JPS5944775U - 縦型気相結晶成長用サセプタ− - Google Patents
縦型気相結晶成長用サセプタ−Info
- Publication number
- JPS5944775U JPS5944775U JP13863882U JP13863882U JPS5944775U JP S5944775 U JPS5944775 U JP S5944775U JP 13863882 U JP13863882 U JP 13863882U JP 13863882 U JP13863882 U JP 13863882U JP S5944775 U JPS5944775 U JP S5944775U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- susceptor
- vapor phase
- crystal growth
- phase crystal
- vertical vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 5
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 title claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の縦型気相結晶成長用サセプターを示すも
ので、サセプター面内の温度分布とこれに対応するサセ
プターの断面図、第2図はサセプターの平面図、第3図
は本考案に係る縦型気相結晶成長用サセプターを示すも
ので、サセプター面内の温度分布とこれに対応するサセ
プターの断面図7を示すものである。 1・・・サセプター、2・・・ガス噴出ノズル、3・・
・高周波コイル、4・・・半導体ウェハー、5・・・窪
み。
ので、サセプター面内の温度分布とこれに対応するサセ
プターの断面図、第2図はサセプターの平面図、第3図
は本考案に係る縦型気相結晶成長用サセプターを示すも
ので、サセプター面内の温度分布とこれに対応するサセ
プターの断面図7を示すものである。 1・・・サセプター、2・・・ガス噴出ノズル、3・・
・高周波コイル、4・・・半導体ウェハー、5・・・窪
み。
Claims (1)
- 円盤状サセプターの中心部を貫通させてガス噴出ノズル
を半導体ウェハーを載置する上面に開口し、高周波誘導
加熱用コイルをサセプターの下方に設置した縦型気相結
晶成長用サセプターにおいて、中心部と外周縁との範囲
でサセプターの下面に断面弧状の窪みを設けたことを特
徴とする縦型気相結晶成長用サセプター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13863882U JPS5944775U (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 縦型気相結晶成長用サセプタ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13863882U JPS5944775U (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 縦型気相結晶成長用サセプタ− |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5944775U true JPS5944775U (ja) | 1984-03-24 |
Family
ID=30311000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13863882U Pending JPS5944775U (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 縦型気相結晶成長用サセプタ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5944775U (ja) |
-
1982
- 1982-09-13 JP JP13863882U patent/JPS5944775U/ja active Pending
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