composes esters phosphoriques et procede de production, composes esters phosphoriques du cuivre et procede de production, absorbant du proche infrarouge, et composition de resine acrylique absorbante dans le proche infrarouge |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56103188A (en) * | 1980-01-03 | 1981-08-18 | Mobil Oil | Manufacture of dialkylphosphoric acid |
-
1982
- 1982-09-13 JP JP15803482A patent/JPS5948493A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56103188A (en) * | 1980-01-03 | 1981-08-18 | Mobil Oil | Manufacture of dialkylphosphoric acid |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999010354A1 (fr) * | 1997-08-26 | 1999-03-04 | Daihachi Chemical Industry Co., Ltd. | Composes esters phosphoriques et procede de production, composes esters phosphoriques du cuivre et procede de production, absorbant du proche infrarouge, et composition de resine acrylique absorbante dans le proche infrarouge |
US6410613B1 (en) | 1997-08-26 | 2002-06-25 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Phosphate compound and preparation process thereof, phosphate copper compound and preparation process thereof, near infrared ray absorber, and near infrared ray-absorbing acrylic resin composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6352039B2 (ja) | 1988-10-17 |
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