JPS5942754A - 研削加工装置 - Google Patents
研削加工装置Info
- Publication number
- JPS5942754A JPS5942754A JP15238582A JP15238582A JPS5942754A JP S5942754 A JPS5942754 A JP S5942754A JP 15238582 A JP15238582 A JP 15238582A JP 15238582 A JP15238582 A JP 15238582A JP S5942754 A JPS5942754 A JP S5942754A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- grinding surface
- ground
- grinding
- ion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子部品や機構部品等の研削面を荷電粒子の
照射により研削して加工する研削加工装置に関する。
照射により研削して加工する研削加工装置に関する。
このような装置では、第1図に示すように荷電粒子とし
てのイオンを発生するイオン源(1)から該イオン(2
)・・・を被研削物(3)の表面にほぼ垂直方向に照射
することにより、その表面に存在する汚れ等の被除去物
や、その表面の凸凹をなくすようにしている。ところで
、従来ではこのように被研削物(3)の表面にほぼ垂直
方向からイオン(2)・を照射しているので、被除去物
がこのイオン(2)・にJ:り更にその表面の内方へ押
し込まれたり、あるいは表面が均一に研削されて凸凹が
そのまま残される場合があり、効果的な表面加工を行う
ことに&fI点がある。
てのイオンを発生するイオン源(1)から該イオン(2
)・・・を被研削物(3)の表面にほぼ垂直方向に照射
することにより、その表面に存在する汚れ等の被除去物
や、その表面の凸凹をなくすようにしている。ところで
、従来ではこのように被研削物(3)の表面にほぼ垂直
方向からイオン(2)・を照射しているので、被除去物
がこのイオン(2)・にJ:り更にその表面の内方へ押
し込まれたり、あるいは表面が均一に研削されて凸凹が
そのまま残される場合があり、効果的な表面加工を行う
ことに&fI点がある。
本発明の目的は、被研削物の研削面にほぼ平行な方向に
イオン等の荷電粒子を照射するようにして該研削面から
汚れ等の被除去物や凸凹を効果的になくすようにするこ
とにある。
イオン等の荷電粒子を照射するようにして該研削面から
汚れ等の被除去物や凸凹を効果的になくすようにするこ
とにある。
本発明はこの目的を達成するため、イオン等の荷電粒子
発生源と、磁界発生手段とを備え、磁界発生手段による
磁界内に被研削物を設置する一方、荷電粒子発生源から
の荷電粒子を前記磁界内における被研削物の研削面にほ
ぼ平行に照射するようにし、この荷電粒子を磁界により
該研削面において円運fiさせることより該研削面の研
削加工を行うように構成されている。
発生源と、磁界発生手段とを備え、磁界発生手段による
磁界内に被研削物を設置する一方、荷電粒子発生源から
の荷電粒子を前記磁界内における被研削物の研削面にほ
ぼ平行に照射するようにし、この荷電粒子を磁界により
該研削面において円運fiさせることより該研削面の研
削加工を行うように構成されている。
以下、本発明の構成を、実施例について第2図に基づき
具体的に説明する。
具体的に説明する。
第2図は本発明の実施例の模式構成図である。
この実施例に示すように、本発明の研削加工装置は、荷
電粒子発生源としての公知のイオン源F+)と、磁界発
生手段としての電磁石(2)とを備える。この電磁石(
イ)は、相対向するN極(22a)とS極(22b)と
を備え、まtコS極(22+))は被研削物(イ)の設
置面を構成する。イオン源い)は、イオン(ハ)・・が
被研削物翰の研削面(ハ)にほぼ平行に照射されるよう
に、電磁石(イ)に対して配置される。電磁石(イ)の
NS極(22a)(22b)間には磁界が存在し、この
磁界の強さは研削加工程度に対応して図示を省略した磁
界制御手段により制御される。
電粒子発生源としての公知のイオン源F+)と、磁界発
生手段としての電磁石(2)とを備える。この電磁石(
イ)は、相対向するN極(22a)とS極(22b)と
を備え、まtコS極(22+))は被研削物(イ)の設
置面を構成する。イオン源い)は、イオン(ハ)・・が
被研削物翰の研削面(ハ)にほぼ平行に照射されるよう
に、電磁石(イ)に対して配置される。電磁石(イ)の
NS極(22a)(22b)間には磁界が存在し、この
磁界の強さは研削加工程度に対応して図示を省略した磁
界制御手段により制御される。
このような構成において、イオン源&])からイオンが
発射されると、イオン(財)・はNS極(22a X
22b )間に設置された被研削物(イ)に照射される
ことになる。ところが、被研削物婚は磁界内に設置され
ているので、イオン(財)・がこの磁界内にはいり込む
と、イオン(財)・はこの磁界内において円運動をする
。この円運動については電磁界におけるイオンの運動理
論により周知であるのでその説明を省略する。従って、
この円運動により、被研削物(ハ)の研削面に対するイ
オン(ハ) の衝突回数が非常に多くなり、該研削面■
の研削が強力に行われることになる。また、イオン(ハ
)・・は研削面(ハ)に対してほぼ平行に照射されるの
で、研削面(ハ)に存在する汚れ等の被除去物が研削物
翰内に押し込まれることなく除去され、研削面(ハ)の
凸凹も残らないように削られる。
発射されると、イオン(財)・はNS極(22a X
22b )間に設置された被研削物(イ)に照射される
ことになる。ところが、被研削物婚は磁界内に設置され
ているので、イオン(財)・がこの磁界内にはいり込む
と、イオン(財)・はこの磁界内において円運動をする
。この円運動については電磁界におけるイオンの運動理
論により周知であるのでその説明を省略する。従って、
この円運動により、被研削物(ハ)の研削面に対するイ
オン(ハ) の衝突回数が非常に多くなり、該研削面■
の研削が強力に行われることになる。また、イオン(ハ
)・・は研削面(ハ)に対してほぼ平行に照射されるの
で、研削面(ハ)に存在する汚れ等の被除去物が研削物
翰内に押し込まれることなく除去され、研削面(ハ)の
凸凹も残らないように削られる。
なお、荷電粒子としては上述のイオンの他に電子でもよ
く、また被研削物(4)の研削面(ハ)としては平面で
なくても円柱の周面のようなものでも同様に実施できる
。
く、また被研削物(4)の研削面(ハ)としては平面で
なくても円柱の周面のようなものでも同様に実施できる
。
以上のように、本発明によれば、荷電粒子を被研削物の
研削面にほぼ平行に照射するようにしたので、研削面に
ほぼ垂直な方向に荷電粒子を照射する従来とは異なり、
研削面における汚れ等の被除物が荷電粒子の衝突により
内部へ押し込まれることなく除去され、また研削面の凸
凹も残ることなく削除されしたがって、きれいなかつ平
面度が高い面を得ることができる。特に、本発明によれ
ば、磁界内に被研削物を設置し、この磁界内に荷電粒子
を照射するようにしたので、荷電粒子が磁界内で円運動
することにより被研削物の研削面への衝突回数が多くな
り、より効果的に研削加工を行うことができる等の効果
が発揮され、表面分析装置の前処理としであるいは分析
そのものの手法として利用できる他、IC等の電子部品
、精密機械部品の超精密平面加工仕」二げを可能にする
。
研削面にほぼ平行に照射するようにしたので、研削面に
ほぼ垂直な方向に荷電粒子を照射する従来とは異なり、
研削面における汚れ等の被除物が荷電粒子の衝突により
内部へ押し込まれることなく除去され、また研削面の凸
凹も残ることなく削除されしたがって、きれいなかつ平
面度が高い面を得ることができる。特に、本発明によれ
ば、磁界内に被研削物を設置し、この磁界内に荷電粒子
を照射するようにしたので、荷電粒子が磁界内で円運動
することにより被研削物の研削面への衝突回数が多くな
り、より効果的に研削加工を行うことができる等の効果
が発揮され、表面分析装置の前処理としであるいは分析
そのものの手法として利用できる他、IC等の電子部品
、精密機械部品の超精密平面加工仕」二げを可能にする
。
第1図は従来の模式構成図、第2図は本発明の実施例の
模式構成図である。 Q])・イオン源、(ハ)・・・電磁石、(ホ)・・被
研削物、(ハ)・・イオン、(ハ)・研削面 出願人 株式会社島津製作所 第1図 第2図
模式構成図である。 Q])・イオン源、(ハ)・・・電磁石、(ホ)・・被
研削物、(ハ)・・イオン、(ハ)・研削面 出願人 株式会社島津製作所 第1図 第2図
Claims (1)
- (1)イオン等の荷電粒子発生源と、磁界発生手段とを
備え、磁界発生手段による磁界内に被研削物を設置する
一方、荷電粒子発生源からの荷電粒子を前記被研削物の
研削面にほぼ平行に照射し、この荷電粒子の磁界内での
円運動により研削面の研削が行われることを特徴とする
研削加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15238582A JPS5942754A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 研削加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15238582A JPS5942754A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 研削加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5942754A true JPS5942754A (ja) | 1984-03-09 |
JPS645747B2 JPS645747B2 (ja) | 1989-01-31 |
Family
ID=15539361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15238582A Granted JPS5942754A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 研削加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5942754A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4691640A (en) * | 1984-12-27 | 1987-09-08 | Tsubakimoto Chain Co. | Automotive body, floor conveyor, having pivotal carriers |
JPS6455394A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nippon Mining Co | Production of high-purity electrolytic copper |
-
1982
- 1982-08-31 JP JP15238582A patent/JPS5942754A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4691640A (en) * | 1984-12-27 | 1987-09-08 | Tsubakimoto Chain Co. | Automotive body, floor conveyor, having pivotal carriers |
JPS6455394A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nippon Mining Co | Production of high-purity electrolytic copper |
JPH055903B2 (ja) * | 1987-08-26 | 1993-01-25 | Nitsuko Kyoseki Kk |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS645747B2 (ja) | 1989-01-31 |
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