JPS5946368B2 - 複ビツト空間光位相変調板の製法 - Google Patents
複ビツト空間光位相変調板の製法Info
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- JPS5946368B2 JPS5946368B2 JP8434378A JP8434378A JPS5946368B2 JP S5946368 B2 JPS5946368 B2 JP S5946368B2 JP 8434378 A JP8434378 A JP 8434378A JP 8434378 A JP8434378 A JP 8434378A JP S5946368 B2 JPS5946368 B2 JP S5946368B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は例えばホログラム記録装置に適用し得る複ビッ
ト空間光位相変調板の製法に関する。
ト空間光位相変調板の製法に関する。
複ビット空間光位相変調板の製法として、従来、第１図
に示す如く、互に平行に相対向する光学研磨された平板
１ａ及びＩｂを有する電気光学効果を呈する材料（例え
ば（Ｐｂ、Ｌａ）（Ｚｒ、Ｔ１）０３で表わされるセラ
ミックでなり、例えばその２次電気光学効果を利用すべ
くＬａ、Ｚｒ）及びＴｉがモル比でみて例えばＬａ：Ｚ
ｒ■Ｔｉ■８．８：６５：３５の組成を有する材料）で
なる板体２を予め用意し（第１図Ａ）、次にその板体２
の平板面１ａ上にその全域に亘つて導電性層３を附し（
第１図Ｂ）、次にその導電性層３に対する選択的エッチ
ング処理により導電性層３による互に平行に延長せる複
数（Ｎ＋１）本のストライプ状電極Ｅ。１、Ｅ１２、Ｅ
２３・・・・・・・・・ＥＮ（Ｎ＋１）を形成し（第１
図Ｃ）、斯くて目的とする複ビット空間光位相変調板Ｍ
を得るという製法が提案されている。
に示す如く、互に平行に相対向する光学研磨された平板
１ａ及びＩｂを有する電気光学効果を呈する材料（例え
ば（Ｐｂ、Ｌａ）（Ｚｒ、Ｔ１）０３で表わされるセラ
ミックでなり、例えばその２次電気光学効果を利用すべ
くＬａ、Ｚｒ）及びＴｉがモル比でみて例えばＬａ：Ｚ
ｒ■Ｔｉ■８．８：６５：３５の組成を有する材料）で
なる板体２を予め用意し（第１図Ａ）、次にその板体２
の平板面１ａ上にその全域に亘つて導電性層３を附し（
第１図Ｂ）、次にその導電性層３に対する選択的エッチ
ング処理により導電性層３による互に平行に延長せる複
数（Ｎ＋１）本のストライプ状電極Ｅ。１、Ｅ１２、Ｅ
２３・・・・・・・・・ＥＮ（Ｎ＋１）を形成し（第１
図Ｃ）、斯くて目的とする複ビット空間光位相変調板Ｍ
を得るという製法が提案されている。
所で斯る従来の製法によつて得られる複ビット空間光位
相変調板Ｍはその板体２の平板面１ａに互に平行に延長
せる複数（Ｎ＋１）本のストライプ状電極Ｅ。
相変調板Ｍはその板体２の平板面１ａに互に平行に延長
せる複数（Ｎ＋１）本のストライプ状電極Ｅ。
、、Ｅ、。・・・・・・・・・ＥＮ（Ｎ＋１）が形成さ
れているので、板体２の平板画１ｂ側より光ＬＯをその
平板画１ｂの全域に亘つて垂直に入射せしめれば、板体
２の相隣る電極Ｅ。１及びＥ１２、Ｅ１２及びＥ２３、
・・・・・・ＥＮ及びＥＮ（Ｎ＋１）間に対応する領域
Ｑ１、Ｑ２・・・・・・・・・ＱＮを通つた、光ＬＯに
基く複数Ｎ個のスリット状光がビット光Ｌ１、Ｌ２・・
・・・・・・・ＬＮとして得られ、又斯る状態で電極Ｅ
（ｉ−１）ｉ及びＥｉ（ｉ＋１ ）（但しｉ■１、２・
・・・・・・・・Ｎ）間に所定の変調電圧を印加せしめ
れば、板体２の領域Ｑｉにその変調電圧に応じた電界が
生じ、この為領域Ｑｉが変調電圧に応じた電気光学効果
を呈することにより、領域Ｑｉを通つたビツト光Ｌｉが
光ＬＯに対して変調電圧に応じた位相分位相のずれた位
相変調された光として得られるという機能を呈するもの
であるが、ビツト光Ｌｉを位相変調された光として得べ
く電極Ｅ（１−１）ｉ及びＥ１（１＋１）間に変調電圧
を印加せしめる場合、電極Ｅ（１−，）１及びＥ１（１
＋１）が板体２の平板面１ａ上に形成されているので変
調電圧に応じて領域Ｑｉに生ずる電界が、領域Ｑｉに効
果的に生ぜず、特に全体を小型化すべく電極Ｅ（１−１
）ｉ及びＥｉ（１＋，）の幅を狭くすれば、領域Ｑｌに
生ずる電界が平板面１ｂ側では実質的に生じなくなり、
この為変調電圧を高くしない限リビツト光Ｌｉを所定の
位相変調された光として得ることが出来ないという欠点
を有するものである。
れているので、板体２の平板画１ｂ側より光ＬＯをその
平板画１ｂの全域に亘つて垂直に入射せしめれば、板体
２の相隣る電極Ｅ。１及びＥ１２、Ｅ１２及びＥ２３、
・・・・・・ＥＮ及びＥＮ（Ｎ＋１）間に対応する領域
Ｑ１、Ｑ２・・・・・・・・・ＱＮを通つた、光ＬＯに
基く複数Ｎ個のスリット状光がビット光Ｌ１、Ｌ２・・
・・・・・・・ＬＮとして得られ、又斯る状態で電極Ｅ
（ｉ−１）ｉ及びＥｉ（ｉ＋１ ）（但しｉ■１、２・
・・・・・・・・Ｎ）間に所定の変調電圧を印加せしめ
れば、板体２の領域Ｑｉにその変調電圧に応じた電界が
生じ、この為領域Ｑｉが変調電圧に応じた電気光学効果
を呈することにより、領域Ｑｉを通つたビツト光Ｌｉが
光ＬＯに対して変調電圧に応じた位相分位相のずれた位
相変調された光として得られるという機能を呈するもの
であるが、ビツト光Ｌｉを位相変調された光として得べ
く電極Ｅ（１−１）ｉ及びＥ１（１＋１）間に変調電圧
を印加せしめる場合、電極Ｅ（１−，）１及びＥ１（１
＋１）が板体２の平板面１ａ上に形成されているので変
調電圧に応じて領域Ｑｉに生ずる電界が、領域Ｑｉに効
果的に生ぜず、特に全体を小型化すべく電極Ｅ（１−１
）ｉ及びＥｉ（１＋，）の幅を狭くすれば、領域Ｑｌに
生ずる電界が平板面１ｂ側では実質的に生じなくなり、
この為変調電圧を高くしない限リビツト光Ｌｉを所定の
位相変調された光として得ることが出来ないという欠点
を有するものである。
従つて上述せる従来の製法によれば、その製法によつて
得られる複ビツト空間光位相変調板Ｍが、上述せる欠点
を有するものとして得られるものであつた。
得られる複ビツト空間光位相変調板Ｍが、上述せる欠点
を有するものとして得られるものであつた。
又複ビツト光位相変調板の製法として、従来、第２図に
示す如く、互に平行に相対向する平板面１１ａ及び１１
ｂを有する第１図にて上述せると同様の電気光学効果を
呈する材料でなる板体１２を予め用意し（第２図Ａ）、
次にその板体１２にその平板面１１ａ側より互に平行に
延長せる複数（Ｎ＋１）本のストライプ状溝Ｇ。
示す如く、互に平行に相対向する平板面１１ａ及び１１
ｂを有する第１図にて上述せると同様の電気光学効果を
呈する材料でなる板体１２を予め用意し（第２図Ａ）、
次にその板体１２にその平板面１１ａ側より互に平行に
延長せる複数（Ｎ＋１）本のストライプ状溝Ｇ。
ｌ，Ｇｌ２，・・・・・・・・・ＧＮ（Ｎ＋１）を形成
し（第２図Ｂ）、次に斯く溝ＧＯｌ〜ＧＮ（Ｎ＋１）の
形成された板体１２の平板面１１ａ上にその全域に亘つ
て溝Ｇ。ｌ〜ＧＮ（Ｎ＋１）の内面を含んで導電性層１
３を附し（第２図Ｃ）、次に斯く導電性層１３の附され
た板体１２に対するその導電性層１３側よりの溝Ｇ。ｌ
〜ＧＮ（Ｎ＋１）の底面に達せざる深さの研磨処理によ
つて導電性層１３による溝Ｇ。ｌ，Ｇｌ２，・・・・・
・・・・ＧＮ（Ｎ＋，）の内面に延長せるストライプ状
電極Ｅ。ｌ，Ｅｌ２，・・・・・・・・・ＥＮ（Ｎ＋１
）を形成し、然る后板体１２の平板面１１ｂ及びこれと
対向せる面を光学研磨し（第２図Ｄ）、斯くて目的とす
る複ビツト光位相変調板Ｍを得るという製法が提案され
ている。所で斯る第２図に示す従来の製法によつて得ら
れる複ビツト空間光位相変調板Ｍは、詳細説明はこれを
省略するも、第１図の場合と同様に、板体１２の平板面
１１ｂ側より光ＬＯを入射せしめれば板体１２の電極Ｅ
。
し（第２図Ｂ）、次に斯く溝ＧＯｌ〜ＧＮ（Ｎ＋１）の
形成された板体１２の平板面１１ａ上にその全域に亘つ
て溝Ｇ。ｌ〜ＧＮ（Ｎ＋１）の内面を含んで導電性層１
３を附し（第２図Ｃ）、次に斯く導電性層１３の附され
た板体１２に対するその導電性層１３側よりの溝Ｇ。ｌ
〜ＧＮ（Ｎ＋１）の底面に達せざる深さの研磨処理によ
つて導電性層１３による溝Ｇ。ｌ，Ｇｌ２，・・・・・
・・・・ＧＮ（Ｎ＋，）の内面に延長せるストライプ状
電極Ｅ。ｌ，Ｅｌ２，・・・・・・・・・ＥＮ（Ｎ＋１
）を形成し、然る后板体１２の平板面１１ｂ及びこれと
対向せる面を光学研磨し（第２図Ｄ）、斯くて目的とす
る複ビツト光位相変調板Ｍを得るという製法が提案され
ている。所で斯る第２図に示す従来の製法によつて得ら
れる複ビツト空間光位相変調板Ｍは、詳細説明はこれを
省略するも、第１図の場合と同様に、板体１２の平板面
１１ｂ側より光ＬＯを入射せしめれば板体１２の電極Ｅ
。
ｌ及びＥ，２，Ｅｌ２及びＥ２３，・・・・・・・・・
ＥＮ及びＥＮ（Ｎ＋１）間に対応する領域Ｑｌ，Ｑ２・
・・・・・・・・ＱＮを夫々通つたビツト光Ｌｌ，Ｌ２
，・・・・・・・・・ＬＮが得られ、又斯る状態で電極
Ｅ（１−１）１及びＥ１（１＋１）間に所定の変調電圧
を印加せしめれば、ビツト光Ｌｉが光ＬＯに対して変調
電圧に応じた位相分位相のずれた位相変調された光とし
て得られる機能を呈するものであるが、この場合ビツト
光Ｌｉを位相変調された光として得べく電極Ｅ（１−１
）ｉ及びＥｉ（１＋，）間に変調電圧を印加せしめる場
合、電極Ｅ（１−１）ｉ及びＥｉ（１＋，）が板体１２
に設けられた溝Ｇ（１−１）ｉ及びＧｉ（１＋１）の内
面に形成されていて領域Ｑｌの平板面１１ｂ側とは反対
側の部を挟んで対向しているので、変調電圧に応じて領
域Ｑｉに生ずる電界が、領域Ｑｉに効果的に生じ、依つ
て第１図の場合に比し低い変調電圧でビツト光Ｌｉを所
定の位相変調された光として得ることが出来るものであ
る。然し乍ら第２図にて上述せる従来の製法の場合、特
に板体１２に溝Ｇ。
ＥＮ及びＥＮ（Ｎ＋１）間に対応する領域Ｑｌ，Ｑ２・
・・・・・・・・ＱＮを夫々通つたビツト光Ｌｌ，Ｌ２
，・・・・・・・・・ＬＮが得られ、又斯る状態で電極
Ｅ（１−１）１及びＥ１（１＋１）間に所定の変調電圧
を印加せしめれば、ビツト光Ｌｉが光ＬＯに対して変調
電圧に応じた位相分位相のずれた位相変調された光とし
て得られる機能を呈するものであるが、この場合ビツト
光Ｌｉを位相変調された光として得べく電極Ｅ（１−１
）ｉ及びＥｉ（１＋，）間に変調電圧を印加せしめる場
合、電極Ｅ（１−１）ｉ及びＥｉ（１＋，）が板体１２
に設けられた溝Ｇ（１−１）ｉ及びＧｉ（１＋１）の内
面に形成されていて領域Ｑｌの平板面１１ｂ側とは反対
側の部を挟んで対向しているので、変調電圧に応じて領
域Ｑｉに生ずる電界が、領域Ｑｉに効果的に生じ、依つ
て第１図の場合に比し低い変調電圧でビツト光Ｌｉを所
定の位相変調された光として得ることが出来るものであ
る。然し乍ら第２図にて上述せる従来の製法の場合、特
に板体１２に溝Ｇ。
，〜ＧＮ（Ｎ＋１）を形成するという程を有する為に、
目的とする複ビツト光位相変調板を歩留り良く且能率良
く得ることが困難であるという欠点を有していた。依つ
て本発明は第１図及び第２図にて上述せる欠点のない新
規な複ビツト空間光位相変調板の製法を提案せんとする
もので、以下詳述する所より明らかとなるであろう。
目的とする複ビツト光位相変調板を歩留り良く且能率良
く得ることが困難であるという欠点を有していた。依つ
て本発明は第１図及び第２図にて上述せる欠点のない新
規な複ビツト空間光位相変調板の製法を提案せんとする
もので、以下詳述する所より明らかとなるであろう。
第３図は本発明による複ビツト空間光位相変調板の製法
の一例を示し、第３図Ａに示す如く互に平行に相対向す
る平板面２１ａ及び２１ｂを有し、それ等平板面２１ａ
及び２１ｂに夫夫導電性層２２ａ及び２２ｂが附されて
なる電気光学効果を呈する材料でなる板体Ｆの複数Ｎ枚
をＦｌ，Ｆ２，・・・・・・・・・ＦＮとして予め用意
し、次に之等板体Ｆ１〜ＦＮより第３図Ｂに示す如くそ
れ等の積重ねられた関係で一体化されてなるプロツク体
Ｄを得る。
の一例を示し、第３図Ａに示す如く互に平行に相対向す
る平板面２１ａ及び２１ｂを有し、それ等平板面２１ａ
及び２１ｂに夫夫導電性層２２ａ及び２２ｂが附されて
なる電気光学効果を呈する材料でなる板体Ｆの複数Ｎ枚
をＦｌ，Ｆ２，・・・・・・・・・ＦＮとして予め用意
し、次に之等板体Ｆ１〜ＦＮより第３図Ｂに示す如くそ
れ等の積重ねられた関係で一体化されてなるプロツク体
Ｄを得る。
この場合の一体化は導電性を有する又は有さざる接着剤
、低融半田等の結合剤２３を用いてなされるものである
が、その一体化に於て図示せざるも結合剤２３内に導電
性板、絶縁板等でなるスペーサを埋設せしめても良いも
のである。又この場合の積重ねられた関係はこの積重ね
方向よりみて図示の如く板体Ｆ，，Ｆ３・・・・・・・
・・の一の外縁部がこれに対応する板体Ｆ２，Ｆ４・・
・・・・・・・の外縁部と重なることのない様に積重ね
られた関係とするを可とするものである。次に斯く得ら
れたプロツク体Ｄをその板体Ｆ１〜ＦＮの平板面２１ａ
及び２１ｂと交叉する即ち例えば直交する互に平行な複
数の平面ＰＡ，ＰＢ，・・・・・・・・・に沿つて切断
し、その切断面を光学研磨し、斯くて第３図Ｃに示す如
く互に平行に相対向する平面Ｈ１及びＨ２と、之等平面
Ｈ１及びＨ２と交叉する即ち例えば直交する互に平行に
相対向する平面Ｈ３及びＨ４とを有し、平面Ｈ１及びＨ
２上に電極Ｅ１及びＥ２が附されてなる電気光学効果を
呈する材料でなる空間光位相変調素子ＫＯ）Ｎ個Ｋｌ，
Ｋ２，・・・・・・・・・ＫＮが、それ等の平面Ｈ３を
それ等に共通な共通平面（図示せず）上に、それ等の平
面Ｈ４をそれ等に共通な共通平面（図示せず）に夫々在
らしめた関係で並置一体化されてなる構成の目的とする
複ビツト空間光位相変調板Ｍを得る。
、低融半田等の結合剤２３を用いてなされるものである
が、その一体化に於て図示せざるも結合剤２３内に導電
性板、絶縁板等でなるスペーサを埋設せしめても良いも
のである。又この場合の積重ねられた関係はこの積重ね
方向よりみて図示の如く板体Ｆ，，Ｆ３・・・・・・・
・・の一の外縁部がこれに対応する板体Ｆ２，Ｆ４・・
・・・・・・・の外縁部と重なることのない様に積重ね
られた関係とするを可とするものである。次に斯く得ら
れたプロツク体Ｄをその板体Ｆ１〜ＦＮの平板面２１ａ
及び２１ｂと交叉する即ち例えば直交する互に平行な複
数の平面ＰＡ，ＰＢ，・・・・・・・・・に沿つて切断
し、その切断面を光学研磨し、斯くて第３図Ｃに示す如
く互に平行に相対向する平面Ｈ１及びＨ２と、之等平面
Ｈ１及びＨ２と交叉する即ち例えば直交する互に平行に
相対向する平面Ｈ３及びＨ４とを有し、平面Ｈ１及びＨ
２上に電極Ｅ１及びＥ２が附されてなる電気光学効果を
呈する材料でなる空間光位相変調素子ＫＯ）Ｎ個Ｋｌ，
Ｋ２，・・・・・・・・・ＫＮが、それ等の平面Ｈ３を
それ等に共通な共通平面（図示せず）上に、それ等の平
面Ｈ４をそれ等に共通な共通平面（図示せず）に夫々在
らしめた関係で並置一体化されてなる構成の目的とする
複ビツト空間光位相変調板Ｍを得る。
この場合目的とする複ビツト空間光位相変調板Ｍの空間
光位相変調素子Ｋｉ（１＝１，２・・・・・・・・・Ｎ
）は板体Ｆｉの一部でなり、又素子Ｋｉの平面Ｈ１及び
Ｈ２は板体Ｆ１の平板面２１ａ及び２１ｂの一部でなり
、又素子Ｋｉの電極Ｅ１及びＥ２は板体Ｆ１に附された
導電性層２２ａ及び２２ｂの一部でなり、更に素子Ｋ，
〜ＫＮの並置一体化はプロツク体Ｄを得た場合に適用せ
る結合剤２３の一部２４にてなされているものである。
以上が本発明による製法の一例であるが、斯る製法によ
つて得られる第３図Ｃに示す複ビツト空間光位相変調板
Ｍは、その素子Ｋ，〜ＫＮの平面Ｈ４側より第１図及び
第２図の場合と同様に素子Ｋ１〜ＫＮの平面Ｈ４とそれ
等の全域に亘つて垂直に入射せしめれば、素子Ｋ，，Ｋ
２，・・・・・・・・・ＫＮを夫夫通つた光ＬＯに基く
Ｎ個のビツト光Ｌｌ，Ｌ２，・・・・・・・・・ＬＮが
得られ、又斯る状態で素子Ｋｉの電極Ｅ１及びＥ２間に
所定の変調電圧を印加せしめれば、素子Ｋｉにその変調
電圧に応じた電界が生じ、素子Ｋｉが変調電圧に応じた
電気光学効果を呈することにより、素子Ｋｉを通つたビ
ツト光Ｌｉが光ＬＯに対して変調電圧に応じた位相分位
相のずれた位相変調された光として得られる機能を呈す
るものである。然し乍らこの場合ビツト光Ｌｉを位相変
調された光として得べく素子Ｋｉの電極Ｅ１及びＥ２間
に変調電圧を印加せしめる場合、その電極Ｅ１及びＥ２
が、素子Ｋ１内を通る光の素子Ｋｉ内での全通路に対向
せる関係で、素子Ｋｉに附されているので、変調電圧に
応じて素子Ｋｉに生ずる電界が、素子Ｋ１に効果的に生
じ、従つて第１図にて上述せる従来の場合は勿論第２図
にて上述せる従来の場合に比しても低い変調電圧でビツ
ト光Ｌｉを所定の位相変調された光として得ることが出
来るものである。従つて上述せる本発明の製法によれば
、その製法によつて得られる複ビツト空間光位相変調板
Ｍが、第１図にて上述せる従来の製法に有する欠点を伴
うことなしに得られるものである。
光位相変調素子Ｋｉ（１＝１，２・・・・・・・・・Ｎ
）は板体Ｆｉの一部でなり、又素子Ｋｉの平面Ｈ１及び
Ｈ２は板体Ｆ１の平板面２１ａ及び２１ｂの一部でなり
、又素子Ｋｉの電極Ｅ１及びＥ２は板体Ｆ１に附された
導電性層２２ａ及び２２ｂの一部でなり、更に素子Ｋ，
〜ＫＮの並置一体化はプロツク体Ｄを得た場合に適用せ
る結合剤２３の一部２４にてなされているものである。
以上が本発明による製法の一例であるが、斯る製法によ
つて得られる第３図Ｃに示す複ビツト空間光位相変調板
Ｍは、その素子Ｋ，〜ＫＮの平面Ｈ４側より第１図及び
第２図の場合と同様に素子Ｋ１〜ＫＮの平面Ｈ４とそれ
等の全域に亘つて垂直に入射せしめれば、素子Ｋ，，Ｋ
２，・・・・・・・・・ＫＮを夫夫通つた光ＬＯに基く
Ｎ個のビツト光Ｌｌ，Ｌ２，・・・・・・・・・ＬＮが
得られ、又斯る状態で素子Ｋｉの電極Ｅ１及びＥ２間に
所定の変調電圧を印加せしめれば、素子Ｋｉにその変調
電圧に応じた電界が生じ、素子Ｋｉが変調電圧に応じた
電気光学効果を呈することにより、素子Ｋｉを通つたビ
ツト光Ｌｉが光ＬＯに対して変調電圧に応じた位相分位
相のずれた位相変調された光として得られる機能を呈す
るものである。然し乍らこの場合ビツト光Ｌｉを位相変
調された光として得べく素子Ｋｉの電極Ｅ１及びＥ２間
に変調電圧を印加せしめる場合、その電極Ｅ１及びＥ２
が、素子Ｋ１内を通る光の素子Ｋｉ内での全通路に対向
せる関係で、素子Ｋｉに附されているので、変調電圧に
応じて素子Ｋｉに生ずる電界が、素子Ｋ１に効果的に生
じ、従つて第１図にて上述せる従来の場合は勿論第２図
にて上述せる従来の場合に比しても低い変調電圧でビツ
ト光Ｌｉを所定の位相変調された光として得ることが出
来るものである。従つて上述せる本発明の製法によれば
、その製法によつて得られる複ビツト空間光位相変調板
Ｍが、第１図にて上述せる従来の製法に有する欠点を伴
うことなしに得られるものである。
又上述せる本発明の製法によれば、第３図Ａに示す如く
に夫々相対向する平板面２１ａ及び２１ｂ上に導電性層
２２ａ及び２２ｂの附されてなる複数の板体Ｆ１〜ＦＮ
を予め用意し、而してそれ等より第３図Ｂに示す如くに
それ等の積重ねられた関係で一体化されてなるプロツク
体Ｄを得、そのプロツク体Ｄをその複数の板体Ｆ１〜Ｆ
Ｎの平板面２１ａ及び２１ｂと交叉する互に平行な複数
の平面ＰＡ，ＰＢ，・・・・・・・・・に沿つて切断し
、その切断面を光学研磨する丈けで、第３図Ｃに示す如
き目的とする複ビツト光位相変調板Ｍが得られ、そして
そこには、第２図にて上述せる従来の製法の場合の如く
に板体に複数の溝を形成するという面倒、複雑な程を伴
うことがないので、目的とする複ビツト光位相変調板Ｍ
を第２図にて上述せる従来の製法に有する欠点を伴うこ
となしに、歩留り良く且能率良く得ることが出来る等の
大なる特徴を有するものである。
に夫々相対向する平板面２１ａ及び２１ｂ上に導電性層
２２ａ及び２２ｂの附されてなる複数の板体Ｆ１〜ＦＮ
を予め用意し、而してそれ等より第３図Ｂに示す如くに
それ等の積重ねられた関係で一体化されてなるプロツク
体Ｄを得、そのプロツク体Ｄをその複数の板体Ｆ１〜Ｆ
Ｎの平板面２１ａ及び２１ｂと交叉する互に平行な複数
の平面ＰＡ，ＰＢ，・・・・・・・・・に沿つて切断し
、その切断面を光学研磨する丈けで、第３図Ｃに示す如
き目的とする複ビツト光位相変調板Ｍが得られ、そして
そこには、第２図にて上述せる従来の製法の場合の如く
に板体に複数の溝を形成するという面倒、複雑な程を伴
うことがないので、目的とする複ビツト光位相変調板Ｍ
を第２図にて上述せる従来の製法に有する欠点を伴うこ
となしに、歩留り良く且能率良く得ることが出来る等の
大なる特徴を有するものである。
尚本発明の上例に於て、板体Ｆ１〜ＦＮよりそれ等の積
重ねられた関係で一体化されてなるプロツク体Ｄを得る
とき、前述する如くその積重ねられた関係をその積重ね
方向よりみて板体Ｆｌ，Ｆ３，・・・・・・・・・の一
の外縁部がこれに対応する板体Ｆ２，Ｆ４，・・・・・
・・・・の外縁部と重なることのない様に積重ねられた
関係とすれば、得られる複ビツト光位相変調板Ｍの全て
の素子Ｋ１〜ＫＮの夫々につきそれに附されている電極
Ｅ１及びＥ２の側縁部が比較的広い面積で外部に臨んで
いることとなるので、それ等電極Ｅ１及びＥ２を容易に
外部に連結し得ることとなるものである。
重ねられた関係で一体化されてなるプロツク体Ｄを得る
とき、前述する如くその積重ねられた関係をその積重ね
方向よりみて板体Ｆｌ，Ｆ３，・・・・・・・・・の一
の外縁部がこれに対応する板体Ｆ２，Ｆ４，・・・・・
・・・・の外縁部と重なることのない様に積重ねられた
関係とすれば、得られる複ビツト光位相変調板Ｍの全て
の素子Ｋ１〜ＫＮの夫々につきそれに附されている電極
Ｅ１及びＥ２の側縁部が比較的広い面積で外部に臨んで
いることとなるので、それ等電極Ｅ１及びＥ２を容易に
外部に連結し得ることとなるものである。
第１図及び第２図は夫々従来の複ビツト空間光位相変調
板の製法を示す順次の各程に於ける路線的斜視図、第３
図は本発明による複ビツト空間光位相変調板の製法の一
例を示す順次の各工程に於ける路線的斜視図である。 図中Ｆ１〜ＦＮは板体、２１ａ及び２１ｂは平板面、２
２ａ及び２２ｂは導電性層、２３は結合剤、Ｋ１〜ＫＮ
は空間光位相変調素子、Ｈ１〜Ｈ４は平面、Ｅ１及びＥ
２は電極、Ｍは複ビツト空間光位相変調板を夫々示す。
板の製法を示す順次の各程に於ける路線的斜視図、第３
図は本発明による複ビツト空間光位相変調板の製法の一
例を示す順次の各工程に於ける路線的斜視図である。 図中Ｆ１〜ＦＮは板体、２１ａ及び２１ｂは平板面、２
２ａ及び２２ｂは導電性層、２３は結合剤、Ｋ１〜ＫＮ
は空間光位相変調素子、Ｈ１〜Ｈ４は平面、Ｅ１及びＥ
２は電極、Ｍは複ビツト空間光位相変調板を夫々示す。
Claims (1)
- １ 互に平行に相対向する平板面を有し、該平板面上に
夫々導電性層が附されてなる電気光学効果を呈する材料
でなる板体の複数を予め用意し、該複数の板体よりそれ
等の積重ねられた関係で一体化されてなるブロック体を
得、該ブロック体をその複数の板体の平板面と交叉する
互に平行な複数の平面に沿つて切断し、その切断面を光
学研磨し、依つて互に平行に相対向する第１及び第２の
平面と、該第１及び第２の平面と交叉する互に平行に相
対向する第３及び第４の平面とを有し、上記第１及び第
２の平面上に夫々第１及び第２の電極が附されてなる電
気光学効果を呈する材料でなる空間光位相変調素子の複
数が、それ等の第３の平面をそれ等に共通な第１の共通
平面上に、それ等の第４の平面をそれ等に共通な第２の
共通平面上に夫々在らしめた関係で並置一体化されてな
る構成の目的とする複ビット空間光位相変調板を得る様
にした事を特徴とする複ビット空間光位相変調板の製法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8434378A JPS5946368B2 (ja) | 1978-07-11 | 1978-07-11 | 複ビツト空間光位相変調板の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8434378A JPS5946368B2 (ja) | 1978-07-11 | 1978-07-11 | 複ビツト空間光位相変調板の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5511246A JPS5511246A (en) | 1980-01-26 |
| JPS5946368B2 true JPS5946368B2 (ja) | 1984-11-12 |
Family
ID=13827854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8434378A Expired JPS5946368B2 (ja) | 1978-07-11 | 1978-07-11 | 複ビツト空間光位相変調板の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5946368B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5022742A (en) * | 1983-10-03 | 1991-06-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Fast shutter for protection from electromagnetic radiation |
| JP2547204B2 (ja) * | 1987-01-08 | 1996-10-23 | キヤノン株式会社 | チタン酸ビスマス薄膜の形成方法 |
| JPS63192857A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超電導薄膜の作製法 |
-
1978
- 1978-07-11 JP JP8434378A patent/JPS5946368B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5511246A (en) | 1980-01-26 |
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