JPS5936527A - 乾式排煙脱硫法 - Google Patents
乾式排煙脱硫法Info
- Publication number
- JPS5936527A JPS5936527A JP57145106A JP14510682A JPS5936527A JP S5936527 A JPS5936527 A JP S5936527A JP 57145106 A JP57145106 A JP 57145106A JP 14510682 A JP14510682 A JP 14510682A JP S5936527 A JPS5936527 A JP S5936527A
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- Japan
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- gas
- agent
- column
- desulfurizing agent
- adsorbed
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は乾式排煙脱硫法に係り、特に加熱脱着時に発生
するガスから効率よく元素状硫黄を回収するのに好適な
乾式排煙脱硫法に関する。
するガスから効率よく元素状硫黄を回収するのに好適な
乾式排煙脱硫法に関する。
乾式排煙脱硫では、硫黄酸化物を含む燃焼排ガスと脱硫
剤を接触し、硫黄酸化物を吸着除去する。
剤を接触し、硫黄酸化物を吸着除去する。
この際、燃焼排ガス中の８０２は、脱硫剤の細孔内にＨ
２８０４として酸化され存在する。また、細孔内のＨ，
ｓｏ、は吸着時の燃焼排ガス温度と平衡状態のＨ２Ｏを
吸着し、希硫酸（Ｈ２８０４・？１Ｈ２０）として存在
する。ＳＯ２’ｆｉ：吸着した脱硫剤を加熱することに
よって細孔内からＨ２ＳＯ４、Ｈ２Ｏが脱着する。Ｈ２
ＳＯ４が加熱脱着する際、 Ｈ２ＳＯ４の分解と脱硫、
剤中のカーボンが脱離するが、はぼＨ２ＳＯ４ガス［Ｃ
Ｏ２，５Ｏ２）は次に石膏１元素状硫黄などの回収工程
に送られ１石膏、硫黄の副生品が得られる。硫黄を回収
する場合、安価なカーボン源として石炭を乾留して得ら
れる乾留炭を用い、このような乾留炭に加熱脱着再生時
発生するガス、即ち高濃度Ｓ０２含有ガスを７００〜８
５０℃の適宜温度で直接接触させ、 ＳＱ２に硫黄ガス
、Ｈ２Ｓ、 Ｃ０８ＴＬどに還元する。得られる反応ガ
スを部分凝縮させることによって、硫黄ガスが凝縮し元
素状硫黄が回収できる。しかしながらカーボンと高濃度
■ Ｓ０２含有ガスを反応させる際、ｃ ＋ Ｓｏ、→２
Ｓ ２＋ＣＯ２の反応のみならず、種々の副反応が生成
し、Ｓ０２の元素状硫黄への還元率を低下させている。
２８０４として酸化され存在する。また、細孔内のＨ，
ｓｏ、は吸着時の燃焼排ガス温度と平衡状態のＨ２Ｏを
吸着し、希硫酸（Ｈ２８０４・？１Ｈ２０）として存在
する。ＳＯ２’ｆｉ：吸着した脱硫剤を加熱することに
よって細孔内からＨ２ＳＯ４、Ｈ２Ｏが脱着する。Ｈ２
ＳＯ４が加熱脱着する際、 Ｈ２ＳＯ４の分解と脱硫、
剤中のカーボンが脱離するが、はぼＨ２ＳＯ４ガス［Ｃ
Ｏ２，５Ｏ２）は次に石膏１元素状硫黄などの回収工程
に送られ１石膏、硫黄の副生品が得られる。硫黄を回収
する場合、安価なカーボン源として石炭を乾留して得ら
れる乾留炭を用い、このような乾留炭に加熱脱着再生時
発生するガス、即ち高濃度Ｓ０２含有ガスを７００〜８
５０℃の適宜温度で直接接触させ、 ＳＱ２に硫黄ガス
、Ｈ２Ｓ、 Ｃ０８ＴＬどに還元する。得られる反応ガ
スを部分凝縮させることによって、硫黄ガスが凝縮し元
素状硫黄が回収できる。しかしながらカーボンと高濃度
■ Ｓ０２含有ガスを反応させる際、ｃ ＋ Ｓｏ、→２
Ｓ ２＋ＣＯ２の反応のみならず、種々の副反応が生成
し、Ｓ０２の元素状硫黄への還元率を低下させている。
その原因は主に高濃度Ｓ０２含有ガス中のＩ（２０によ
るものであって＋ Ｃ＋ Ｒ２０の副反応によって生成
するＲ２と、生成した硫黄ガスが反応しＨ２Ｓ に還元
されるためである。
るものであって＋ Ｃ＋ Ｒ２０の副反応によって生成
するＲ２と、生成した硫黄ガスが反応しＨ２Ｓ に還元
されるためである。
本発明の目的は、硫黄酸化物を吸着した脱硫剤を加熱脱
着再生し１発生する高濃度８０２含有ガスとカーボンと
を接触反応させ元素状硫黄を回収する際＋ ｓｏ２の元
素状硫黄への還元率を高めることができる乾式排煙脱硫
法を提供することにある。
着再生し１発生する高濃度８０２含有ガスとカーボンと
を接触反応させ元素状硫黄を回収する際＋ ｓｏ２の元
素状硫黄への還元率を高めることができる乾式排煙脱硫
法を提供することにある。
本発明者らは、Ｓ０２の元素状硫黄への還元率を高める
ためにはＳ０２還元塔におけるＲ２の生成を抑制するこ
とが有効であり、このためには脱着ガス中のＨ２Ｏ１低
減することが必要であることを見い出した。本発明は、
上記のような知見から得られたものであって、硫黄酸化
物を吸着した脱硫剤盆２００℃以下の温度で加熱して脱
硫剤の水分を脱離させ、ここで発生したガスを加熱脱着
系外に抜き、しかる後脱硫剤を２００℃よジも高（５０
０℃以下の温度で加熱し、ここで発生したガスをカーボ
ンと接触反応させるようにしたものである。
ためにはＳ０２還元塔におけるＲ２の生成を抑制するこ
とが有効であり、このためには脱着ガス中のＨ２Ｏ１低
減することが必要であることを見い出した。本発明は、
上記のような知見から得られたものであって、硫黄酸化
物を吸着した脱硫剤盆２００℃以下の温度で加熱して脱
硫剤の水分を脱離させ、ここで発生したガスを加熱脱着
系外に抜き、しかる後脱硫剤を２００℃よジも高（５０
０℃以下の温度で加熱し、ここで発生したガスをカーボ
ンと接触反応させるようにしたものである。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
硫黄酸化物を吸着した脱硫剤は、前記したように、脱硫
剤細孔内に希硫酸として存在している。
剤細孔内に希硫酸として存在している。
脱硫剤細孔内の水分は、排ガス中のＲ２０、温度などに
よって異なり、排ガス温度が高いとＨ２ＳＯ４・％Ｈ２
０の水分割合は少す＜、排ガス中のＴ（、Ｏ濃度が高い
場合には水分割合は高くなる。即ち、脱硫剤細孔中に物
理的に存在するＲ２０は、排ガス温度。
よって異なり、排ガス温度が高いとＨ２ＳＯ４・％Ｈ２
０の水分割合は少す＜、排ガス中のＴ（、Ｏ濃度が高い
場合には水分割合は高くなる。即ち、脱硫剤細孔中に物
理的に存在するＲ２０は、排ガス温度。
排ガス中のＲ２０濃度に影響する。一般に脱硫剤に吸着
された希硫酸を不活性ガス雰囲気で加熱脱着すると以下
の反応で８０２． ＣＯ２−Ｒ２０ｋ生成する。
された希硫酸を不活性ガス雰囲気で加熱脱着すると以下
の反応で８０２． ＣＯ２−Ｒ２０ｋ生成する。
ＬＣ”十Ｈ２Ｓｏ ４・７ＬＨ２０→±ＣＯ２＋ＳＯ２
＋（Ｈ２０＋％Ｈ鵞Ｏ）２ ・・・・・・・・・（１） 反応式中Ｃ※は固体のカーボンを示し、ｔＬＨ２０はｎ
分子の結晶水を示す。また、極少量のＣＯは次の脱着反
応によって生成する場合がある。
＋（Ｈ２０＋％Ｈ鵞Ｏ）２ ・・・・・・・・・（１） 反応式中Ｃ※は固体のカーボンを示し、ｔＬＨ２０はｎ
分子の結晶水を示す。また、極少量のＣＯは次の脱着反
応によって生成する場合がある。
Ｃ※＋Ｈ２ＳＱ ４− Ｒ１（２０−＋ Ｃ０−１−８
ｏ ２ ＋（ＨｚＯ＋％Ｈ２０） −−（２）次に加熱
脱着により生成した、ＣＯ２，５Ｏ２−Ｒ２０および若
干のＣＯは、カーボン（石炭を乾留した乾留炭）と接触
反応を行なわせる。この時の反応温度は石炭種、乾留条
件によって得られる乾留炭の特性によって異なるもので
あるが、平均的には７００ ’Ｃ〜８５０℃の温度が選
択される。
ｏ ２ ＋（ＨｚＯ＋％Ｈ２０） −−（２）次に加熱
脱着により生成した、ＣＯ２，５Ｏ２−Ｒ２０および若
干のＣＯは、カーボン（石炭を乾留した乾留炭）と接触
反応を行なわせる。この時の反応温度は石炭種、乾留条
件によって得られる乾留炭の特性によって異なるもので
あるが、平均的には７００ ’Ｃ〜８５０℃の温度が選
択される。
８Ｏ２還元塔での主反応は。
２０些＝ＳＯ１→Ｃ−８＋ＣＯ２・・・・・・・・・・
・・（３）ｃ−ｓ＋ｓｏ２→Ｓ２＋ＣＯ！ ・・・
・・・・・・・・・ （４）であり１反応式中Ｃ−３は
カーボン表面に化学吸着した硫黄化合物を意味している
。さらにＳ２への還元を抑制する副反応は 永 Ｃ＋Ｈ２Ｏ−＋Ｈ２＋ Ｃｏ ・・・・・・・・・・
・・・・・（５）ＣＯ＋Ｈ２０→Ｈ２＋ＣＯ２・・・・
・・・・・・・・・・・（６）ｌｈ＋／Ｓ２→Ｈ２Ｓ
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ （７
）（５）〜（７）の反応式で示すように脱着ガス中のＲ
２０は乾留炭中のカーボンと反応して■、とＣＯを生成
し、さらＩｃｃＯとＲ２０のシフト反応によってＲ２と
ｃｏ２’ｌ生成する。このとき、ＳＯ２の還元で生成し
たＳ！と（５）および（６）の反応によって生成したＨ
！とが反応し、Ｈ２Ｓとなる。
・・（３）ｃ−ｓ＋ｓｏ２→Ｓ２＋ＣＯ！ ・・・
・・・・・・・・・ （４）であり１反応式中Ｃ−３は
カーボン表面に化学吸着した硫黄化合物を意味している
。さらにＳ２への還元を抑制する副反応は 永 Ｃ＋Ｈ２Ｏ−＋Ｈ２＋ Ｃｏ ・・・・・・・・・・
・・・・・（５）ＣＯ＋Ｈ２０→Ｈ２＋ＣＯ２・・・・
・・・・・・・・・・・（６）ｌｈ＋／Ｓ２→Ｈ２Ｓ
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ （７
）（５）〜（７）の反応式で示すように脱着ガス中のＲ
２０は乾留炭中のカーボンと反応して■、とＣＯを生成
し、さらＩｃｃＯとＲ２０のシフト反応によってＲ２と
ｃｏ２’ｌ生成する。このとき、ＳＯ２の還元で生成し
たＳ！と（５）および（６）の反応によって生成したＨ
！とが反応し、Ｈ２Ｓとなる。
本発明において、 ｓｏ２還元塔におけるＲ２の生成を
抑制り、Ｈ２＋’ ８２→Ｈ２Ｓの副反応を低下させる
ために脱着ガス中のＨＩＯ’ｉ低減させるものである。
抑制り、Ｈ２＋’ ８２→Ｈ２Ｓの副反応を低下させる
ために脱着ガス中のＨＩＯ’ｉ低減させるものである。
第１図は、硫黄酸化物を吸着した脱硫剤の加熱温度に対
する脱離速度を示す。第１図において。
する脱離速度を示す。第１図において。
加熱温度５０℃付近から１８０°Ｃでの脱離速度のピー
クＡでは脱硫剤中の水分の脱離を示し、２００℃から４
５０℃に発生する脱離速度のピークＢけＨ２ＳＯ４の分
解反応によるものである。さらに６５０℃付近にある脱
離速度のピークＣは、脱硫剤表面の表面酸化物の脱離で
ある。
クＡでは脱硫剤中の水分の脱離を示し、２００℃から４
５０℃に発生する脱離速度のピークＢけＨ２ＳＯ４の分
解反応によるものである。さらに６５０℃付近にある脱
離速度のピークＣは、脱硫剤表面の表面酸化物の脱離で
ある。
したがって第１図の結果から、硫黄酸化物を吸着した脱
硫剤を温度２００℃以下（望捷しくは２００°Ｃ領域）
で保持し１発生するガスを加熱脱着系外に抜き、その後
脱硫剤を２００℃より Ｋ ＜５００８Ｃ以下（望１し
くけ４５０℃から５００℃）に加熱し発生するガスをカ
ーボンと接触反応させＳＯ２’Ｔｈ還元するようにすれ
ば、カーボンと接触反応させるガス中からＨ２Ｏ１除去
できるので１（２０に起因する副反応を抑制し、Ｓ０２
→Ｓ２の還元率を高めることができる。
硫剤を温度２００℃以下（望捷しくは２００°Ｃ領域）
で保持し１発生するガスを加熱脱着系外に抜き、その後
脱硫剤を２００℃より Ｋ ＜５００８Ｃ以下（望１し
くけ４５０℃から５００℃）に加熱し発生するガスをカ
ーボンと接触反応させＳＯ２’Ｔｈ還元するようにすれ
ば、カーボンと接触反応させるガス中からＨ２Ｏ１除去
できるので１（２０に起因する副反応を抑制し、Ｓ０２
→Ｓ２の還元率を高めることができる。
次に第２図によって本発明の一実施例を説明する。
吸着塔１００には、硫黄酸化物を含む排ガスｌが流れ４
と合流し、流れ２となって導入される。
と合流し、流れ２となって導入される。
吸着塔１００において、排ガス中の硫黄酸化物は脱硫剤
に吸着除去され、硫黄酸化物が除去された排ガスｄ：吸
着塔１００から流ね、３となる。硫黄酸化物を吸着した
脱硫剤８は、脱着塔１０１．１０２．１０３において加
熱脱着再生が連続的に行れる。
に吸着除去され、硫黄酸化物が除去された排ガスｄ：吸
着塔１００から流ね、３となる。硫黄酸化物を吸着した
脱硫剤８は、脱着塔１０１．１０２．１０３において加
熱脱着再生が連続的に行れる。
脱着塔１０１では温度２００℃以下、望ましくは２００
℃領域に保持し、ここで発生するガス５は流れ４として
直接吸着塔入口排ガスに合流させるか、あるいは冷却器
１０４で部分的に凝縮し、水１３を回収した後、未凝縮
性ガスを流れ４として吸着塔入口側に戻すこともできる
。脱硫剤８は温度２００℃以下で加熱した後、脱硫剤９
は脱着塔１０２に導びき、ここでは温度２００℃よりも
高く５００℃以下、望ましくは４５０°Ｃ〜５００℃で
加熱し発生するガス６は直接ＳＯ２還元塔に導びきカー
ボンと反応させる。再生脱硫剤ｌＯは脱着塔］０３で任
意の温度捷で冷却し、系外から補給する脱硫剤１２と合
流し、流れ７となって吸着塔ｉｏｏに戻される。
℃領域に保持し、ここで発生するガス５は流れ４として
直接吸着塔入口排ガスに合流させるか、あるいは冷却器
１０４で部分的に凝縮し、水１３を回収した後、未凝縮
性ガスを流れ４として吸着塔入口側に戻すこともできる
。脱硫剤８は温度２００℃以下で加熱した後、脱硫剤９
は脱着塔１０２に導びき、ここでは温度２００℃よりも
高く５００℃以下、望ましくは４５０°Ｃ〜５００℃で
加熱し発生するガス６は直接ＳＯ２還元塔に導びきカー
ボンと反応させる。再生脱硫剤ｌＯは脱着塔］０３で任
意の温度捷で冷却し、系外から補給する脱硫剤１２と合
流し、流れ７となって吸着塔ｉｏｏに戻される。
ここで脱着塔１０１１０２．１０３は一塔の移動層から
なり、予備加熱（２００℃以下）、加熱（２００℃より
も高く５００℃以下）および冷却の各処理が連続的に行
なわれる。
なり、予備加熱（２００℃以下）、加熱（２００℃より
も高く５００℃以下）および冷却の各処理が連続的に行
なわれる。
第３図は第２図の移動層脱着塔における加熱脱着を行っ
た際の塔内温度分布を示す。移動層脱着塔の上部に供給
された硫黄酸化物を吸着した脱硫剤は間接加熱により徐
々に昇温され、温度２００°′Ｃ領域から発生するガス
５Ａを加熱脱着系外に抜き出し、吸着塔入口の排ガスに
合流させる。脱硫剤はその後に徐々に加熱し、５００℃
領域から発生するガス６Ａを抜き、ＳＯ２還元塔に供給
する。
た際の塔内温度分布を示す。移動層脱着塔の上部に供給
された硫黄酸化物を吸着した脱硫剤は間接加熱により徐
々に昇温され、温度２００°′Ｃ領域から発生するガス
５Ａを加熱脱着系外に抜き出し、吸着塔入口の排ガスに
合流させる。脱硫剤はその後に徐々に加熱し、５００℃
領域から発生するガス６Ａを抜き、ＳＯ２還元塔に供給
する。
脱硫剤は次に冷却し、吸着塔に戻される。
以上のよう（（本発明によれば、硫黄酸化物を吸着した
脱硫剤を加熱脱着再生し１発生するガスをカーボンと接
触反応させ１元素状硫黄を回収する際、ガス中の水分割
合を少なくすることによってＨ２と生成Ｓ２との副反応
を抑制することができるのでＳＯ２の８２への還元率を
高めることができる。
脱硫剤を加熱脱着再生し１発生するガスをカーボンと接
触反応させ１元素状硫黄を回収する際、ガス中の水分割
合を少なくすることによってＨ２と生成Ｓ２との副反応
を抑制することができるのでＳＯ２の８２への還元率を
高めることができる。
第１図は硫黄酸化物を吸着した脱硫剤の加熱温度と脱離
速度との関係を示す図、第２図は本発明（９） の一実施例を示すフロー図、第３図は第２図の移動層型
脱着塔内の温度分布と脱着ガスの抜き出し位置を示す図
である。 】・・排ガス、５・・・脱着ガス、６・・・脱着ガス、
８・・・脱硫剤（硫黄酸化物全吸着］、１２・・補給脱
硫剤、１００・・・吸着塔、１０１１０２．１０３・・
・脱着塔、１０４・・・冷却器。 代理人 鵜 沼 辰 之 Ｃ１０） 第２図 １２ １４４− 第３図 Ｒ殺乏制壜崖 （６Ｃ）
速度との関係を示す図、第２図は本発明（９） の一実施例を示すフロー図、第３図は第２図の移動層型
脱着塔内の温度分布と脱着ガスの抜き出し位置を示す図
である。 】・・排ガス、５・・・脱着ガス、６・・・脱着ガス、
８・・・脱硫剤（硫黄酸化物全吸着］、１２・・補給脱
硫剤、１００・・・吸着塔、１０１１０２．１０３・・
・脱着塔、１０４・・・冷却器。 代理人 鵜 沼 辰 之 Ｃ１０） 第２図 １２ １４４− 第３図 Ｒ殺乏制壜崖 （６Ｃ）
Claims (4)
- （１）排ガス中の硫黄酸化物を吸着した脱硫剤を加熱脱
着再生し、発生する脱着ガス全カーボンと接触反応させ
一部元素状硫黄として回収する乾式排煙脱硫法において
、硫黄酸化物を吸着した脱硫２００℃よりも高＜ ５０
０ ’Ｃ以下の温度で加熱し。 ここで発生したガスをカーボンと接触反応させ元素状硫
黄を回収することを特徴とする乾式排煙脱硫法。 - （２）脱硫剤を２００℃以下の温度で加熱して発生した
ガスを吸着塔入口の排ガスに合流させることを特徴とす
る特許請求の範囲第（１）項記載の乾式％式％ - （３）硫黄酸化物を吸着した脱硫剤を２００ ℃以下の
温度での第１の加熱処理、および２００ ℃よりも高く
５００℃以下の温度での第２の加熱処理後、冷却処理し
て吸着塔に戻すことを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項記載の乾式排煙脱硫法。 - （４）第１の加熱処理、第２の加熱処理および冷却処理
を一部の移動層により連続して行うようにしたことを特
徴とする特許請求の範囲第（３）項記載の乾式排煙脱硫
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57145106A JPS5936527A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 乾式排煙脱硫法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57145106A JPS5936527A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 乾式排煙脱硫法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5936527A true JPS5936527A (ja) | 1984-02-28 |
Family
ID=15377512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57145106A Pending JPS5936527A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 乾式排煙脱硫法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5936527A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS617585A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-14 | タニカ電器株式会社 | 家庭用電熱器具の防水構造 |
-
1982
- 1982-08-20 JP JP57145106A patent/JPS5936527A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS617585A (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-14 | タニカ電器株式会社 | 家庭用電熱器具の防水構造 |
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