JPS594187A - GaAsの気密封止 - Google Patents
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガリウムヒ累部品CGaA3 )とガラス母材
との間の気密封止に関するものであって、その4会界面
での口、1μmより大きく100μmより小さい凹凸が
除去されているような気密封止に関するものである。
との間の気密封止に関するものであって、その4会界面
での口、1μmより大きく100μmより小さい凹凸が
除去されているような気密封止に関するものである。
近来の半導体電子工業の急速の成長のなかで、ガリウム
ヒ素は主として以下のような物性のためにJ着々注目を
あつめるに至っている。
ヒ素は主として以下のような物性のためにJ着々注目を
あつめるに至っている。
−1ば接遷移型の禁制帝構造のため効率の高い゛亀子−
元のエネルギー変換が可能であり、この性質はボi・ダ
イオード、発光ダイオ−r、レーずダイオード、光学セ
ンサにオリ用されている。
元のエネルギー変換が可能であり、この性質はボi・ダ
イオード、発光ダイオ−r、レーずダイオード、光学セ
ンサにオリ用されている。
−高移動度な有しており、この性質はアナログ及びデジ
タル電子回路での帯域幅にオリ用されている。
タル電子回路での帯域幅にオリ用されている。
−1りUえばt〜”X0a1.−X和 のように、合金
性が高く、異なるプロセス中におけるエツチング特性や
禁゛制帯幅のような物性パラメータを自由に1あつらえ
る”ことを可能とする。
性が高く、異なるプロセス中におけるエツチング特性や
禁゛制帯幅のような物性パラメータを自由に1あつらえ
る”ことを可能とする。
GaAs中に光学部品を作りこむ場合、通常は従来の封
止方法が用いられる。すなわち、光学的接続のためのガ
ラス窓を備えた金属カプセル中に封1トされる。数少な
い例ではあるが、光ファイバへの効率のよい成就のため
にレンズ要素を備えたカプセル2用いる場合もある(ス
ウェーデン国特許出願8203597−3号参照)。そ
れら封止の方法を制限するものは、小型化の到達限度と
、それらが部品製造のための全コストの主要な部分ケ占
めるということである。
止方法が用いられる。すなわち、光学的接続のためのガ
ラス窓を備えた金属カプセル中に封1トされる。数少な
い例ではあるが、光ファイバへの効率のよい成就のため
にレンズ要素を備えたカプセル2用いる場合もある(ス
ウェーデン国特許出願8203597−3号参照)。そ
れら封止の方法を制限するものは、小型化の到達限度と
、それらが部品製造のための全コストの主要な部分ケ占
めるということである。
本発明は、ガリウムヒ累部品とガラス母材との間の封止
に関して付随する上述及びその他の問題点に対する解答
である。本発明に従う封1ヒは、界面から有機物及び/
あるいは無機物の接着剤仝で除去し、光学的に検出でき
る色あるいは色の変化がないようにすること、ガラス母
材の酸素濃度を°、界面と界面から10μm以上の距離
との間で定められる体積内でのガリウムとヒ素によって
形成される酸化物のストイキオメトリ濃度よりすって低
くするようにガラス母材を形成することによって特徴づ
け6れる。色変化はGa 4sの酸化時に起こり、それ
によって接着に問題が生じる。このことは本発明に従っ
て、封止を還元性雰囲気、例えば水素がスと窒素ガスの
混合ガス中において行うことによって、そしてガラス内
に通常発生する過剰酸素を欠乏させることによって防止
できた。本発明に従5−61止は、ガリウムヒ束中の光
学部品のための製造コストの低下と共に、小型化をも達
成できるという点で利点2有する。
に関して付随する上述及びその他の問題点に対する解答
である。本発明に従う封1ヒは、界面から有機物及び/
あるいは無機物の接着剤仝で除去し、光学的に検出でき
る色あるいは色の変化がないようにすること、ガラス母
材の酸素濃度を°、界面と界面から10μm以上の距離
との間で定められる体積内でのガリウムとヒ素によって
形成される酸化物のストイキオメトリ濃度よりすって低
くするようにガラス母材を形成することによって特徴づ
け6れる。色変化はGa 4sの酸化時に起こり、それ
によって接着に問題が生じる。このことは本発明に従っ
て、封止を還元性雰囲気、例えば水素がスと窒素ガスの
混合ガス中において行うことによって、そしてガラス内
に通常発生する過剰酸素を欠乏させることによって防止
できた。本発明に従5−61止は、ガリウムヒ束中の光
学部品のための製造コストの低下と共に、小型化をも達
成できるという点で利点2有する。
上に述べた問題点は、GaAs部品をガラスに直接封入
することによって解決することが従来性われている。そ
れは例えば米国特許明細第3.577,629号に述べ
られた方法に、GaAs材料に特有な特別な修正ン施こ
した方法によって行われる。
することによって解決することが従来性われている。そ
れは例えば米国特許明細第3.577,629号に述べ
られた方法に、GaAs材料に特有な特別な修正ン施こ
した方法によって行われる。
本発明は図面により詳細に例示されるであろう。
第1図はGaAs部品を光学ファイバに封止する方法を
示しである。第2図は電気リードを有するGaAs部品
の封止を示している。第6図はガラス母材を()+3.
AB部品に対して封止した実/M例を示L2ている。第
4図は光学ファイバ馨含む、光学的圧力測定装置ケ示し
、第5図は本発明に従った気VB向止を実現する方法を
示す。
示しである。第2図は電気リードを有するGaAs部品
の封止を示している。第6図はガラス母材を()+3.
AB部品に対して封止した実/M例を示L2ている。第
4図は光学ファイバ馨含む、光学的圧力測定装置ケ示し
、第5図は本発明に従った気VB向止を実現する方法を
示す。
第1図は、GaAS部品1を光学ファイバ3の端面に対
して封止する万ffi’Y示している。この封止の特徴
は、ファイバとGaAs部品との間のを面4が、光学的
に検出できる範囲円で平面にみががれており、すなわち
0.1μm以上の凹凸はなくされているが、しかしその
面の巨視的な表面構造は平面から幾分はずれてもよい(
100μmより小さい凹凸もまた除去されている)とい
うことである。このことは第1b図に示されており、そ
こでは端面2はいくらか凸面になっており、従ってGa
As部品1は何らかの曲げ応力をうけている。他の1つ
の特徴は界面4が光学的に検出できる色変化を有してい
ないということである。色変化はG、a、(B表面の酸
化時に起る。酸化物の母結晶への接着性は低いため、激
化物の存在は悪い影響を与える。ガラス母材中の酸素濃
度は、酸化物のストイキオメトリ濃度よりもず1)と低
くする。この酸化物とは界面4とそこから10μm以上
の距離で定められる体積中において、ガリウム及びヒ素
が形成する酸化物である。本発明の別の特徴の1つは、
界面に有機物あるいは無機物の接着剤のどちらも存在し
ないということである。しかし、0aAs部品がそれ自
身の中にドーパントあるいは仕金性添カロ物を有してい
る。例えば既に述べたアルミニウム添加の場合がその例
である。
して封止する万ffi’Y示している。この封止の特徴
は、ファイバとGaAs部品との間のを面4が、光学的
に検出できる範囲円で平面にみががれており、すなわち
0.1μm以上の凹凸はなくされているが、しかしその
面の巨視的な表面構造は平面から幾分はずれてもよい(
100μmより小さい凹凸もまた除去されている)とい
うことである。このことは第1b図に示されており、そ
こでは端面2はいくらか凸面になっており、従ってGa
As部品1は何らかの曲げ応力をうけている。他の1つ
の特徴は界面4が光学的に検出できる色変化を有してい
ないということである。色変化はG、a、(B表面の酸
化時に起る。酸化物の母結晶への接着性は低いため、激
化物の存在は悪い影響を与える。ガラス母材中の酸素濃
度は、酸化物のストイキオメトリ濃度よりもず1)と低
くする。この酸化物とは界面4とそこから10μm以上
の距離で定められる体積中において、ガリウム及びヒ素
が形成する酸化物である。本発明の別の特徴の1つは、
界面に有機物あるいは無機物の接着剤のどちらも存在し
ないということである。しかし、0aAs部品がそれ自
身の中にドーパントあるいは仕金性添カロ物を有してい
る。例えば既に述べたアルミニウム添加の場合がその例
である。
1つの実施例においては、GaA3部品としては日本国
特許出願昭55−139977号に従う少なくとも1つ
のフォトルミネッセンス領域を有する光フアイバ光学温
度センサである。他の実施例としては、日本国特許出願
昭56−95164号に従う、これもおそらく能動電気
回路素子を含むいわゆるフォトルミネッセンスダイオー
ドである。
特許出願昭55−139977号に従う少なくとも1つ
のフォトルミネッセンス領域を有する光フアイバ光学温
度センサである。他の実施例としては、日本国特許出願
昭56−95164号に従う、これもおそらく能動電気
回路素子を含むいわゆるフォトルミネッセンスダイオー
ドである。
第2図は′電気リード6.7を有するGaAs部品5の
封止を示しCおり、リードが平面研磨された表面9′F
!0:有するガラス母材8中へ融止されている。
封止を示しCおり、リードが平面研磨された表面9′F
!0:有するガラス母材8中へ融止されている。
部品の能動領域10は他の方向においては、゛母結晶に
よって保護されている。界面11は既に第1図の界面4
に関して述べた特徴を有している。゛電気的接続表面1
2.13には、例えばGaAs結晶及び接続リード6.
7と合金を形成するような、址属を薄くメッキしてもよ
い。
よって保護されている。界面11は既に第1図の界面4
に関して述べた特徴を有している。゛電気的接続表面1
2.13には、例えばGaAs結晶及び接続リード6.
7と合金を形成するような、址属を薄くメッキしてもよ
い。
第6図は、()aSS部品15に対して封止されたガラ
ス母材14が、凸型の而16によって光学的レンズ要素
乞構成しており、それが幾何光学で知られた関係に従っ
て部品15から発する元を点17へ集果させる実施例を
示している。
ス母材14が、凸型の而16によって光学的レンズ要素
乞構成しており、それが幾何光学で知られた関係に従っ
て部品15から発する元を点17へ集果させる実施例を
示している。
第4図は光学的圧力測定装置を示しており、光学ファイ
バ3と、弾性ダイアフラム26を構成することによって
排気あるいはガス充填された体積25奢分離するガリウ
ムヒ素母材1とヒ宮んでいる。ダイアフラム26はすく
なくとも1つの波長間隔でフォトルミネッセンスを放出
するように配置された好適実施例である。
バ3と、弾性ダイアフラム26を構成することによって
排気あるいはガス充填された体積25奢分離するガリウ
ムヒ素母材1とヒ宮んでいる。ダイアフラム26はすく
なくとも1つの波長間隔でフォトルミネッセンスを放出
するように配置された好適実施例である。
第5図は、本発明に従って気密封止を実現するだめの方
法を示している。0aAs部品18とガラス母材19は
高電圧源へつながる電気リード20゜21を有しており
、容器22中に設置されている。
法を示している。0aAs部品18とガラス母材19は
高電圧源へつながる電気リード20゜21を有しており
、容器22中に設置されている。
この容器は例えば水素ガスと窒素ガスの混合ガスのよう
な還元性ガスを充填されている。容器22には加熱装置
23が備えられており、それによってガラス母材19と
部品18は400℃まで加熱できる。供給電力の制御の
ために温度制御装置24がつながれている。
な還元性ガスを充填されている。容器22には加熱装置
23が備えられており、それによってガラス母材19と
部品18は400℃まで加熱できる。供給電力の制御の
ために温度制御装置24がつながれている。
第5図に従う方法は米国特許明細第
3.577,629号に述べられた方法とは還元性雰囲
気を用いる点で異なっている。更に封止の前に還元性雰
囲気中へガラス母材を保存することによって、前もって
がラス母材19の過剰酸XYなくしておく必要がある。
気を用いる点で異なっている。更に封止の前に還元性雰
囲気中へガラス母材を保存することによって、前もって
がラス母材19の過剰酸XYなくしておく必要がある。
(そうでなげれば酸素の濃度に関しては上述を参照。)
更に、ガラス母材19の熱膨張係数はGaAsのそれと
大きくは異なっていないことが必要でおる。
大きくは異なっていないことが必要でおる。
G、aA日の膨張係数は6XIF/℃である。(これら
の要求ヲ満足する品質のガラスは市販されており、コー
ニング(Corning)社より0211の商品番号で
市販されている。9 本発明は、特許請求の範囲の内で、数多くの変形が可能
である。
の要求ヲ満足する品質のガラスは市販されており、コー
ニング(Corning)社より0211の商品番号で
市販されている。9 本発明は、特許請求の範囲の内で、数多くの変形が可能
である。
第1a図は、光学ファイバに封止されたQaAs部品構
造を示す図面。第11:1図はファイバ端面が凸面の場
合を示す図面。 第2図は、電気リードY有するGaAS s品の刺止例
を示す図面。 第6図は、ガラス母材とGaA3部品との他の刺止例を
示す図面。 第4図は、光学ファイバを含む、光学的圧力?1+11
定装置を示す図面。 第5図は、本発明に従う気密封止を行う方決を示す図面
。 (参照番号) 1・・・・・・(+aAs部品 2・・・・・・端面 3・・・・・・光学ファイバ 4・・・・・・界面 5・・・・・・(la A S部品 6.7・・・・・・電気リード 8・・・・・・ガラス母材 9・・・・・・研磨向 10・・・・filシ動領域 11・・・・・・許W1 12.13・・・接続面 14・・・・・・ガラス母材 15・・・・・・GaA3部品 16・・・・・・凸面 17・・・・・・焦点 18 ・・・・・・ Ga八へ 部品 19・・・・・・ガラスP、を材 20.21・・・・・・′電気リード 22・・・・・・容器 23・・・・・・加熱装置ば 24・・・・・・温度制側1装置 25・・・・・・ガス充填部 26・・・・・・ダイアフラム
造を示す図面。第11:1図はファイバ端面が凸面の場
合を示す図面。 第2図は、電気リードY有するGaAS s品の刺止例
を示す図面。 第6図は、ガラス母材とGaA3部品との他の刺止例を
示す図面。 第4図は、光学ファイバを含む、光学的圧力?1+11
定装置を示す図面。 第5図は、本発明に従う気密封止を行う方決を示す図面
。 (参照番号) 1・・・・・・(+aAs部品 2・・・・・・端面 3・・・・・・光学ファイバ 4・・・・・・界面 5・・・・・・(la A S部品 6.7・・・・・・電気リード 8・・・・・・ガラス母材 9・・・・・・研磨向 10・・・・filシ動領域 11・・・・・・許W1 12.13・・・接続面 14・・・・・・ガラス母材 15・・・・・・GaA3部品 16・・・・・・凸面 17・・・・・・焦点 18 ・・・・・・ Ga八へ 部品 19・・・・・・ガラスP、を材 20.21・・・・・・′電気リード 22・・・・・・容器 23・・・・・・加熱装置ば 24・・・・・・温度制側1装置 25・・・・・・ガス充填部 26・・・・・・ダイアフラム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 +11 界面(4,11)において、[J、1μmよ
り大きく、100μmよりも小さい凹凸が除去されてい
るような、ガリウムヒ系部品(1,5,i5)とガラス
母材(3,8,14)との間の気密封止であって、弁面
(4,11)から有機物及び/あるいは無機吻の接漸剤
が除去されており、光学的に色づいてみえないようにさ
れており、またガラス母材が、そこでの$素の濃度ン、
弁面(4,IIJと脊面(4,11)から10 pm以
上の距離とで定められる俸槓円でのガリウムとヒ葉によ
って形成されるば化物のストイキオメトリを満足するた
めに必要な濃度よりもずっと低くするように形成されて
いることによって特徴づげられる気そ封b(2、特許請
求の範囲第1塊の気密封止でろって、ガラス母材が光学
同ファイバ(3)乞含むこと乞特徴とする気密封止。 (3) 特許請求の範囲第1項の気密封止であって、
ガラス母材(8)あるいはガリウムヒ系部品に金属リー
ド(6,7Jが設げられていることを特徴とする気密封
止。 (41特許請求の範囲第1項の気密封止であって、ガラ
ス母材(14)が光学的レンズ要素の形態に形成されて
いること馨特徴とする気密封止。 (5)@許請求の範囲第2項の気密封止であって、ガリ
ウムヒ系部品(1,5,15Jが光学ファイバ(3)中
へ光?放出するように配置されていることを特徴とする
気m封止。 (6)特許請求の範囲第2項の気密封hhであって、ガ
リウムヒ系部品(1,5,15)が能動′ぼ気回路要素
を含むことを特徴とする気密封止。 (7)特許請求の範囲第1項の気が封止であって、排気
もしくはガス充填された体積(25)が周囲から、封正
によって分離されていることt特徴とする気密封止。 (8)特許請求の範囲第7項の気密封止で必って、ガリ
ウムヒ系部品(1)がずくなくとも1つり点で弾性夕゛
イアフラム(26)として、あるいは固定された梁とし
て形成されていることを特徴とする、気密封止。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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