JPS5940789B2 - セラミツクス焼結成形体の製造法 - Google Patents

セラミツクス焼結成形体の製造法

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JPS5940789B2
JPS5940789B2 JP54154198A JP15419879A JPS5940789B2 JP S5940789 B2 JPS5940789 B2 JP S5940789B2 JP 54154198 A JP54154198 A JP 54154198A JP 15419879 A JP15419879 A JP 15419879A JP S5940789 B2 JPS5940789 B2 JP S5940789B2
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gas
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ceramic
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聖使 矢島
清人 岡村
良雄 長谷川
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は耐熱性セラミックスの焼結成形体の製法に関す
るものである。
さらに詳しくは、本発明は公知の耐熱性セラミックスに
添加剤としてポリチタノカルボシランを混和し、成形し
、この成形と同時に又は成形した後に、真空中、不活性
ガス、還元性ガス、炭化水素ガスのうちから選ばれる少
なくとも1種からなる雰囲気中で加熱焼結することから
なる耐熱性セラミックス焼結成形体の製法に関するもの
である。
従来、耐熱性にすぐれたセラミックスとして多面に使用
されている焼結成形体としては、例えばAl2O3,B
4O2Mg02ZrO2,SlO□などの酸化物、si
c、’ric、WC,B4Cなどの炭化物、Si3N4
.BN、AlNなどの窒化物、TiB2゜ZrB2など
の硼化物、さらにはMoSi2.WSi2゜CrSi2
などの珪化物、およびこれらの複合化合物が知られてい
る。
これらのセラミックス焼結成形体は、それぞれの粉粒体
の成形加工および極めて高温での加熱焼結によって製造
されてきた。
最近比較的低い加圧や焼結温度で、空孔の少ない高密度
焼結体を製造する研究が盛んである。
すなわち、前記適切な添加剤を使用することでセラミッ
クスの自己焼結性を向上せしめると同時に焼結体の粒の
異常成長を抑止して、粒間に空孔が残存することを防ぐ
上、添加剤により粒界を高密度に充填することができる
ので、経済的に有利に高密度焼結体を得ることができる
ためである。
従来使用されている添加剤としては、例えば、Al2O
3にはMgOやN i Oを、Z r 02にはCaO
やTiO2を、5i3N4にはAl2O3や¥203を
、SiCにはBやSiやCを、TieにはNiやWCを
、ZrB2にはZ r 02やCrB2を添加剤として
用いており、どちらかというと酸化物系の添加剤が多い
が、他に金属元素単体で添加するもの、さらには例えば
炭化物に対して他の炭化物、硼化物に対して他の硼化物
を添加することも少なくない。
これらの添加剤が選定される理由は、自己焼結性に乏し
いセラミックスの焼結を助成するように、素地セラミッ
クスと添加剤との間の相反応を生起させるため、もしく
は添加剤が高温において塑性化したり液相となったりす
るため焼結が進行し易くなるからであるO しかしながら、前述した従来の添加剤には次のような欠
点がある。
添加剤とセラミックス素地の同相反応を利用する高密度
焼結体においては、添加物とセラミックスの反応による
第2、第3相が出現し、これが主として結晶粒界に存在
しており、高温になるとこれらの粒界構成物から塑性変
形が生じ易く、高温強度を目的とした焼結体とはなり難
いことが多い。
例えば、Si3N4にMgOを添加した場合は、第2相
として51MgO3なるガラス質相ができ、これが粒界
を埋めることにより高密度化は達成されるが、高温にお
けるこの焼結体の機械的強度は、前記ガラス質相が軟化
するため1000°C前後から急速に低下する欠点を有
している。
さらに、添加剤の塑性化や液相化を利用する高密度焼結
体においても、前記と同様に高温における粒界での塑性
変形や液体流動により、強度の低下が著しくなる欠点を
有している。
一方、上記のような高温強度の低下を招かない添加剤と
しては、ガラス質になり易い酸化物や液相になり易い金
属単体を除いたものが有望であるが、固体粉末状の炭化
物系や硼化物系は一般に自己焼結性が悪いためこれを添
加剤として使用しても充分な高密度化の効果は期待でき
ない。
本発明は、高温において塑性変形をもたらさず、さらに
は焼結過程で稠密に粒界を充填するとともに素地セラミ
ックスの焼結性を向上させ、しかもセラミックスの粗粒
成長を抑止するような性質を有する新しい添加剤を用い
ることにより、従来のセラミックス焼結成形体に比べて
低密度であるにもかかわらず、従来のセラミックス焼結
成形体と同等もしくはそれ以上の室温並びに高温での機
械強度に優れた耐熱性セラミックス焼結成形体を製造す
る方法を提供することを目的とするものである。
次に、本発明に使用する添加剤であるポリチタノカルボ
シラン及びその製法について説明する。
すなわち、前記のポリチタノカルボシランは、主として
一般式 (但し、式中のRは水素原子、低級アルキル基、又はフ
ェニル基を示す) で表わされる主鎖骨格を有する数平均分子量が200〜
10,000のポリカルボシランと、一般式 %式%) (但し、式中のR′は炭素原子数1〜20個を有するア
ルキル基を示す) で表わされるチタンアルコキシドとから誘導された数平
均分子量700〜ioo、oooのポリチタノカルボシ
ランであって、該ポリチタノカルボシランのケイ素原子
の少なくとも1部が酸素原子を介してチタン原子と結合
しており、そして該ポリチタノカルボシランにおける+
5iCH2+の構造単位の全数対(−Ti−0+の構造
単位の全数の比率が2=1乃至200:1の範囲内にあ
る重合体である。
またこのような重合体には、次に図示するような1官能
性重合体、2官能性重合体、3官能性重合体及び4官能
性重合体がある。
(但し、R及びR′は前記と同じ意味を有する)また本
発明に使用されるポリチタノカルボシランは、前記ポリ
カルボシランと前記チタンアルコキシドとを、ポリカル
ボシランの+5i−CH2)の構造単位の全数対チタン
アルコキシドの+Ti−0+の構造単位の全数の比率が
2=1乃至200:1の範囲内となる量比に加え、反応
に対して不活性な雰囲気中において加熱反応して得られ
る。
本発明で添加剤として使用するポリチタノカルボシラン
は、粘稠液あるいは粉末として得ることができる。
そして粉末として得られる場合も、これを加熱または溶
解により容易に粘稠液とすることができるため、従来の
粉末状添加剤とは異なり、素地セラミックス粒体中で全
体に渉って均一に分布できる。
また、このポリチタノカルボシランは、真空中、不活性
ガス、還元性ガス、炭化水素ガスのうちから選ばれる何
れか1種以上の雰囲気中で、800〜2300℃の加熱
温度で焼成されることにより、活性度の高いSi、Ti
、C,0や揮発性物質を生成し、これらが基体たるセラ
ミックスと接触することによりセラミックスの焼結性を
向上させることができる。
さらに、前記活性度の高いSi。Ti、C,0より生成
するSiC,TiC,SiCとTiCの固溶体およびT
iC1−x(0〈xく1)S ia N4 (N2中加
熱の場合にわずかに生成)、C等の高融点物質や基体た
るセラミックスと反応して生成する各種高融点物質が、
主として粒界に存在してセラミックス粒体の異常な粒成
長を抑止し、さらに粒界を充填する前記高融点物質は高
温における機械的強度に極めてすぐれているため、焼結
体全体の高温における強度の低下をもたらさないなどの
すぐれた利点が得られる。
前述のように、添加剤として使用されるポリチタノカル
ボシランは、加熱により熱分解し、1部の炭素、水素、
酸素、ケイ素およびチタンを含む有機物は揮発成分とし
て揮散し、残存する炭素、酸素、ケイ素および/又はチ
タンは基体のセラミックスと反応して化合物を生成しセ
ラミックス粉末粒子の間隙を充填するようになる。
この反応は約500℃より始まり約1500℃で完了す
る。
この間セラミックス粒子も自己焼結するが、この焼結に
際して前記添加剤は結合剤として作用するばかりでなく
、焼結助剤、粒成長抑制剤としても作用する。
加熱工程でセラミックス粒界に形成される各種化合物の
大きさは通常100λ以下という極めて小さな粒子から
構成されているので、焼結体の耐熱衝撃性はすぐれたも
のになっている。
また、これら化合物は主にSiC,TiC,SiCとT
iCの固溶体およびTiC1−x(0<x<1 )S
is N4 (N2中加熱の場合にわずかに生成)C等
であるので、高温機械的強度、耐酸化性、耐食性、耐熱
衝撃性に極めてすぐれており、化学的に安定な性質を有
しているので、焼結体全体にもこれらのすぐれた性質が
反映される。
本発明においては、前記添加剤をセラミックス粉末に対
して通常0.05〜20重量%の範囲で添加し混和する
この添加量は後述するように加圧焼結する方法によって
異なるが、0.05%より添加量が少ないと高強度な焼
結体が得難く、20%より多く添加すると焼結体に一部
スウエリングを生じ、強度が劣化するので添加量は通常
0.05〜20重量%の範囲内とすることが有利である
また本発明にセラミックスとして公知の耐熱性セラミッ
クスが用いられ、例えばA1203tBeO。
Mg02Zr02,5i02などの酸化物、SiC,T
iC。
WC,B4Cなどの炭化物、S t a N4 、B
N 、AlNなどの窒化物、T iB2 、Z r B
2などの硼化物、及びMoSi2.WSi2.CrSi
2などの珪化物、さらにこれらの複合化合物があげられ
る。
これらの耐熱性セラミックスはその形状には特に制限さ
れないが、通常、粉末状に粉砕して使用するのが有利で
ある。
さらに、本発明における前記ポリチタノカルボシランと
前記セラミックスの混合物の焼結は、真空中、不活性ガ
ス、還元性ガス、炭化水素ガスのうちから選ばれる少な
くとも1種からなる雰囲気中において、800〜230
0°Cに加熱することによって行われる。
ここで不活性ガスとして窒素ガス、炭酸ガス、アルゴン
ガスなど、還元性ガスとして水素ガス、一酸化炭素ガス
など、炭化水素ガスとしてメタンガス、エタンガス、プ
ロパンガス、ブタンガスなどがそれぞれあげられる。
また焼結温度は800〜2300℃が好ましく、800
℃以下では混和したポリチタノカルボシランの無機化が
完結せず、また2300℃以上では混和したポリチタノ
カルボシランの無機化物中のSiCの分解が起るので好
ましくない。
次に焼結を行なう方法としては、大別してセラミックス
粒子と前記ポリチタノカルボシランとの混和物を成形し
た後加熱焼結する方法または前記混和物の成形と焼結を
同時に行なうホットプレス法を使用することができる。
前記成形と焼結とを別々に行なう方法においてセラミッ
クス粉体と添加剤との混和物を成形するには、金型プレ
ス法、ラバープレス法、押出し法、シート法を用いてi
oo〜5000kg/cyiの圧力で加圧し所定の形状
のものを得ることができる。
次に前記成形体を焼結することによって本発明の耐熱性
セラミックス焼結成形体を得ることができる。
また、成形と焼結を同時に行なう方法としては、例えば
ホットプレス法をあげることができる。
ホットプレス法で焼結を行なう場合は、黒鉛、アルミナ
、窒化硼素などからなる押型のうちから夫々のセラミッ
クス素地と反応を起こさないものを選び、2〜2000
kg/cyiYの圧力で、セラミックス粉体と添加剤と
の混和物を加圧しながら同時に加熱し焼結体とすること
ができる。
なお、本発明の好ましい実施態様として、ポリチタノカ
ルボシランとセラミックスの混和物を、成形、焼成する
前に、真空中、不活性ガス、還元性ガス、炭化水素ガス
のうちから選ばれる少なくとも1種からなる雰囲気中で
800℃以下で予備加熱する。
このような処理を行うとセラミックス焼結成形体の体積
収縮がすくなく、寸法精度のすぐれた成形体を得ること
ができる。
このさい、所望ならば、予備加熱した混和物にポリチタ
ノカルボシランを更に添加混和し、こうして得られた混
和物を先に述べたような成形及び加熱焼結の処理に付し
てもよい。
さらに本発明の好ましい別の実施態様として、本発明の
方法により、一旦、焼結を完予したセラミックス成形体
に、液状のポリチタノカルボシランを浸漬、噴霧、塗布
などの操作により含浸させ、またポリチタノカルボシラ
ンが固体状のものとして得られる場合には、加熱や溶媒
に溶解させることにより液状とした後に前記操作により
含浸させ、また必要により加圧して前記含浸の度合を高
めた後、真空中、不活性ガス、還元性ガス、炭化水素ガ
スのうちから選ばれるいずれか少なくとも1種の雰囲気
中で800°C〜2300℃の温度範囲で加熱焼結する
一連の処理を少なくとも1回施すことによって、より高
密度で且つ高強度の焼結成形体とすることができる。
前記のように含浸させるポリチタノカルボシランは液状
とする必要があるため、これらの化合物が室温あるいは
比較的低い加熱温度で液状で得られる場合は、そのまま
のものを、あるいは必要により粘性を下げるため少量の
ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、エーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホルム、メチ
レンクロリド、石油エーテル、石油ベンジン、リグロイ
ン、フロン、DMSO。
DMEその他ポリチタノカルボシランを可溶する溶媒を
用いて溶解したものを実用することができる。
さらに別の本発明の方法の実施態様においては、本発明
の最初の混和物を作る工程で、ポリチタノカルボシラン
と混和せしむるべきセラミックスを粉末として、ポリチ
タノカルボシランを真空中、不活性ガス、還元性ガス、
炭化水素ガスのうちから選ばれた少くとも1種からなる
雰囲気中で焼成した後、粉砕することによって得られる
セラミックス粉末を使用することによって、高密度且つ
高強度の焼結成形体を得ることができる。
この場合のセラミックス粉末は主としてSiC,TiC
,SiCとTiCとの固溶体およびTiC1−x(0<
x<1)より成り、この他にCt S t 3 N4
(N2中加熱の場合に生成)がわずかに含まれる。
本発明により得られたセラミックス成形体は耐熱性を利
用した用途の他に例えばB4C2TiB2゜Z r B
2成形体の場合は中性子吸収材として利用できる。
この他に け)建築用材料−パネル、ドーム、トレーラ−ハウス、
壁、天井材、床材、クーリングタワー、浄化槽、汚水タ
ンク、給水タンク、給湯用配管、排水管、熱変換用ヒー
トパイプ等 (2)航空機、宇宙開発用機器材−胴体、翼、ヘリコプ
タ−のドライブシャフト、ジェットエンジンのコンプレ
ッサー、ロータ、ステータ、ブレード、コンプレッサー
ケーシング、ハウジング、ノーズコーン、ロケットノズ
ル、ブレーキ材、タイヤコード等 (3)船舶用材料−ボート、ヨツト、漁船、作業用船等 (4)路上輸送機器材料−車輌の前頭部、側板、水タン
ク、便所ユニット、座席、自動車のボディ、コンテナ、
道路機器、ガードレール、パレット、タンクローリ−用
タンク、自転車、オートバイ等 (5)耐食機器材料−タンク類、塔類ダクト、スタッフ
類、パイプ類等 (6)電気材料−面発熱体、バリスター、点火器、熱電
対等 (7)スポーツ用品−ボート、洋弓、スキー、スノーモ
ビル、水上スキー、グライダ−機体、テニスラケット、
ゴルフシャフト、ヘルメット、バット、レーシングジャ
ケット等 (8)機械要素−ガスケット、パツキン、ギア、ブレー
キ材、摩耗材、研摩研削材等 (9)医療用機器材料−義足、義肢等 (10)音響用機器材料−カンチレバー、トーンアーム
、スピーカーコーン、ボイスコイル などに利用することができる。
以下実施例によって本発明を説明する。
参考例 1 51の三ロフラスコに無水キシレン2.51とナトリウ
ム400gとを入れ、窒素ガス気流下でキシレンの沸点
まで加熱し、ジメチルジクロロシラン11を1時間で滴
下した。
滴下終了後、10時間加熱還流し沈殿物を生成させた。
この沈殿を濾過し、まずメタノールで洗浄した後、水で
洗浄して、白色粉末のポリジメチルシラン420gを得
た。
他方、ジフェニルジクロロシラン750g、:!ニホウ
酸124gを窒素ガス雰囲気下、n−ブチルエーテル中
、100〜120℃の温度で加熱し、生成した白色樹脂
状物を、さらに真空中400℃で1時間加熱することに
よって530gのポリボロジフェニルシロキサンを得り
次に、上記のポリジメチルシラン250gに上記のポリ
ボロジフェニルシロキサン8.27gを添加混合し、還
流管を備えた21の石英管中で窒素気流下で350℃ま
で加熱し6時間重合し、本発明の出発原料の1つである
ポリカルボシランを得た。
室温で放冷後キシレンを加えて溶液として取り出し、キ
シレンを蒸発させ、320℃1時間窒素気流下で濃縮し
て140gの固体を得た。
このポリマーの数平均分子量は蒸気圧浸透圧法(VPO
法)により測定したところ995であった。
参考例 2 テトラメチルシラン100gを秤取し、リサイクルので
きる流通式装置を用いて、窒素雰囲気下で770℃で2
4時間反応を行ない、本発明の出発原料の1つであるポ
リカルボシランを得た。
室温で放冷後ノルマルヘキサンを加えて溶液として取り
出し、濾過して不溶物を除去後、ノルマルヘキサンを蒸
発させ、180℃で1時間、5m71LH,Fの減圧下
で濃縮して14gの粘着性物質を得た。
このポリマーの数平均分子量はvPO法により測定した
ところ450であった。
参考例 3 参考例1で得られたポリジメチルシラン250Iをオー
トクレーブに入れ、アルゴン雰囲気中で、470℃、約
100気圧下で14時間加熱重合し、本発明の出発原料
の1つであるポリカルボシランを得た。
室温で放冷後ノルマルヘキサンを加えて溶液として取り
出し、ノルマルヘキサンを蒸発させ、280℃で1時間
、LmmHgの減圧下で濃縮して得られた固体を、アセ
トンで処理して低分子量物を除去して、数平均分子量が
8750のポリマー60gを得た。
実施例 1 参考例工で得られたポリカルボシラン40gと、チタン
テトラブトキシド28gとを秤取し、この混合物にキシ
レン400m1を加えて均一相からなる混合溶液とし、
窒素ガス雰囲気下で、130°Cで1時間撹拌しながら
還流反応を行なった。
還流反応終了後、さらに温度を200℃まで上昇させて
溶媒のキシレンを留出させたのち、200℃で1時間重
合を行ないポリチタノカルボシランを得た。
このものはノルマルヘキサン、ベンゼン、キシレン等に
可溶であり、数平均分子量が1528であった。
このポリマー10重量%と200メツシユ以下のSiC
粉末90重量%とを適量のベンゼンとともに混合、乾燥
後乳鉢中で軽く解砕し、メツシュ100の篩で整粒した
この混合粉末を1500kg/cutの成形圧で加圧成
形して10龍×50mmX5mmの圧粉成形体を得た。
この圧粉成形体を窒素ガス中200°C/hrの昇温速
度で1200℃まで加熱焼結した。
この結果嵩密度2.55g/d1抗折強度13.0 k
g/maO) S i C焼結成形体ヲ得た。
実施例 2 参考例2で得られたポリカルボシラン40.9とチタン
テトラブトキシド10Iとを秤取し、この混合物にノル
マルヘキサン3007dを加えて均一相からなる混合溶
液とし、窒素ガス雰囲気下で60°Cで8時間撹拌しな
がら還流反応を行なった。
還流反応終了後さらに加熱しノルマルヘキサンを留出さ
せた後、170°Cで3時間重合を行ない、数平均分子
量が1450のポリチタノカルボシランを得た。
このポリマー10重量%と200メツシユ以下のS i
3 N4粉末90重量%とを適量のノルマルヘキサンと
ともに混合、乾燥後、アルゴン中100℃/hrの昇温
速度で600℃で予備加熱して粉砕した。
この粉末95重量%と上記のポリチタノカルボシラン5
重量%とを適量のノルマルヘキサンとともにさらに混合
、乾燥後、粉砕した。
この混合粉末を2000kg/cvtの成形圧で力U圧
成形して10mmX 50mmX 5m1Lの圧粉成形
体を得た。
この圧粉成形体とアルゴン中100℃/hrの昇温速度
で1400℃まで加熱焼結した。
この結果嵩密度2.61g/(滅抗折強度11.2に9
.’−のS t 3 N4焼結成形体を得た。
実施例 3 参考例3で得られたポリカルボシラン40.0gさチタ
ンテトライソプロポキシド1.6gとを秤取し、この混
合物にキシレン200TLlを加えて均一相からなる混
合溶液とし、アルゴンガス雰囲気下で130℃で2時間
撹拌しながら還流反応を行なった。
還流反応終了後さらに加熱し、キシレンを留出させたの
ち、300℃で30分間重合を行ない、数平均分子量が
18500のポリチタノカルボシランを得た。
このポリマー7重量%と200メツシユ以下のα−A4
20393重量%とを適量のベンゼンとともに混合、乾
燥後、粉砕した。
この混合粉末を3000kg/fflの成形圧で加圧成
形して10mmX 50mm×5mmの圧粉成形体を得
た。
この圧粉成形体を窒素中200℃/hrの昇温速度で1
000°Cまで加熱焼結した。
この結果嵩密度3.05 g/cnt、抗折強度6.3
kg/−のAl2O3焼結成形体を得た。
実施例 4 圧粉成形体を窒素ガス中200℃/hrの昇温速度で1
200℃まで加熱焼結するかわりに、圧粉成形体を一酸
化炭素と窒素との混合ガス(CO:N2=1:4(モル
比)〕中200°C/hrの昇温速度で1800°Cま
で加熱焼結する他は、実施例1と同様に実施して得られ
たSiC焼結成形体を、濃度が1g/Tllである、実
施例1で使用するポリチタノカルボシランのベンゼン溶
液に浸漬し、得られた含浸成形体を乾燥後、一酸化炭素
と窒素との混合ガス〔CO:N2−1:4(モル比)〕
中200℃/hrの昇温速度で1800℃まで加熱焼結
した。
この含浸、乾燥、加熱焼結の一連の処理を2回施した結
果、嵩密度2.68 j! /crA、抗折強度20.
61y/vu?tのSiC焼結成形体を得た。
実施例 5 実施例2で得られたポリチタノカルボシラン15重量%
と200メツシユ以下のSiC粉末85重量%とを適量
のノルマルヘキサンとともに混合、乾燥後、アルゴン中
100°C/hrの昇温速度で600℃まで予備加熱し
て粉砕した。
この粉末をカーボンダイス中にセットしてアルゴン気流
下1800℃で0.5時間ホットプレスした。
この結果、嵩密度3.OOg/i、抗折強度25.1k
g/−のSiC焼結成形体を得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 主として一般式 (但し、式中のRは水素原子、低級アルキル基、又はフ
    ェニル基を示す) で表わされる主鎖骨格を有する数平均分子量が200〜
    10,000のポリカルボシランと、一般式 %式%) (但し、式中のR′は炭素原子数1〜20個を有するア
    ルキル基を示す) で表わされるチタンアルコキシドとから誘導された数平
    均分子量700〜100,000のポリチタノカルボシ
    ランであって、該ポリチタノカルボシランのケイ素原子
    の少なくとも1部が酸素原子を介してチタン原子と結合
    しており、そして該ポリチタノカルボシランにおける+
    S i −CH2+の構造単位の全数対+Ti−0+の
    構造単位の全数の比率が2=1乃至200:1の範囲内
    にあるポリチタノカルボシランを、酸化物、炭化物、窒
    化物、硼化物、珪化物のうちから選ばれる少なくとも1
    種からなるセラミックスに混和し、得られた混和物を成
    形し、この成形と同時に又は成形した後に、真空中、不
    活性ガス、還元性ガス、炭化水素ガスのうちから選ばれ
    る少なくとも1種からなる雰囲気中で、800〜230
    0℃の温度範囲内で加熱焼結することを特徴きする、セ
    ラミックス焼結成形体の製造法。 2 主として一般式 (但し、式中のRは水素原子、低級アルキル基、又はフ
    ェニル基を示す) で表わされる主鎖骨格を有する数平均分子量が200−
    10,000のポリカルボシランと、一般式 %式%) (但し、式中のR′は炭素原子数1〜20個を有するア
    ルキル基を示す) で表わされるチタンアルコキシドとから誘導された数平
    均分子量700〜100,000のポリチタノカルボシ
    ランであって、該ポリチタノカルボシランのケイ素原子
    の少なくとも1部が酸素原子を介してチタン原子と結合
    しており、そして該ポリチタノカルボシランにおける(
    −8i CH2+の構造単位の全数対(Ti −09
    −の構造単位の全数の比率が2:l乃至200:1の範
    囲内にあるポリチタノカルボシランを、酸化物、炭化物
    、窒化物、硼化物、珪化物のうちから選ばれる少なくと
    も1種からなるセラミックスに混和し、得られた混和物
    を真空中、不活性ガス、還元性ガス、炭化水素ガスのう
    ちから選ばれる少なくとも1種からなる雰囲気中で、8
    00℃以下で予備加熱し、ついで予備力U熱した混和物
    を成形し、この形成と同時に又は成形した後に、真空中
    、不活性ガス、還元性ガス、炭化水素ガスのうちから選
    ばれる少なくとも1種からなる雰囲気中で、800〜2
    300°Cの温度範囲内で加熱焼結することを特徴とす
    る、セラミックス焼結成形体の製造法。 3 主として一般式 (但し、式中のRは水素原子、低級アルキル基、又はフ
    ェニル基を示す) で表わされる主鎖骨格を有する数平均分子量が200〜
    10,000のポリカルボシランと、一般式 %式%) (但し、式中のR′は炭素原子数1〜20個を有するア
    ルキル基を示す) で表わされるチタンアルコキシドとから誘導された数平
    均分子量700−100,000のポリチタノカルボシ
    ランであって、該ポリチタノカルボシランのケイ素原子
    の少なくとも1部が酸素原子を介してチタン原子と結合
    しており、そして該ポリチタノカルボシランにおける(
    −S i −CH2+の構造単位の全数対(Ti−0+
    の構造単位の全数の比率が2=1乃至200:1の範囲
    内にあるポリチタノカルボシランを、酸化物、炭化物、
    窒化物、硼化物、珪化物のうちから選ばれる少なくとも
    1種からなるセラミックスに混和し、得られた混和物を
    真空中、不活性ガス、還元性ガス、炭化水素ガスのうち
    から選ばれる少なくとも1種からなる雰囲気中で、80
    0°C以下で予備加熱し、予備加熱した混和物に上記の
    ポリチタノカルボシランを更に添加混和し、こうして得
    られた混和物を成形し、この成形と同時に又は成形した
    後に、真空中、不活性ガス、還元性ガス、炭化水素ガス
    のうちから選ばれる少なくとも1種からなる雰囲気中で
    、800〜2300℃の温度範囲内で加熱焼結すること
    を特徴とする、セラミックス焼結成形体の製造法。 4 主として一般式 (但し、式中のRは水素原子、低級アルキル基、又はフ
    ェニル基を示す) で表わされる主鎖骨格を有する数平均分子量が200〜
    io、oooのポリカルボシランと、一般式 %式%) (但し、式中のR′は炭素原子数1〜20個を有するア
    ルキル基を示す) で表わされるチタンアルコキシドとから誘導された数平
    均分子量700〜ioo、oooのポリチタノカルボシ
    ランであって、該ポリチタノカルボシランのケイ素原子
    の少なくとも1部が酸素原子を介してチタン原子と結合
    しており、そして該ポリチタノカルボシランにおける(
    St CH2+の構造単位の全数対(Ti−0+の構
    造単位の全数の比率が2:1乃至200:1の範囲内に
    あるポリチタノカルボシランを、酸化物、炭化物、窒化
    物、硼化物、珪化物のうちから選ばれる少なくさも1種
    からなるセラミックスに混和し、得られた混和物を成形
    し、この成形と同時に又は成形した後に、真空中、不活
    性ガス、還元性ガス、炭化水素ガスのうちから選ばれる
    少なくとも1種からなる雰囲気中で、800〜2300
    ℃の温度範囲内で加熱焼結し、ついで焼結を完了したセ
    ラミックス成形体に液状のポリチタノカルボシランを含
    浸させた後、真空中、不活性ガス、還元性ガス、炭化水
    素ガスのうちから選ばれる少なくとも1種からなる雰囲
    気中で、800〜2300℃の温度範囲内で加熱焼結す
    る一連の処理を少なくとも1回施すことを特徴とする、
    セラミックス焼結成形体の製造法。
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