JPS5937183A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、機械−化学的水洗装置と超音波洗浄装置を組
み合わせた、洗浄装置と洗浄方法の改良に係る。特に、
本発明は、機械−化学的水洗装置と超音波洗浄装置との
組み合わせにょシ、容器又は物品の表面の汚れを自動的
に洗浄する方法と装置に係る。

我々の環境の汚染とその影ＩＲＫより、国家的な対策が
ますます必要になってきている、、この問題に対処する
ために、幾つかの州では、使い捨てプラスチック、ガラ
ス、及び金屑の炭酸７Ｊ、容１ンの使用を禁止する法律
を制定している，、最近の調査では、この法律により高
速道路や公共施設のごみの量が減ってきたことが判明し
ている。しかしながら、こうした法律も、再利用可能な
容器の保管と返却の点で予期しなかった問題にぶつかっ
ている。

飲料水業界でｔよ、ガラス、プラスチック、或は金属の
容器を績み込むのにプラスチックの入れ物を使用するの
が一般的な慣例になっている。こうしたプラスチックの
入れ物には、涛通、複数の強化フランジやリプが形成さ
れている。これらの７ランジやリブには多数の溝があり
、この中にごみが留ってしまう。幾つかの例では、プラ
スチックの入れ物は、取り外し可能な補助蓋の付いた複
合構造をしている。衛生及び美観のために、こうした入
れ物は、容器詰めプラン｝Ｋ戻される機会に洗浄するの
が好ましい。

酸性又はアルカリ性溶液に漬け、化学溶液で表面の汚染
物質を破壊して物品の洗浄を行なう技術は周知になって
いる。この方法は経済的で、必要とする装置は単純であ
る。しかしながら、処理する時間が長くかかり、物品に
付いた溝や孔が常に洗浄されるとは限らない。

物品を液体浴槽に入れ、浴槽を通じて物品に超音波を伝
え、当該物品を洗浄することも周知となっている。圧電
子トランスデユーサを、通常音より実質的に高い周波数
で高周波発生器により発振させる。トランスデユーサの
一方の表面は洗浄流体に接しておシ、交互に密の波と疎
の波を励振した周波数で浴槽に伝えている。又、こうし
た波は、洗浄する物体の表面にキャビテーションを生み
出し、表面の汚染物質を取り除くおだやかなこすり作用
を起こしている。キャビテーションにより、洗浄流体内
に微細な核があったり空気が解は込んでいるような不完
全な条件の下であっても、洗浄流体の内部に気泡が形成
される。こうした気泡は、エネルギ波の疎即ち張った部
分で膨張し、密な部分で収縮している。膨張後のサイズ
が最初のサイズの臨界比を越えると、気泡は破裂してつ
ぶれ、洗浄する材料の表面にこすり作用が生まれる。適
当な洗浄流体又は洗剤内での超音波洗浄を起なうことに
より、不規則な形状の表面と溝を持つ物品を速やかに洗
浄することができる。他の洗浄方法でも取るのが困難で
あったり或はどうしても取れない、表面の特定のタイプ
の汚染物質も、超音波クリーナで簡単に取れることがあ
る。しかしながら、成る例では、所定時間内で物品表面
を洗浄するのに必要とする超音波装置？ｉの規模が大き
ずぎて高額になっている。又、物品の汚れている範囲が
一定していない。成る場合には、多−ら（の汚れとほこ
りが溝の中にたまってしまっており、今寸でに知られて
いる従来技術の超音波洗浄装置１ｔでこうした物品を洗
浄するのに非常な困難のあることが判明している。

従って、超音波洗浄装置を化学洗浄装置に組み合わせ、
化学洗浄装置の速度と効率を改善し、超音波洗浄のコス
トを下げることが提案されてきた。

しかしながら、これら２つの方法を組み合わせることで
新たな問題が生じている。公知の従来技術の構成が遭遇
した問題の１つに、化学洗浄室が、トランスデユーサに
より発生した超音波エネルギーを減衰する好ましくない
効果を持つでいることである。この減衰のため、必要な
洗浄効果を得るのに非常にたくさんのトランスデユーサ
入力パワーがいる。トランスデユーサ入力パワーを大き
くすれば、トランスデユーサ表面のキャビチー・ジョン
も増加するが、トランスデユーサの寿命が短かくなって
しまう。これら２つの洗浄システムを糾み合わせて遭遇
するその他の問題に、公知の従来技術構成のいずれもが
、物品を水洗室で洗浄した後、超音波洗浄浴槽を迂回す
るだめの機構を備えていないことがある。化学洗浄装置
と超？１波装置を組み合わせた従来技術の１つの構成が
、クラップ氏（ｃｌａｐｐ）の米国特許第４，１７０，
２４１号に開示されている。この構成では、まず、物品
を超音波水洗器に通して当該物品の汚れをはぐしている
。

次に、物品を２つのすすぎ場所に通し、ゆるんだ汚れを
物品から機械的に除去している。しかしながら、この装
置は、貯まったすべての汚染物ノ疏を一度に除去するよ
うに構成したものでなく、物品を繰り返して装置に通し
汚れ物庖洗浄する構成になっている。こうした従来装置
の他の例が、ソ連特許第２８２，８７７号に示されてい
る。この装置は、機械部品を洗浄する特殊装置に係る。

この装置は、超音波浴槽から機械部品を取り出す構成に
され、浴槽表面から同時に油質残渣を捕集するようにな
っていない。

本発明では、高圧流体スプレィ装置と浸水室とを組み合
わせている。従って、汚れ物は、まず洗浄室を通される
。この場所で、物品の全体が、洗剤流体の高圧スプレィ
ジェットの強力な機械−化学的にこす９作用に晒される
。このこすり作用が汚れの部分を取り去る。次に、物品
は浸水室を通される。この室で、こびり付いた７′りれ
は、好ましい実施例での超音波のゆるやかなこすり作用
、或は変更例に於ける流体乱流装置の洗剤流体の攪拌に
よって除去−される。最後に、物品を、゛すすぎ室内で
すすぎ流体の高圧スプレィジェットを通し、残っている
汚れを物品から取り去る。汚れの部分が洗浄室で取シ去
られるため、好ましい実施例では、所望の洗浄作用に必
要なトランスデユーサ入力パワーのエネルギを少なくで
きる。、又、物品を洗浄室に通して汚れのすべてをゆる
める腕台には、浸水室は迂回され、すすぎ室内の高圧す
すぎスプレィによシ、ゆるんでいる汚れを物品から除去
する。

本発明は、ハウジングを持つ装置にＩ！ｌＩ！ｉ−徴が
ある。

洗浄室がハウジングの投入端に取り付けられている。又
、洗浄室は、物品に洗浄流体をスプレィする第１のスプ
レィトンネルを内部に備えている。

すすぎ室がハウジングの排出端に取シ付けられている。

すすぎ室は、物品にすすぎ流体をスプレィする第２のス
プレィトンネルを内部に備えている。

浸水室が、洗浄室とすすぎ室との間で、／・ウジフグ内
に取り付けられている。洗浄室とすすぎ室を通して物品
を連続的に移動する手段が設けられてている。洗Ｉ’ｉ
＊室、浸水室及びずすき室を通して、物品を連続的に案
内するだめに、案内棒が案内室内に取り伺けられている
。又、物品全洗浄室とすすぎ室を通して連ヒ【５的に案
内し、浸水室を迂回するために、バイパス案内枠が取り
付けられている。

又、各々の室の城壁は、尚該城壁の各々に使用に際して
溜った汚物を洗い流す水洗装置を備えている１、浸水装
置６は、好ましい実施１＋ｌＪでは超音波トランスデユ
ーサを倫え、変更例では流体乱流装置６を備えている。

従って、本発明の主要な目的は、物品の汚れている箇所
を高圧スゲレイジェットの強力な機械−化学的な流体の
こすり作用によって取り去る、汚れ物の汚れを機脈的、
化学的そし、て超音波的に除去する装ｊＮを提供するこ
とにある１、汚れの残りの部分は、超音波室で取り去ら
れる。残っている汚れの部分と化学的な流体残渣は、高
圧スノルイジエットの強力で機械的なすずきｆＩＮ、体
こすり作用によって物品から取り除かれ、汚れ物を＠置
を通じ１つの通路内で洗浄する。

本発明の他の目的は、高圧流体洗濯用の洗浄すすぎ装置
を超音波洗浄装置と組み合わせた装置を提供することに
ある。又、装置は、直接に洗浄室からすすぎ室に至るバ
イパス通路を備えている。

従って、汚れの少ない物品は直接に洗浄室からすすぎ室
に搬送され、物品が超音波洗浄室の洗浄流体を通り抜け
ることがない。

本発明の別の目的は、高圧流体洗濯用の洗浄すすぎ装置
と超音波洗浄装置を組み合わせてなり、洗浄室内にコン
ベアが取り付けられている、装置を提供することにある
。コンベアは、洗浄室を通じて汚れ物を移動し、長手方
向に間隔をあけた関係に汚れ物を保つのに適している。

従って、汚れ物のすべての表面が、洗浄流体の高圧スジ
レイジェットの機械−化学的こすｐ作用に晒される。洗
浄室内の高圧スプレィジェットのこすシ作用により、洗
浄する物体から汚れの部分を取り去る化学流体作用が強
化される。

本発明の更に他の目的は、高圧流体洗濯用の装置と超音
波洗浄装置を組み合わせた装置を提供することＫある。

トランスデユーサが飛直に向けられ、超音波洗浄室内の
洗浄流体下で、長手方向に間隔をおいて配置されている
。従って、トランスデユーサは、超音波洗浄室の洗浄流
体にほぼ均一なキャビテーション領域を形成するように
配置されている。。

本発明の更に他の目的は、超音波と機械的−化学的洗浄
工程を組み合わせ、汚れ物を洗浄するのに必要な超音波
装置の規模を最小にした、物品の洗浄方法を提供するこ
とにある３、又、この方法は、必要とあらば、超音波洗
浄工程をバイパスすることもできる１、又、本方法は、
物品を洗浄するのに、洗浄室とすすぎ室内に高圧流体ス
プレィジェットを使用している。

本発明の更に他の目的は、汚れ物から機械的且つ化学的
に汚れを除去する装置阿を提供することにある。汚れの
部分は、高圧スプレィジェットからの強力な機械的−化
学的な流体のこすり作用によって取り去られる。汚れの
ほかの部分は、攪拌し加熱した化学流体に物品を漬けて
取り去られる。

残った汚れと化学流体残渣は、高圧スプレィジェットか
らの強力な機械的なすすぎ流体こすり作用によって物体
から構成される装置をｌ　ｌｊ’ｌ　；ｉｈすうちに汚
れ物を洗浄してしまう。父、本装置は、直接に洗浄室か
らすすぎ室に至るバイパス通路を備えている１、従って
、汚れの少ない物品を直接に洗浄室からすすぎ室に搬送
することができ、物品が浸水浴槽に漬かることはない。

本発明の更に他の目的は、汚れ物から機械的且つ化学的
に汚れを除去する、洗浄室、浸水室、及びすすぎ室にコ
ンベアの取り付けられた装置ｐを提供することにある３
、コンベアは、汚れ物を長手方向に間隔をあけた関係で
機械を通して移動するのに適している。従って、汚れ物
のすべての外面が、洗浄室内で高圧流体スプレィジェッ
トの機械的−化学的こす９作用に晒され、浸水浴槽内で
攪拌加熱化学作用に晒され、そしてすすぎ室内で高圧流
体スプレィジェットの機械的こすり作用に晒される。又
、本装置は、直接に洗浄室からすすぎ室に至るバイパス
通路を備えている。従って、汚れの少ない物品は、直接
に洗浄室からすすぎ室内に搬送され、浸水浴槽内に物品
が漬けられることはない。

本発明の更に他の目的は、高圧スプレィジェットを使用
した工程での機械的−化学的洗ｒチ作業と、加熱攪拌流
体の入った浸水浴槽とを組み合わせた物品の洗浄方法を
提供することにある。

又、この方法は、浸水洗浄工程を迂１回することが許さ
れている。又、本方法は、物品を洗浄するために、洗浄
室とすすぎ室内で高圧流体スプレィジェットを使用して
いる。

本発明の更に他の目的は、洗浄しない物品を洗浄室とす
すぎ室を通して搬送し、汚れ物を洗浄したり浸漬しない
、装置を提供することにある。

以下、添付の図面に沿って、本発明の幾つかの実施例に
ついて詳細に説明する。

参照番号１００は、炭酸水ボトル或は仁れに類似した汚
れた物品用のプラスチックの入れ物等の汚れ物を洗浄す
る装置の全体を示している。洛業者には、この洗浄装置
が、乳製品、肉、ビール、飲料水、ワインｐ菓子、パン
、或はその他の食品産業に使用する、プラスチックの入
れ物等の汚れ物にも利用できるとと杖自明である。本発
明は、家禽類のタマゴ、ブ、９メチツク部材、ｔ＃械部
品、その他の同じように汚れた品物を洗浄するのにも利
用できる。

第１図と第２図に示すように、装部１００の基本構成要
素はハウジング１０である。このハウジング内に、洗浄
室又は事前洗浄室２０．浸水洗浄室４０、及びすすぎ室
８０が連続して配置されている。従って、洗浄される汚
れ物は、まず洗浄室２０を通過する。洗浄室２０内で、
汚れ物は、後述する複数の高圧スプレィノズルからでる
洗浄流体の機械的なみがき作用忙さらされ石。汚れ物に
スプレィされた洗浄流体は、洗浄室２０の底に’ｆＰｒ
下する。

この洗浄流体は、洗浄室２０の底からタンク４内に流れ
込む。タンク４ｔよ、同形物！、超、及び同種の残渣を
捕捉するＪＩＶシ外し町Ｒ１，な汚物捕捉バスケットを
備えている。又、タンク４Ｉｉ、洗浄し念物品から洗い
出された小さい浮遊粒子を捕捉する。

取り外しｈ」能な網目フィルタを幾つか備えている。

同様に、物品は、浸水室４０′ｆ、辿り抜けた後、彼達
する方法で、すすぎ室８０のすすぎスプレィトンネルを
通過させられる。すすぎ流体は、すすぎ室８０の底に落
下する。すすぎ室８０から、すすぎ流体はタンク６内に
流れ込む。タンク６も、同じく、取り外し可能な汚物捕
捉バスケットと、流体から浮遊残渣を除く取シ外し可能
な伜つかの網目フィルタとを備えている。浸水室又は浴
槽４０け、所定のレベルまで、化学的流体即ち洗浄流体
、好ましくは泡のたたない洗剤で満たされている。

洗浄流体即ち洗剤流体のタイプと濃度は、取シ除く汚れ
の状態と、８役な洗浄の程度に応じて決められる。こう
した洗剤製品は、よく知られており、又市販されている
。

第３図と４図に示すように、ハウジング又は浴ＷＪ１０
の投入端２け壁１２を備えている。投入通路１４が壁１
２内に形成され、この通路を経て、汚れ物は事前タンク
又は洗浄室２０内に入る。壁２２が、洗浄室２０を浸水
室４０から分割している。通路２４が壁２２内に形成さ
れ、仁の通路を通じて、洗浄室２０から浸水室４０内へ
物品は移動できる。同じく、壁１０け、浸水ｔ４０をす
すぎ室又はすすぎタンク８０から分割していｌ）。通路
Ｔ２が壁７０内忙形成されておシ、浸水室４０からすす
ぎ室８０へと物品は移動できる。・・ウジング１０の出
口端８は壁１３を備えている。出口通路１５が壁１３内
に形成されておシ、この通路を通じて、物品はすすぎ室
８０よシ出てくる。

物品から落ちたり取ル除かれたほぐ！した汚物又は残渣
を簡単に集めるために、壁２２の底部分２１を浸水室４
０の中央に向けて角度を付けて傾斜させている。同様に
、壁ＴＯの底部分子１も、浸水室４０の中央に向けて角
度を付けて傾斜されている。従って、物品から落ちた残
渣は、浸水室４゜の底表面５０に集められる。底表ｒｆ
ｉ５υも、当紋底表面の一方の端５４から他方の端５６
に向けて下向きに角度を付けて傾斜されている。水洗導
管５８が、底表面５０の上端即ち一方の端５４に近接し
て配置されている。Ｈト出通路６０が、底表面５０の下
端即ち他力の端５６に泊炊して配置されている。水洗導
管５８に配置したＭ数の水洗通路５９は、流体の流れが
宰４０の底表面５０を横切って排出通路６０に向かうよ
うに設置されている。

従って、浸水室４０の底表面５０に落下したすべての残
渣は室４０から外に洗い出され、浸水室から構成要素を
取シ出す８吸がない。

洗浄室２０とすすき室８１１よシ落下残渣や汚物を取シ
除くために、洗浄室２０とすすぎ宰８０の底表面３０．
９０は、それぞれ、当該底表面の一方の端３４，８４か
ら他方の端３６．８６に向けて下向きに角度を付けて傾
斜されている＠又、水洗導管３８．８８も、それぞれ、
底表面３０．９０の高くなっ走端３４，８４に近接して
配信されている。排出通路１７．７６は、それぞれ、底
表面３０．９０の低くなった端３６，８６１Ｃ近接して
配置されている。水洗導ｔ３８，８８＃−１′、それぞ
れ、複数の水洗通路１８．７８を備えている。当該通路
は、流体の流れが底表面３０．９０を横切って、それぞ
れ、連係した排出通路１　Ｂ　、　’７６に向かうよう
に設置されている。従って、物品から洗浄室又はすすぎ
室の底表面ｔｃｉ％下したすべての残渣は、洗浄室２０
又はすすぎ室８ｏから洗い出され、いずれの構成要素も
洗浄室又はすすぎ室から取シ出す必要がない。

洗浄室２０は構造体２６を備え、第３図と５図に示した
第１のスプレィ組立体又はトンネル２１を支持している
。第１のスプレィ組立体２１＃ｉ、１対の管状端フレー
ム部材２８を備えている。当該フレーム部材は、複数の
流体通路２９を持つ開口した矩形体を形作シ、これらの
流体通路は、管状部材。間、長□方。、取■けら１５、
い、。鯖かのスプレィ組立体２１け、高圧ポンプ５から
供給を受ける。当該ポンプはタンク４から洗剤の供給を
受ける。ポンプ５は、７０〜８０　ｐｓｌｇの範囲の圧
力で洗浄流体をスゲレイ組立体２１に供給する。好まし
い供給圧力は７５　ｐｓｉｇである。複数のスプレィノ
ズル３１が流体通路２９に取り付けられ、その結果、複
数の洗剤又は化学渡体が支持構造体２６内に向けられる
。ノズル３１から出る高圧スプレィジェットは、汚れ物
を機械的にこする高速度の流れを形成し、物品から汚れ
の部分がはがれ取り除かれる。

洗浄室２０内にコンベア組立体３９を取り付けている。

コンベア組立体は、洗浄室２０を水平Ｋａり抜けている
。コンベア３９は、作業者又は他のコンベア（図示せず
）が信〈汚れ物を受り取る。

コンベア組立体３９は、更に複数のつめ３Ｔを備えてい
る。これらのつめは、コンベアベルト３５に堆り付けら
れ、洗浄する汚れ物に直接に係合する。物品は、第５図
に示すように洗浄室を通過する際、つめ３７ＦＣよりコ
ンベアベルトに沿って間隔をあけられ、当該物品は互い
に長手方向に離されている。コンベ゛Ｔ上の汚れ物を長
手方向に間隔をあけることで、洗浄室２０内の洗剤流体
の高圧スゲレイジェットを、各物品の＃端と後端に当て
ることができる。又、物品に間隔をとることで、各物品
が洗浄室２０を通過する際、物品の全面をスゲレイ流体
に晒すことができる。従って、スプレィ流体のとすシ作
用と洗剤流体の化学作用とが紹み合わさって、汚れ物か
ら汚れの部分をはぎ取る。

叙上した洗浄室内のもの忙似た支持ｍ透体がすすぎ家内
に設けられ、すすぎスプレィ組立体を支持している。第
４図に示すように、すすぎ室８０は、第２のスプレィト
ンネル又は組立体９４を支持する、支持構造体９２を内
蔵している。第１３図に示すように、スプレィ組立体９
４ｔ、１．１対の管状端フレーム部材９６を有している
。このフレーム部材は、複数の流体通路９８を持つ開口
矩形体を形成するように設置され、当該流体通路は管状
部材の間に長手方向に取力付けられでいる。第２のスプ
レィ組立体９４は高圧ポンプＴから供給を受ける。この
ポンプけ、タンク６から洗浄水を受は取る。複数のスプ
レィノズル９９が流体通路９８に敗り付けられ、複数の
すすぎ流体の高圧スズレイジェットを第２のスプレィト
ンネル９４内に向けている。当業者には、タンク６内の
すすぎ水が、タンク４の洗剤溶液と浸水浴槽４０内の洗
剤溶液から分けられていることが理解できるはずである
。物品から残シの汚れと残留洗剤を取シ除くために、第
２のスプレィ紹立体９４から、すすぎ室内の物品にポン
プ７から７０〜８０ｐｓｉｇの圧力ですすぎ流体をスプ
レィする。好ましい圧力は７５　ｐｓｌｇである。従っ
て、高圧すすぎ流体のスプレィジェットが高速度の流れ
を形成し、この流れが物品に残っている汚れを機械的に
こすり、物品に付いている残留洗剤溶液を洗い流す。

物品がすすぎ室８０を通り過ぎた後、ファン８２からの
乾燥空気によシ、物品から液体の除去を行なうことがで
きる。ファンは、第１図と２図に示すように、随意に加
熱した空気を物品に吹きかける。又、各々の室、即ち、
洗浄室２０、浸水室４０、及びすすぎ室８０、それぞれ
の室内の流体は、従来から汎用されている加熱部側、例
えば、電気ヒータ、ガス燃焼ヒータ、或は外側から取シ
付ける内部スチーム浸漬ヒータによシ加熱することがで
きる。各々の室２０，４０．８０の外側表面を断熱して
、各室からの熱ロスを少なくすることもできる。又、断
熱により、各々の室内の流体を所望の温度レベルに維持
するのに要するエネルギコストを最小にできる。

第３図、４図及び１１図に示すように、１対のトランス
デユーサ支持レール４１．４３が、従来手段によシ垂直
に取シ付けられている。又、このレールは、浸水洗浄浴
槽を満たす洗浄流体又は化学流体のレベル以下の特定の
レベルにて、浸水室４０の両側を長手方向に延びている
。浸漬可能な複数のトランスデユーサ４５が神４８に取
シ付けられている。長手方向に延びる支持レール４１゜
４３は、それぞれ、長手方向に延びるストロット４７．
４６を備え、棒４８に配置した適当な従来からの掛止構
造に係合する。浸漬可能なトランスデユーサ４５には、
ブランソン・クリーニング−イクイップメント・カンパ
ニ（Ｂｒａｎｓｏｎ　ＯｌｅａｎＩｎｇ　Ｍｑｕｌｐｍ
ｅｎｔ　Ｃｌｏｍｐａｎｙ　）の製造した型式ナンバ３
１８−６のような、２５ＫＨ，タイプの浸漬可能なトラ
ンスデユーサが使用できる。こ九ら浸漬可能なトランス
デユーサは、５度の幅で読み取シができる。又、トラン
スデユーサは、室４０の長さにわたって互い違いに間隔
をあけて浸水室４０の両側に垂直に設置するのが好まし
い。このトランスデユーサの配置によって、浸水室４０
の長さにわたり洗浄流体内にほぼ平均してキャビテーシ
ョン領域が形成される。洗浄する物品表面からすべての
汚れを落す六めに、洗浄する物品は浸水浴槽の洗剤溶液
に完全に漬けられる。この作業を行なうために、フラス
チツク容器のような水より備付密度の小さい汚れ物には
、機械式の案内システムが使用さＪｔ　、洗浄する物品
が浸水浴槽を通過する間、洗剤流体の表面よシ完全に下
方圧、即ち。

流体内に確実に沈められる。洗浄する物品は、第１の案
内路１１０又は第２の案内路１６０に沿って装置１００
を通シ抜けることができる。Ｍｌの案内通路１１０は、
洗浄室２０を通り、浸水室４０を通シ、そしてすすぎ室
８０を連続して通シ抜けている。

第２の案内通路１６０は、洗浄室２０から直接にすすき
室８０内へ表延び、結果的にバイパスして、汚れが少な
い物品は浸水浴槽４ｏの洗浄流体に漬からない。

第３図、４図、及び６図〜１１図に示した第１の案内通
路１１０を詳しく説明する。第１の案内道通１１０は、
２つの下部案内レール１０２，１１２を備えている。下
部案内レール１０２は、更に５つの部分１０４，１０５
，１０６．１０”ｒ、及び１６８から構成き！している
。同じく、下部案内レール１１２（図示せず）は、更に
５つの部分１１４，１１５，１１６，１１７．及び１１
８から構成されている。２１の下部案内レール１０２，
１１２は、互いに間隔をあけて離した関係に設置され、
又、案内通路１１００両側に近接している。レール１０
２，１１２は、浸水室４０に１ｌｌｔＰ抜したコンベア
３９の端から、浸水室４０を通り、すすぎ室８０を通っ
て連続して延びているり下部案内レール１０２．Ｎ２は
、まず、洗浄室２υ内の部分１０４．１１４が水平に延
びている。次に、下部案内レール１０２，１１２は、浸
水室４００Å口に接した部分１０５，１１５が室４０の
底５０に向けて角度を伺けられ下向きに延びでいる。従
って、部分１０５゜１１５は、物品を室４０内の洗浄流
体のレベルより低く下向きに送り込む。浸水＄４０の底
にＭ接して、下部案内レール１０２．１１２１ｄ、、部
分１０６，１１６が水平になり、部分１０７，１１１で
は、壁７００通路１２に向けて角度を伺けられて土向き
に延びている。最後に、１部案内レール１０２，１１２
は、部分１０８，１１８が通路７２に近接した位置から
すすき室８０を通ｐ端８に向けて水平に延びているＯ又
、第１の案内通路１１０は２つの側部支持レー／し１２
０．１３０を備え−Ｃいる。こｉｔらのレールは、互い
に相対し、１部案内レール１０２，１１２の上方に在っ
て、しかも案内通路１１０の両側に設置されている。側
部支持レール１２０，１３０は、そｆｌ、それ、部分１
２１，１２３，１２５，１２７及び１２９と１３１，１
３３゜１３５　？　１３７１及び１３９をイｐえている
。側部支持レール１２０，１３０のこれらの部分は、洗
浄室を通り、浸水室を抜け、子してすすき室を辿って延
びている。下部案内レール１０２，１１２と同じようで
あるが、部分１２１，１３１では洗浄室２０の全部ｆ通
り抜は投入端２から通路２２まで水平に延ひている。

又、第１の案内通路は１対の頂部案内レール１４０゜１
５０を備えている。これらのレールは、互いに相対し、
側部支持レール１２０，１３０の上方に在って、しかも
案内通路１１０の両側に設置されている。頂部レール１
４０，１５０は、それぞれ、部分１４３，１４５゜１４
７、と１ｓ３．１ｓｓ、１ｓｙを備えている。頂部レー
ルのこれらの部分は、通路２２に接した位置から浸水室
を通って延び、又側部支持レール１２０．１３０と同じ
ように通路γ２に＠接して延びでいる。しかしながら、
頂部レール１４０，１５０は、洗浄室又はすすぎ室内に
は入シ込んでいない。ｙ１第１の案内通路は、単一の頂
部レール１５１を備えでいるうこの頂部レールは、投入
通路１２から洗浄室２０を通り、浸水室４０を抜け、す
すぎ室を通り、・・クランプ１０の排出端８を通シ越え
て水平に延びている。

複数の支持歯１８０が浸水室４０の底表面５０上に配置
され、下部案内レール部分１０６，１１６を第８図に示
すように支持している。又、各案内レールは、図面の卯
１２図に図示した如く、箇々の室に取シ外し可能に支持
されている。又、第１２図に示すように、案内レールは
外方に突出する複数の突起１８２を備えている。当該突
起は複数のスロット１９０内に着装されるように構成さ
れておシ、当該スロットは、第１２図に示すように、例
えば通路８４に近接した隔壁２２に取シ付けている複数
のフリケラト１８４に形成されている。複数のクランプ
ねじ１８６が壁２２のねじ孔１８８にねじ込まれている
。当該ねじは、突起１８２を堆り外し可能に締め刊ける
働きをしている。案内レール１２０゜１３０．１４０，
１５０及び１５１は、突起１８２の６ン僅を調節すると
と如より、互いに向かって、或は、互いに離れる動きを
することができる。

物品を直接に洗浄室２０からすすき゛室８０に搬送する
には、物品を第２の案内通路１６０　に沿って移動させ
る。案内通路１６０は、水イな２つの側部レール１２８
，１３８と、水平な２つの下部案内１／−ル１０９，１
１９を備えでいる。この方式では、側部レール１２８，
１３８を第８図に図示した収納位置から取シ出し、第９
図に図示した操作位置に固定する。同様に、頂部案内レ
ール１４３，１５３は収納位置にしまう。更に、下部案
内レール１０９，１１９を、第８図の収納位置から第９
図に示す位置を経て直線姿勢まで移動する。案内通路１
１０内の頂部案内レール１５１は、案内通路１６０の頂
部案内レールとして機能する。このように、案内レール
１５１は、下部案内レール１０９，１１９と連係して使
用される。

案内通路１６０の側部案内レール１２８，１３８は、案
内通路１１０の側部案内レール１２３，１３３の代わシ
をする。従って、レール１２８．１３８は、洗浄室から
すすぎ室へと直接に延びる案内通路１６００両側に水平
に配置されている。このように、ζうした取シ替え可能
な案内レールを使用することで、洗浄する物品の移動通
路を案内通路１１０から案内通路１６０に変更し、浸水
浴槽内の洗浄流体をバイパスすることができる。

操作に際しては、作業者が洗浄する予定の汚れ物の一群
を予じめ調べ、浸水洗浄が必要か否かを決める仁とがで
きる。この決定は、洗浄“ノーる物品の外観、又は物品
の汚れの程度によシ行なえる。

物品の程類と物品の汚れの程度が、洗浄室とすすぎ室を
通すだけで適切に洗浄できる場合では、第２の案内通路
１６０に必要な案内レールを７・ウジング内の操作位置
に置く。従って、物品は第２の案内通路に沿って駆動さ
れ！・ウジングを通シ抜ける。

斜上したように、コンベア３９は汚れ物を互いに間隔を
あける働きをする。その結果、ポンプ５から高圧の洗剤
流体の供給を受ける第１のスプレィ組立体２Ｔは、各物
品ごとに先端と尾端のある洗浄室内の物品の全表面に洗
剤流体を供給することができる。更に、コンベアベルト
上で汚れ物に間隔をとることで、汚れ物のすべての露出
部分を高圧スプレィノズルの作用に晒すことができる。

従って、物品の表面に衝突する高圧スプレィジェットの
とすシ作用は、化学流体の作用と組み合わさって、物品
から汚れの部分をはぎ取る働きをする。

洗浄室２０から出た後、物品状コンベアベルトによシ第
２の案内通路１６０に沿って押し出される。

従って、部品はｌ＃につながった関係に移動し、浸水室
４０の洗浄流体に漬かることかたい。同様に、物品性、
端と端をくっつけた関係ですすぎ声を通シ押し出される
。

又、物品を浸水室４０で洗浄する８碧がある場合には、
案内通路１１Ｇ用の追補な案内レールを作動位置に設置
１７、物品を浸水室４０の洗浄流体内に送る。従って、
物品は、縦につながった関係で、コンベアベルトによシ
第１の案内通路１１０に沿って浸水室４０を通シ押し出
され、る。

洗浄室２０内にスプレィされる洗浄流体と、浸水室４０
を通過する間に、物品の漬けられる浴槽内にスプレィさ
れる洗浄液体とに、追補な洗剤又は化学流体を混ぜるこ
ともできる。たいていの場合、洗浄室２０と浸水浴槽４
０内の洗剤流体は昇温しておくのが好ましい。これで、
洗浄する物体から汚れを取シ去る洗剤の化学作用が増す
。最適の温度水準は、使用者の選んだ箇々の洗剤によっ
て決まる・ 斜上した如く、物品は洗浄室を通シ抜は浸水室を通シ越
した後、縦につながった関係ですすぎ室を通シ過ぎる。

すすぎ室内で、物品は、７０〜８０ｐｓ１ｇの圧力の高
スプレィ流体ジェットでゆすがれる。従って、すすぎス
プレィトンネルは、物品に残っている汚れを機械的にこ
すって洗い落とし、物品にイリいている残留洗剤を取シ
除く。すすき′トンネルはポンプ７から高圧流体が供給
され、当該ポンプはタンク６からすすぎ液体の供給を受
ける。

好ましい実施例では、すすぎ流体は７５ｐｓｉｇで供給
され、又加熱される。ただし、特定の場合、物品の汚れ
具合が少なければ、水のような冷たいすすぎ流体で充分
である。

浸水浴槽の洗剤溶液内に物品を漬けておく時間は、広範
囲Ｋｌ！Ｍｌ整することができる。例えば、長さが３０
．４８ｃｍ　（１２インチ）の容器では、毎分５０容器
の好ましいライン速度で、浸漬時間は１９秒程度である
。勿論、特に汚れている物品では、更に長い浸漬時間に
される。しかしながら、本発明では、汚れの部分を、洗
浄室内の高圧化学スプレィの強力なとすシ作用で取り除
くため、浸水室４０内のトランスデユーサは、洗浄する
物体の隠れた汚れをまず最初に取るのに使用される。従
って、浸水室内のトランスデユーサに要するエネルギと
、必要な在留時間を、現在知られている従来技術に比べ
て非常に少々くなる。すすぎタンクスゲレイトンネルは
、洗浄呈と浸水浴槽を通っている間にはがれた汚れと、
機械的なこすシ作用でＪｌ−Ｍシきれなかった残った汚
れとを取シ去る。従って、残っている汚れと残留洗剤は
、高圧すすぎスプレィトンネル９４のすすぎ流体の機械
的作用によシ、物品から除去される。すすぎ流体は、す
すぎ室８０の底からタンク６内に流れ込む。タンク６は
、すすぎ水の浮遊汚物を除去する取り外し可能なかす捕
捉バスケットと幾つかの取シ外し可能な網目フィルタと
を備えている。

物品からすすぎ流体を除くため忙、物品を、適宜、ファ
ン８２の送風空気を通すこともできる。

このため、すすぎ室内の案内レール通路は水平に延びて
送風空気を横切っている。その結果、斜上した如く、物
品は縦につながった関係で送風空気を通過する。

浸水室４０に満たす洗浄流体又は化学流体の隼を少なく
するためには、第１４図に示す様に、神４８の浸漬トラ
ンスデユー市４′５を斜めにしてトランスデユーサ支持
レール４１．４３に取シ付けるのが効果的であることが
判明した。この第１の変更例では、トランスデユーサ４
５が垂直面に対して角度が付けられ、トランスデユーサ
角度αが、第１４図に示す様に、浸水浴槽４０内の洗浄
液体の高さによって決められる。ことを除けば当核穿・
更例の構造はグＩましい実施例の場合と同じである。

トランスデユーサ４５は棒４８に取シ付けられ、当該棒
は、浸水室４０の両側に互いに間隔をあけて交差した関
係に斜めに装着され、浸水室４０内に超音波の交差する
区域を形成している。浸水室４０内の洗浄流９体の高さ
は、この第１の変更例では、浸水室４０に物品を完全に
漬けてしまうのに必要な洗浄流体のレベルの範囲内で洗
浄物品の高さに応じて決められる。従って、トランスデ
ユーサ４５を支持する棒４８ｔｉ、適当な従来からの掛
止機構によりトランスデユーサ支持レール４１゜４０．
４３に好適に取シ付けられ、トランスデユーサ角度αを
浸水浴１！１４０の洗浄流体の＾さに応じて変更するこ
とができる。この第１の変更例では、交差して対向し合
い間隔のあｈた複数の対のトランスデユーサが、浸水室
４０に沿って長手方向１１Ｃ間隔をおいて配置されてい
る。このトランスデユーサの構成によシ、浸水室４０の
長さＩてわたって複数の交差した岐音波領域が作り出さ
れる。

従って、洗浄する物体は、浸水室４０内を第１の案内通
路に沿って案内されでいる際、洗浄流体内で幾つもの十
字状超音波キャビテーション帯領域に晒され、洗浄する
物体から隠れた汚れが落ちる口この第１の変換例の操作
は、汚れ物が案内通路に沿って浸水室４０を通シ抜ける
際に、当該汚れ物が洗浄流体の幾つかの十字状超音波キ
ャビテーション帯領域に晒される点を除いて、好ましい
実施例の場合と同じである。

当業者には、前述した装置が、本発明の範囲から逸脱す
ることなく他にも変更できることは自明であろう。これ
を念頭Ｋｆいて、以下に本発明の第２と第３の変更例に
ついて説明する。好ましい実施例と構造的に同じ箇所は
、同一の参照番号を記載する。第２と２ｆ′！３の変更
例では、好ましい実施例の記載箇所から異なる箇所にだ
け新しい参照１１’ｒ号が使われている。

第２の実施例では、前述した好ましい実施例の装置１０
０は　ＫＨ５１５図に示すように、浸水浴槽和からトラ
ンスデユーサ４５をなくする変更を行なえる。洗浄する
物品は、連続して、洗浄室２０と浸水浴槽４０を通シ、
次にすすぎ室８０を通シ抜ける。浸水浴槽４０内の洗剤
流体の化学的洗浄作用を強化するために１洗浄室とすす
ぎ室の第１と第２のスプレィ組立体に似た流体乱流装［
１７０を装備している。第１５図に示すように、流体乱
流装置又は第３のスプレィ組立体１７０は１対の管状フ
レーム部材１７２から構成されている。当該フレーム部
材は、間に長手方向に取り伺けた複数の流体通路１１４
を持つ、矩形ピラミッドの開口錐台を形成するようにｙ
買されている。流体乱流装置１７０は、高圧ポンプ（図
示せず）によシ洗浄流体が供給され、当該ポンプは、浸
水浴槽４ｏヌは最通に紘洗浄室２０のタンク４から洗剤
溶液の供給を受ゆる。複数のスプレィノズル１１６が流
体通路１７４ＫＪ１２Ｊ）付けられ、複数の洗浄流体の
流れを流体乱流装置から浸水浴１１４０の洗浄流体に向
けている。流体乱流装置１７０の洗剤流体は、７０〜８
゜ｐａｌｇの圧力で高圧ポンプから供給される。従って
、流体乱流装置１７０からの洗浄流体が、浸水室４０内
の洗剤流体を攪拌する。流体乱流装置１７０を浸水室４
０内に取ル付けているために、案内通路１１０は流体乱
流装置１７０を水平に通夛抜けている。従って、洗剤流
体は、スプレィノズル１１６から浸水室４０の洗剤流体
にスプレィされ、洗浄する物品が流体乱流装置ＩＴＯを
水平に通シ遍ぎている間に、洗剤流体を攪拌する。この
第２の変更例の残ルの構造は、好ましい実施例の場合と
同じである。第２の変更例の操作は、汚れ物のまわシの
洗剤流体の化学的洗浄作用に加Ａ４て、流体乱流装置１
７０の化学洗浄流体の攪拌にょシ、浸水浴１ｗ４０内で
物品から汚れが取り去られることを除いて、好オしい磐
施例の場合と同じである。位って、洗浄される物品け、
１ず洗浄室２０内でスプレィを受け、次に、第１の案内
通路１１０により洗剤流体の表面下まで斜めに案内され
る。その結果、洗浄する物品ｔ、ｌ浸水浴槽４０に完全
に濱けられる。糾いて、案内通路１１０は物品を流体乱
流装置１７０を辿して水平に通す。当該流体乱流装置の
付値で、洗剤流体をスゲレイノズル１７６からの流体の
流れが攪拌し、洗浄する物体から汚れた部分が更に取り
去られる。このｔ））２の弯更例のその他の操作は、戸
ｒ１１と第２の案内レール通路１１０゜１６０それぞれ
の使用に限定さｉｌない好ましい実施例の場合と同じで
ある。従って、第２の変更例も、比較的に汚れの少ない
物品を簡打：に洗浄室２０からすすぎ津８０に搬送した
い場合、汚れの少ない物品に浸水浴槽４０を素通シさせ
るバイパスを備ズ〜ている。

本発明の第３の誹′更例では、好貫しい実施例或は第１
又は第２の変更例に、第２のコンベア組立体１９２を装
備する変更を行なうこともできる。

第２のコンベア組立体１９２け、第１のスフレイトンネ
ル２７を長手方向に抜け、次に浸水浴槽４゜内に下向き
に下がシ、浸水浴槽に沿った後、当該浴槽から抜け、最
後に、すすぎ室８ｏの第２のスプレィトンネル９４を長
手方向に通ヤ抜けている。

従って、第１５図に示す様に、コンベア＃ｌΔ冒月９２
は洗浄室２０内に取シ付けられ、第１のスプレィトンネ
ル２７内に水平に入シこれを通シ抜けている。コンベア
組立体は、次に、浸水浴［４０の洗浄流体の表面よシ下
に下方向に向けて傾斜して突っ込んでいる。このため、
コンベア組立体１９２に乗った汚れ物は完全に浸漬され
る。コンベア組立体１９２は、従来からの固定手段によ
り浸水室４゜内に取り付けられ、浸水浴槽４０の后；に
沿って水平に延びてｂる。その結果、洗浄する物品は、
好ましい実施例又は第１の変更例のように、トランスデ
ユーサ４５を通シ過ぎるか、或は第２の変更例の如ぐ、
流体乱流装置１γ０を遣択的に海シ過ぎる。いったん、
浸水浴槽４ｏ内のトランスデユーサ或は流体乱流装置を
通シ過ぎて、フンペア１９２は、洗浄液体の表面へと士
向きに傾斜して延び、すずき宰８０内ｔ（λる。コンベ
ア組立体１９２がすずぎ室８０内に取り付けられ、スプ
レィトンネル内に水平に入り当該トンネルを水平に通シ
抜けている。必要に応じ、９気ドライアにコンベアを通
すことができる。このドライアの位置で、ファン８２は
、励滴に加熱した空包を部品に吹き付ける。コンベア組
立体１９２により、好ましい実施例のように、浸水浴槽
４０とずずぎ室８０内で第１の案内通路１１０の下部案
内レール１０２，１１２を使用する必要がなくなる。好
゛ましい実施例でのその他の案内し〜ルは、水よう密度
の小さい物品を浸水室４０の洗剤流体の表面下に保持す
るうえから、この第３の変更例でも使用されている。第
３の変更例ては、叙−ヒした様に、コンベア組立体１９
２で、それぞれ室２０，４０．８０を通して物品を押し
出せるように、するために、複数の押し部材１９４によ
りコンベア組立体１９２に沿って物品に間隔をあけてい
る。押し部材１９４け、部品が洗浄室、浸水室４Ｇ、及
びすすぎ室８０を通過する際、物品を互りに長手方向に
離している。ヌ、押し抽料１９４はコンベアベルト１９
６から垂直に延びているため、物品がコンベアベルトで
斜めに倒れていでも、押し部材１９４は常に物品との押
し接触が保てる。従って、押し部材１９４コンベアベル
ト１９６の水平面から充分な鉛直高さまで突出している
ため、物品力ぶ浸水浴槽４０内に下向きに傾斜して移動
しても、洗浄する物品の押し抽料１９４に接した一方の
端部がコンベアベルト１９６から離れてひつく、りかえ
つても、洗浄する物体との押し接触が保たれる。

当業者には、この第３の変更例のコンベア組立体１９２
建も、射ましい実施例の第２の案内通路１６０の使用で
きることが自明である。従って、第１５図に示すように
、第３の変更例も、物品を浸水浴槽４０に漬けないバイ
パスを備えている。従って、この第３の変更例のバイパ
ス通路１６０によシ、汚れの少ない物品を洗浄室２０か
らすすぎ室８０に直接に搬送することができ、その結果
、汚れの少ない物品を浸水浴槽４０の洗浄流体に漬けず
にバイパスできる。第３の変更例の操作は、洗浄する物
品がコンベア１９２によシ洗浄室２０、浸水室初を通り
、次にすすき室８０を通り、連続して間隔をあけた状態
で移動されることを除いて、好ましい実施例の場合と同
じである。分つて、コンベアベルト１９２に沿い物１品
に長手方向の間隔をとることで、汚れ物の表１ｎｊの全
露出部を、洗浄室の第１のスプレィトンネル２Ｔの洗浄
作用に、浸水浴槽４０の洗剤流体の化学洗浄作用に、又
、すすぎ室８０の第２のスプレィトンネル９４の洗浄作
用に晒すことができる。好ましい実Ｍ＋Ｈ例や第１の変
更例のように、浸水浴槽４０をバイパスしたい場合には
、コンベア上の物品を、尚該物品が洗浄室から出てくる
際、第２の案内ｊ〜１８１ＢＤｊｃ沿い１〜接に案内棒
に沿ってずすぎ宰８０の入口に向けて進める。この付値
で、物品は押し抽料１９４の１つでコンベアベルト１９
６上に押し戻される。第２の案内通路１６０を使用する
場合に屯洗浄する物品は、端と端を接つした関係で第２
の案内通路に沿って押し進められ、浸水浴槽４０の洗浄
流体に漬かることがない。次に、洗浄する物品は、押し
部材１９４が物品の一方の端に肖たって幽該物品を壁１
２付近のコンベア組立体１９２に押し戻されることで、
コンベアベルトに復帰移送される。いったん物品がコン
ベアベルト１９６上に乗ると、物品り長手方向に間隔を
あけた関係ですすぎ晋くを通じて移動される。従って、
汚れ物のすべての表面が１、高圧の第２のスプレィトン
ネル９４からの高圧すすぎ流体の機械的なとすシ作用に
晒さｔする。高圧すすぎ流体スプレ千ジェットは高速の
流れを造り、この流れが物品に残っている汚れを機械的
にと１す、又、物品に付いている残留洗剤溶液をすすぎ
落とす。

他の例として、叙土した好ましい実施例、第１゜第２及
び第３の変更例の装置は、びんＲ１ｌ１めプラントの物
品を移動するのにも使用できる。装置にバイパスレール
システム１６０を使用することにより、又、高圧ヌプレ
イ洗浄室とすすぎ協へＭｒれる流体を止めることによシ
、装置を通る木製容器やボール紙容器の扱いを任意に行
なうことができる。従って、本装置は、プラスチック製
、木製、ボール粗製の容器がよざシ合って使用され、し
かも汚れた容器だけを浸漬して装置内で洗浄する。容器
詰めプラントの材料Ｊｉ！扱装翼装置て使用することも
できる。従って、作業者は、装置がプラスチック容器の
洗浄に使用されている間は、木製又はボール紙の容器を
ためておき、次に、洗浄室とすすぎ室へ流れていく流体
を止め、バイパスレール・°・ステムを設置し、装置を
ボール紙や木製の容器を搬送する利ｆ１取扱装置として
使用することがてきる。

従って、装置のＪ！！！シに、木製やボール＃製の容器
を取シ扱う外部バイパス取扱装置を設備する必要がなく
なるため、容器詰めプラントの床面積を節約できる。

本発明は、好オしい実施例、早１．第２及び第３の実施
例との関係で説明してきたが、本発明をこうした実施例
に限定する意図のないことをご理解いただきたい。他方
、添付の特許請求の範囲に限定した本発明の精神と範囲
に含まれる、すべての変更例、改良例、及び類似例を保
護するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、洗浄装置の平面図： 第２図は、洗浄装置の側面図； 第３図は、洗浄と、洗浄室の超音波洗浄室の第１の部分
との一部断面側面図； 第４図は、超音波洗浄室とすすぎ室との接続を示した一
部断面側面図； 第５図は、洗浄室内に取シ付けた、スプレィトンネルと
供給コンベアの斜視側面図； 第６図は、輿３図の６−６紳に沿ってとった、洗浄室へ
の入口を示す、洗浄室の端面図；第７図は、第３図の７
−７線に沿つでとった、超音波洗浄室の入口を示す、断
面ライン図；第８図は、第４図の８−８紳に沿った断面
図にして、汚れ物を超音波洗浄室を通して案内するよう
に構成した案内レールの一部を示している；第９図は、
第４図の９−９＃に沿った断面図にして、レールが洗浄
室から直接にすすき室に延び超音波洗浄室をバイパスし
ている場合の、案内レールの構成を示している。 第１０図は、すすき機構を示す、第４図の１０−１０＃
に沿ってとった断面端面図； 第１１図は、トランスデユーサを超音波洗浄室の側壁に
Ｊ！Ｉ２シ付けた状態を示す、一部を断面にした描写側
面図； 第１２図は、幾つもの穿内棒を適当な支持構造で支持す
る状態を描いた、拡大詳細図；＃’Ｆ！、’　１３図は
、すすぎ室内に取り伺けたスゲレイトンネルの斜視側面
図； 第１４ｔｘｔｔ、）ランスゲューザを超音波洗浄室の側
壁に取り刊ける別の方決を図示（また、一部を断面にし
た描写側面図； 第１５図は、本発明の他の禁更例のｆＩ１１面図；であ
る。 ２・・・・投入端、４，６・・・・タンク、Ｔ・・・・
高圧ボンズ、８＠・・・出口端、１０・・・・・−・ウ
ジング、１４・・・・投入通路、１５・・・・出口通路
、１１・・・・排出３ＷｊＦ”８．４８・・・・水洗通
路、′２０・・・・洗浄室、２１・・・・底部分、２２
拳・・・壁、２４・・・・通路、３０・・・ψ底表面、
３１・・・・スプレィノズル、３５＠−・・ベルトコン
ベア、３Ｂ−−・・水洗導管、３９・・・・コンベア絹
立体、４０・・Φ・２７Ｊ（室、４１．４３・・・・ト
ランスデユーサ支持レール、４５・・・拳トランスデュ
ーザ　５０・・Φや底表面、５４・・・・一方の端、５
６ｅ・・・他方の壁、６０・・・・排出通路、１０・−
拳・壁、１１・・・・底＋ＨＢ分、γ２・・拳＠通路、
７６・・・・排出通路、１８・・・・水洗連路、８０・
・・９ずすき室、８４・・・・−あの端、８６・・拳・
他方のＦＡ、８１３・・＠１１水洗導管、９０・・・・
底表面、９２・・・・支持構造体、９４・・・・第２の
スプレィトンネル、９６＠−−ｅフレーム部材、９８・
・・・流体通Ｍ、９９・＠ｅ拳スフルイノズル、１１０
−−・・第１の案内通路、１０２，１１２−・・會下Ｒ
１！案内通路、１２０，１３０−・＠φ側部支持レール
、１４０゜１５０・・・・頂部東向レール、１６０１１
・・・第２の案内通路、１１０・・・−流体乱流装置、
１７４・・・・流体に路、１７６＠φ・Φスゲレイノズ
ル、１９２・・・嗜コンベア組立体、１９４・・−・押
し部ＩＦＡ、１９６−・・・コンベア。 特許出願人　　コンペイ・システムズ・ディビジョン・
メグ０エキスホードＯツール・アント−ウェルディング
・カンパニー・リミテ ッド

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）洗浄流体で満たされ、通り抜ける汚れ物が洗浄流
   体に完全に浸漬される、浸水浴槽と；前記浸水浴槽に近
   接して取シ付けられ、浸水浴槽による操作前に、汚れ物
   に洗浄流体をスプレィする、第１の高圧手段と；前記浸
   水浴槽に近接して取り伺けられ、浸水浴槽による操作の
   後で、汚れ物にすすぎ流体をスプレィする、第２の高圧
   手段と；前記第１の高圧手段、前記浸水浴槽、及び第２
   の高圧手段を通じて連続的に汚れ物を移動する手段と；
   前記浸水浴槽内の洗浄流体を高温に加熱し、又、洗浄流
   体を高温に保つ手段と；を有することを特徴とする、汚
   れ物を洗浄流体で洗浄する装置。 （２）　　前記浸水浴槽に取り付けられ、当該浸水浴槽
   内の洗浄流体を攪拌し、浸水浴槽を通り抜ける汚れ物か
   ら汚れを取り去る、第３の高圧手段を更に有している、
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の装置。 （３）前記浸水浴槽内に取り付けられ、洗浄流体を攪拌
   し、浸水浴槽を通り抜ける汚れ物から汚れを取シ去る、
   超音波トランスデユーサ手段を更に有している、ことを
   特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の装置。 （４）前記移動手段が、前記第１の高圧スプレィ手段に
   取シ付けられ、ａ核ｉ１の高圧３１１７４手段を通して
   汚れ物を移動する、コンベア手段と；前記第１の高圧ス
   プレィ手段、浸水浴槽、及び第２の高圧スプレィ手段に
   取り付けられ、この第１の＾圧スプレィ手段、浸水浴槽
   、及び第２の高圧スプレィ手段を通して汚れ物を連続的
   に案内する、第１の案内手段と；を更に有する、ことを
   特徴とする特許請求の範囲第２項又は第３項に記載の装
   置。 （５）前記第１と第２の高圧手段が、前記浸水浴槽より
   上方に位置した平面上に在る、装置にして、当該装置が
   前記第１の高圧スプレィ手段と第２の高圧スプレィ手段
   との間に在って、バイパス通路に沿って汚れ物を案内し
   、その結果、汚れの少ない物品を当該バイパス通路に沿
   って案内して前記浸水浴槽内の洗浄操作を迂回する、第
   ２の案内手段を更に有する、ことを特徴とする特許請求
   の範囲第２項又は第３項に記載の装置。 （６）前記移動手段が、前記ｔＰＪ１の高圧スプレィ手
   段を通って前記浸水浴槽の洗浄流体内に長手方向に斜め
   に入り、長手方向に通り、当該浸水浴槽から斜めに出て
   、第２の高圧スプレィ手段を長手方向に抜けるもので、
   第１の高圧スプレィ手段を通して汚れ物を搬送し、汚れ
   物が洗浄流体に完全に漬かるように浸水浴槽を通して搬
   送し、ぞして第２の高圧スプレィ手段を通して搬送する
   だめのものであり、又、前記第１の制圧スプレィ手段に
   沿って汚れ物を搬送する一方で、汚れ物を長手方向に間
   隔をあけた関係に保ち、その結果、第１の高圧スプレィ
   手段を通して汚れ物を搬送している間に、第１の高圧ス
   プレィ手段が洗浄流体のスプレィを汚れ物の表面に向け
   て汚れ物から汚れだ部分を取り去るためのであり、浸水
   浴槽の洗浄流体内に汚れ物を斜めに搬送し、長手方向に
   通り、浸水浴槽の洗浄流体から斜めに出てくる間、汚れ
   物を長手方向に間隔をあけた関係に保ち、その結果、汚
   れ物が洗浄流体内に完全に漬かυ汚れ物から汚れの部分
   を取り去るためのもので、又、汚れ物を第２の高圧スプ
   レィ手段を通して搬送する間、汚れ物を長手方向に間隔
   をあけた間係に保ち、その結果、第２の高圧スプレィ手
   段がずジぎ液体のスプレィを汚れ物の各々の表面に向け
   て、各々の汚れ物から汚れている部分を取シ去シ、物体
   から洗浄流体を洗い流すための、コンベア手段と；前記
   第１の高圧スプレィ手段、浸水浴槽、及び第２の高圧ス
   プレィ手段に取り付けられ、当該第１の高圧手段、浸水
   浴槽、及び第２の高圧スプレィ手段を通して汚れ物を連
   続して案内する、案内手尺と；を更に有する、ことを特
   徴とする特許ｅ青水の範囲第２項又は第３項に記載の装
   置。 （７）投入端、及び当該投入端の反対にある出口端を持
   つ、ハウジングと；ハウジングの前記投入端に隣接して
   当該ハウジング内に取り付けられ、内部に取り付けられ
   て通過する汚れ物に洗浄流体をスプレィする第１のスプ
   レィ手段を備えた、洗浄室と；前記ハウジングの出口端
   に近接してノ１ウジング内に取り付けられ、内部に取り
   付けられて通過する汚れ物にすすぎ流体をスプレィする
   第２のスプレィ手段を備えた、すすぎ室と；前記ノ・ウ
   ジング内に取り付けられ、しかも、前記洗浄室とすすぎ
   室との間に配置され、更に洗浄流体で満たされており、
   そのため、通過する汚れ物を洗浄流体内に完全に漬ける
   もので、内部に取り付けた複数の浸漬ＴｉＪ能なトラン
   スデユーサを備え、当該複数のトランスデユーサが超音
   阪庖光生して浸漬した汚れ物の廻りの洗浄流体にうず現
   象を作り、汚れ物が通過している間に、汚れ物の汚れの
   部分を取り去るよう作用する、超音波宇と；前記洗浄室
   内に取り付けられ、当該洗浄室を通して汚れ物を長手方
   向に離した関係に移動させる、移動手段と；前記ハウジ
   ング内に取り付けられ、洗浄室、超音波室、及びすすぎ
   室を通して汚れ物を連続的に案内する、案内手段と；を
   有する、ことを特徴とする、洗浄流体により汚れ物から
   汚れを取る装置。 （８）前記洗浄室とすすぎ室が、超音波室の上方に位置
   した平面上に在る、装置にして、当該装置が、洗浄室と
   すすぎ室との間をまっすぐに延び、第２の案内通路に沿
   って汚れ物を有向し、汚れ物はこの案内通路に沿って案
   内され、その結果、汚れの少ない物品が、第２の通路に
   沿って洗浄室からすすぎ室に案内され、前記超音波室を
   迂回するようになった、第２の案内手段を更に有してい
   る、ことを特徴とする特許請求の範囲第７項に記載の装
   置。 （９）前記室の各々が、一方の端、当該一方の端に相対
   する他方の端、当該一方の端から他方の端まで延び、使
   用時に残渣の貯まる底壁、を更に備え、底壁の各々が一
   方の端から他方の端に向け−〔下方向に傾斜されており
   、又、各々の室の）底壁の一方の端に取り付けられ、汚
   れ物から取り去られ各々の室の底壁に貯まった汚物を洗
   い流すための洗い流し手段を有している、ことを特徴と
   する特許請求の範囲第８項に記載の装置。 （１１各々の室の流体を高温に加熱し、流体を高温に維
   持するだめの手段を更に有している、ことを特徴とする
   特許請求の範囲第９項に記載の装置。 旧）前記移動手段が、前記洗浄手段を通って長手方向に
   延び、汚れ物を当該洗浄手段を通して搬送し、又、汚れ
   物を長手方向に間隔をあけた関係に保ち、その結果、汚
   れ物が洗浄室を通過する間に、前記第１のスプレィ手段
   が汚れ物の前端と後端に作用し、又、汚れ物は全体が第
   １のスプレィ手段の機械的なこすり作用に晒され、この
   作用が化学流体と連係して汚れ物から汚れの部分を取り
   去る働きをするようになった、コンベア手段を更に有し
   ている、ことを特徴とする特許請求の範囲第１０項に記
   載の装置。 （１２１前記超音波室には所定の長さが在り、しかも前
   記複数の浸漬可能なトランスデユーサが前記超音波室内
   で垂直に指向され、又、超音波室の長さにわたって長手
   方向に間隔をあけて配置されて超音波振動領域を発生し
   、その結果、汚れ物が超音波室を通過する際、洗浄流体
   に漬った汚れ物の廻りにほぼ均一なキャビテーションが
   造り出される、ことを特徴とする特許請求の範囲第１１
   項に記載の装置。 Ｑ３）　　前記超音波室が、更に第１の側部と、当該第
   １の側部に相対する第２の側部を有し、複数の前記トラ
   ンスジューサの少なくとも１つが前記第１の側部に取り
   付けられ、複数のトランスデユーサの少なくとも残りの
   ものが超音波室の第２の側部に取り付けられており、第
   １の側部にある複数のトランスデユーサの前記１つが長
   手方向に間隔をあけられ、しかも超音波室の第２の側部
   にある複数のトランスデユーサの他のものに対し交差さ
   れて、当該超音波室の長さにわたってほぼ均一なキャビ
   テーション領域を洗浄流体中に形成している、ことを特
   徴とする特許請求の範囲第７項に記載の装置。 ０滲　前記ハウジングとすすぎ室の出口端に近接して取
   シ付けられ、物品上に空気を吹き付けて当該物品の残留
   すすぎ流体を乾燥する、ファン手段と；前記ファン手段
   を通して長手方向に物品を案内する手段と；を更に有す
   る、ことを特徴とする特許請求の範囲第７項に記載の装
   置ンイ。 ０９　　前記複数のトランスデユーサが、少なくとも２
   ５ＫＨｚの周波数の超音波振動波を発射するようになっ
   ている、ことを特徴とする特許請求の範囲第７項に記載
   の装置。 （１６）前記超音波室が、第１の側部と、当該第１の側
   部に相対する第２の側部を唄に協え、しかも、当該超音
   波室が所定の長さにわたり、又、前記複数の浸漬可能な
   トランスデユーサが超音波室の第１とＰｇ２の側部に角
   度を付けて取り付けられ、しかも、複数のトランスデユ
   ーサの少なくとも１つが複数のトランスジューサの少く
   とも残りのものに対面して長手方向に十字状の関係に設
   置され、超音波室の長さに沿って複数の超音波４辰動領
   域を発生するようになっている、ことを特徴とする特許
   許請求の範囲第７項に記ｌ｛νの装置，。 （１７）前記第１のスプレィ手段が、前記杭内１案内に
   取９付けられており、複数のスプレィノズルを１・ｍえ
   ている，第１のスプレィトンネルと１当該第ｌのスプレ
   ィトンネルに連絡されて流体接続をする、第１の高圧ポ
   ンプと；を更に有し、当該第１の高圧ポンプが、前記洗
   浄宰から洗浄流体を抜き取り、第１のスプレィトンネル
   に７０〜８０ｐｓｉｇの圧力レベルで配給し、前記スプ
   レィノズルは洗浄流体の複数の高圧スプレィジェットを
   汚れ物にスプレィし、汚れ物を洗浄流体で機械的にこす
   るだめ、汚れの部分がはがれ、従って汚れ物から汚れの
   部分が取り去られる、ことを特徴とする特許請求の範囲
   第７項に記載の装置。 （１８）前記第２のスプレィ手段が、前記すすぎ室内に
   取り付けられ、複数のスプレィジェットを備えている、
   第２のスプレィトンネルと；嶺該第２のスプレィトンネ
   ルに連絡されて流体接続をする。 第２の高圧ポンプと；を更に有し、当核第２の高圧ポン
   プが、前記すすぎ室からすすぎ流体を抜き取り、第２の
   スプレィトンネルに７０〜８０ｐｓ１ｇの圧力レベルで
   配給し、前記第２のスプレィトンネルはすすぎ流体の複
   数の高圧スプレィジェットを汚れ物にスプレィし、汚れ
   物を洗浄流体で機械的にこするため、残っている汚れと
   残留洗浄流体が汚れ物から取り去られる、ことを！ｒ￥
   徴とする特許請求の範囲第１７項に記載の装置。 （１９前記第１のスプレィ手段が、前記洗浄室と第１の
   高圧ポンプとの間に取り伺けられ、洗浄流体から固形の
   汚物を除去する、第１のフィルタ手段を史に有している
   、ことを特徴とする特許請求の範囲第１７項に記載の装
   置。 （鵬　前記第２のスプレィ手段が、前記すすぎ室と第２
   の高圧ポンプとの間に取り付けられ、すすぎ流体から固
   形の汚物を増り除く、第２のフィルタ手段を更に有し７
   ている、ことを特徴とする特￥［請求の範囲第１８項に
   記載の装置。 ｆ２１）　　前記ハウジングがステレオスチールから作
   られている、ことを特徴とする特許請求の９１１〉間第
   ７項に記載の装置１３ （２２１物品に加熱空気を吹き付けられるように、前記
   ファン手段内の空気を加熱する手段を（財）に有してい
   る、ことを特徴とする特許請求の範囲第１４項に記載の
   装置１、 （２３）前記ハウジングが断熱されて、ハウジングから
   の放熱を少なくしている、ことを特徴とする特許請求の
   範囲第２１項に記載の装置。 Ｃ２４＋　　汚れ物が通り抜ける際に汚れ物を浸漬し、
   汚れ物から汚れた部分を取り去る、洗浄流体を収容した
   浸水室と；前記浸水室に近接して取り付けられ、第１の
   スプレィトンネルを持つ洗浄室にして、前記第１のスプ
   レィトンネルが、洗浄室を汚れ物が通υ抜ける際、汚れ
   物を高速洗浄流体で機械的にこすり汚れ物から汚れの部
   分を取り去る、複数の高圧スプレィノズルを備えている
   、洗浄室と；前記浸水室に近接して取り付けられ、第２
   のスプレィトンネルを持つすすぎ室にして、前記第２の
   スプレィトンネルが、すすぎ室を汚れ物が通り抜ける際
   、汚れ物を高圧すすぎ流体で機械的にとすシ汚れ物から
   汚れの部分を取シ去シ、しかも洗浄流体を物品から洗い
   流す、複数の高圧スプレィノズルを備えている、すすぎ
   室と；前記洗浄室、浸水室、及びすすぎ室を通して汚れ
   物を連続的に移動する手段と；前記洗浄室と浸水室内の
   洗浄流体を高温に加熱し、当該洗浄流体を高温に保つた
   めの、手段と；を有している、ことを特徴とする、流体
   で汚れ物を洗浄するための装置。 （２５）前記浸水室内に取り付けられて洗浄流体内に浸
   漬される複数のトランスデユーサを更に有し、当該トラ
   ンスデユーサが、洗浄流体内に浸漬されると、浸水室内
   を通り抜ける汚れ物から汚れの部分を取り去る作用をす
   る、ことを特徴とする特許請求の範囲Ｉ＠２４項に記載
   の装ｙｔ、。 伽）前に浸水室内に取り付けられ、浸水室内の洗浄流体
   を攪拌して、当咳浸水室を通り抜ける汚れ物から汚れの
   部分を取り去る手段を更に有している、ことを特徴とす
   る特許請求の範囲第２４項に記載の装置。 （２７）　　前記洗浄室、浸水室、及びすすぎ室の各々
   が、更に、一方の端、当該一方の端に相対した他方の端
   、前記一方の端から他方の端に向けて下向きに延び汚れ
   物から落ちた残渣を捕集する底壁を備え；前記室の各々
   の底壁の一方の端に取り付けられ、水洗流体の流れを向
   けて残渣を一方の端から他方の端へと底壁の各々を横断
   して押し出す、水洗手段と；前記室の各々の底壁の他方
   の端に取り付けられ、水洗手段により押し出された残渣
   を各々の室から取り除く、排出手段と；を特徴とする特
   許請求の範囲第２４項に記載の装置−６ （２８）前記室の各々が、第１の側部、及び当核第１の
   側部に相対する第２の側部を更に備え、前記水洗手段が
   、更に、前記第１の側部からいっしょの室の第２の側部
   へと横断して延び、しかも各々の底壁に近接して配置し
   た水洗導管と、この水洗導管に連絡した複数の水洗通路
   と、を有し、しかも、前記水洗通路が前記底壁の一方の
   端から底壁の他方の端に向けられているため、前記水洗
   流を形成する複数の水洗流体のジェットが造り出される
   、ことを特徴とする特許請求の範囲第２７項に記載の装
   置７、 （２９１洗浄流体を高温に加熱し、当該洗浄流体を高温
   に保ち；汚れ物に、前記加熱洗浄流体を第１の高圧スプ
   レィトンネルからスプレィして汚れ物を高速の洗浄流体
   の流れで機械的にこすり、汚れ物から汚れの部分を取υ
   去シ：前記加熱洗浄流体の入っている浸水室に汚れ物を
   漬けて、汚れ物から汚れの部分を化学的に取り去り；汚
   れ物を第２の高圧スプレィトンネルからのすすぎ流体で
   すすぎ。 すすぎ流体の＾速の流れで汚れ物の残留汚れを機械的に
   こすり取り、しかも物品に付いている洗浄流体を取り去
   り：前記第１の高圧スプレィトンネル、浸水室、及び第
   ２の高圧スゲレイトンネルを通して汚れ物を連続して移
   動する；段階と有している、ことを特徴とする、洗浄流
   体により汚れ物から汚れを取り去る方法。 Ｃ（０１浸漬する段階の後で、超音波摂動によって浸水
   室内の加熱洗浄流体にうす巻き現象を造シ出して、汚れ
   物から汚れた部分を取り去る段階を史に有している、こ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２９項に記載の方法。 Ｃ’ｌｌ）　　浸漬する段階の後で、高圧流体の流れで
   浸水室内の前記加熱洗浄流体を攪拌して、汚れ物から汚
   れた部分を取り去る段階を更に有している、ことを特徴
   とする特許請求の範囲第２９項に記載の方法。 ６２　　汚れ物をスプレィ作業の段階からすすぎ作業の
   段階にバイパス通路に沿って送シ、汚れの少ない物品を
   バイアス通路に沿って案内して前記浸水室内での洗浄作
   業音迂回する段階を更に有している、ことを特徴とする
   特許請求の範囲第２９項に記載の方法。 割　物品に空気を吠き付けて物品を乾餘する段階を史に
   有している、ことを特徴とする特許範囲第２９項に記載
   の方法。 ｃ３４）前記浸水室の底から堆積した残渣ヲ酢．い流す
   段階と；浸水室から洗い流した残渣を取り除く段階と；
   を更に有する、ことを特徴とする特＃′ｔ’　Ｎｉｌ求
   の範囲第２９項に記載の方法。