JPS6317488B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は硫化水素含有ガス仕上の改良方法に関
する。クラウスプラントよりの排出ガスの全硫黄
含量を減少せしめるための方法は既に提案されて
いる。かかる方法に於ては、該排出ガスは175℃
以上の温度に於て遊離水素及び（又は）遊離一酸
化炭素含有ガスと共に硫化第六族及び（又は）第
八族金属触媒であつて無機酸化物担体上に支持さ
れているものの上に通過せしめ、その後このよう
に処理した排出ガスを液体及び硫化水素に対する
再生可能吸収剤に通過せしめ、該排出ガスの非吸
収部分を任意的には灰化後に大気中に排出し、硫
化水素濃縮吸収剤は再生して別の硫化水素吸収に
再使用し、再生によつて放出される硫化水素豊富
ガス混合物をクラウスプラント（Claus plant）
に通過せしめる。再生によつて放出される硫化水
素豊富ガス混合物を排出ガスが生じるクラウスプ
ラントに再循環せしめて密閉方法を採るようにす
るのが好ましい。

一般的にクラウスプラントに対する供給原料
（feestocks）はガス精製プロセスの再生段階に於
て製造される硫化水素含有ガスである。これらガ
ス精製方法は工業的ガス例えば精錬所ガス、天然
ガス又は炭化水素或は石炭の部分的燃焼によつて
製造される合成ガスの硫黄成分（大抵の場合主と
して硫化水素）を減少せしめて別の用途に用いる
に先んじて受容可能な低水準にするために必要で
あり、通常ガ成分の液体吸収剤中に於ける吸収を
包含しているが、それは続いて再生して硫化水素
豊富ガスを与えるようにする。後者のガスは次に
クラウス反応によつて転化せしめて元素的硫黄を
製造して除去し、該反応排出ガスはその後上記方
法により有利に処理してガスの硫黄含量を非常に
低い水準に減少せしめるようにし、これを大気中
に放出するようにする。

硫黄成分は別として、上記の工業用ガスは屡々
二酸化炭素の量を含み、これもこれらガスを工業
的に使用する以前に除去する必要がある。従つて
液体吸収剤を使用するが、これは硫黄成分及び二
酸化炭素の両方を除去する。脂肪液体吸収剤の再
生に於ては、硫化水素／二酸化炭素を含有するガ
スが得られるが、これは次にクラウスプラントに
於て処理される。これらのガスが低二酸化炭素含
量（約15容量％まで）である限りは、これはクラ
ウスプラントに於て満足に仕上げをすることが出
来、続いて上記方法によつてクラウス排出ガスを
処理するための処理プラントによつて仕上げをす
ることが出来る。然し乍ら、若しクラウスプラン
トに供給するガスが高量の二酸化炭素を含有する
ならば、クラウスプラントは特別な設計が必要と
なり、クラウスプラントは比較的規模が大きく、
比較的効率の劣るものとなる。前記の如き還元工
程及び吸収工程を行なうための処理プラントもま
た、比較的規模が大きく、比較的効率の劣るもの
となる。

本発明は高量の二酸化炭素を有する硫化水素含
有ガスをクラウス反応により転化して元素的硫黄
を製造する方法を提供するものであり、その中で
反応排出ガスを引続き上記の方法で既述の欠点を
有することなく処理するものである。

それ故に本発明は硫化水素含有ガスの硫黄成分
をクラウスプラント中に於て元素状硫黄に転化せ
しめ、かくて形成された硫黄を次に工程から除去
し、且つ反応排出ガスを遊離水素―及び（又は）
遊離一酸化炭素―含有のガスと共に175℃以上の
温度で硫化第六族及び（又は）第八族金属触媒で
あつて無機酸化物担体上に支持されたものの上に
通過せしめ、然る後かくて得られた還元排出ガス
を硫化水素用の液体であつて再生可能の吸収剤に
通過せしめ、該還元排出ガスの非吸収部分を大気
中に放出し、硫化水素豊富吸収剤を再生し且つ、
別の硫化水素吸収用に再使用し、該再生で放出さ
れる硫化水素豊富ガス混合物をクラウスプラント
に通過せしめる硫化水素含有ガス仕上げの改良方
法に於て、二酸化炭素20容量％以上を含んでなる
硫化水素含有ガスの１部を該クラウスプラントを
迂回流せしめ且つ直接硫化水素用の液体且つ再生
可能の吸収剤と接触せしめることを特徴とする方
法に関する。

クラウス反応なる語では元素的硫黄及び水が製
造される硫化水素と二酸化硫黄との間の反応を意
味する。クラウスプラントなる語では加熱地帯を
組込んだクラウス反応実施のプラントを意味し、
この中で硫化水素を部分的に燃焼して正当な割合
の二酸化硫黄を製造し、これが次に非燃焼硫化水
素と反応して硫黄と水を与え、該硫黄は次に凝縮
して除去し、引続き―又はそれ以上の触媒地帯に
より同一の反応を更に促進し余分な硫黄を除去す
るものである。

クラウス排出ガスなる語ではクラウスプラント
の最終触媒地帯の後に得られるような残留ガスと
理解されるであろう。クラウス方法を適用するの
は慣例であつて、これでは二帯に就て使用をする
が、その上第三の触媒地帯を通常使用する。略々
２：１の比の硫化水素及び二酸化炭素の他に、こ
の型の排出ガスは又硫黄、酸素、窒素及び若しも
クラウスプラントを空気と共に操作するならば少
量の不活性ガス、水蒸気としての水、二酸化炭素
及び少量の一酸化炭素、硫化カルボニル及び二硫
化炭素を包含する。

本発明による方法は40―85容量％の二酸化炭素
を含有する硫化水素含有ガスに対して特に適当に
適用される。けれどもより高量の二酸化炭素を含
有するガスでも使用することが出来る。

本発明の特定の実施例では、非選択的であるか
又は部分的選択的である吸収工程から硫化水素／
二酸化炭素を含有するガスを得て、そしてクラウ
スプラントを迂回せしめるガスの部分は還元され
たクラウス排出ガスと共に、選択的である吸収工
程を受けしめる。この実施例の利益は硫黄成分及
び二酸化炭素の両成分が非選択的ガス精製工程で
除去されて清浄な生成物ガスを与えるようにな
り、且つ選択的吸収工程を直接通過する硫化水素
含有ガス中に含まれる二酸化炭素は非常に少量し
か、ガス再循環を経由してクラウスプラントに返
されない。非選択的ガス精製工程で使用される吸
収剤は硫黄化合物及び二酸化炭素を共に容易に吸
収する何れかの吸収剤とすることも出来る。かか
る吸収剤の例はスルフイノール及びモノエタノー
ルアミンである。“選択的吸収”なる表現は、硫
化水素が二酸化炭素に比し選択的に吸収されるこ
とを意味する。

選択的吸収工程に使用する吸収剤はなるべくア
ミン又は置換アミンの水性溶液がよい。この型の
吸収剤は当業者によく知られており、就中ジアル
キル置換アミノ酸のアルカリ金属塩、例えばジメ
チルアミノ酢酸カリウム及びアルカノールアミン
類を包含する。ポリアルカノールアミン例えばジ
―又はトリ―エタノールアミン又はジ―（イソ）
―プロパノールアミンは非常に適当に使用され
る。然し乍ら特に好ましいものは第三級置換窒素
原子を有するアルカノールアミン及びかかる化合
物に就てメチルジエタノールアミンが硫化水素及
び二酸化炭素の異常に高度の選択的分離を与え、
従つて本方法に於て最も有利に使用される。吸収
剤が選択的であればある程クラウスプラントに再
循環せしめる二酸化炭素の量が少くなり、従つて
二酸化炭素の該系中に於て増強する範囲は最少に
なる。その結果クラウスプラントを迂回せしめる
に要する硫化水素含有ガスの量は減少する。

本発明の別の好ましい実施態様に於ては、還元
された排出ガス及び遜回硫化水素／二酸化炭素を
含有るガスを20段以下の棚を有する吸収塔中の吸
収剤と接触せしめ、その中で吸収剤とガス流を向
流にするが、該硫化水素／二酸化炭素を含有する
ガスは還元された排出ガスを塔中に導入する点よ
りも吸収剤入口から遥かに離れた点で塔入中に導
入する。この方法に於ては、最高百分率量の硫化
水素含有流れ（即ち迂回路流れ）は、吸収剤が低
百分率の硫化水素含有還元クラウス排出ガスと接
触して清浄にした後に吸収剤と接触するようにな
る。吸収操作の効率はこれにより高められる。

クラウスプラントを迂回する硫化水素含有ガス
のこれを通過するガスに対する百分率は広範囲に
変化し、主として該ガスの二酸化炭素含量に依存
しているが、尤もクラウスプラント自体の設計も
一役買つている。原理としては、迂回路のものは
クラウスプラントに対する全流量の５―95％の範
囲となり得るであろう。然し乍ら通常二酸化炭素
含量40乃至85％を有する硫化水素含有ガスを処理
する時には、迂回路範囲は全流量の40乃至70％の
間にある。

本発明による方法は高度の二酸化炭素含量を有
する総ての硫化水素含有ガスに対して適当に使用
される。それ故例えば高量の二酸化炭素を含有す
る天然又は合成のガスを清浄にする方法によつて
回収される硫化水素含有ガスは非常に適当に使用
される。本方法は部分的燃焼方法から出るガスの
精製に使用する吸収方法によつて得られる硫化水
素含有ガスに対し特に有利に適用される。

元素的硫黄の回収用の最終床及び適切な凝縮器
を通過してしまつた後は、クラウス排出ガスは通
常130℃乃至170℃の温度を有する。然し乍ら第六
族及び（又は）第八族金属触媒上の還元段階に対
しては、該排出ガスはより高い温度を有しなけれ
ばならず、従つてこの排出ガスは先づ175℃以上
の温度に加熱する。該クラウス排出ガスはなるべ
く180℃乃至350℃の範囲の温度に上昇めしめ、更
に好ましくは200℃と300℃との間にする。

175℃以上への温度上昇も排出ガス中の煙霧の
形の少量の元素的硫黄の存在の故に重要である。
このいやな硫黄煙霧は硫黄の露点以上の温度に上
昇せしめることによつて消散する。温度を175℃
以上、なるべくは180℃以上に上昇せしめる結果
として、ガス相中の元素的硫黄の存在は使用すべ
き還元触媒活性度に逆効果を有しないことも見出
されている。

175℃以上の温度に加熱した後は、該クラウス
排出ガスは水素又は水素含有ガスと共に硫化第六
族及び（又は）第八族金属触媒上に通過せしめて
二酸化硫黄を還元して硫化水素にするようにす
る。同時に硫化水素以外の元素的硫黄及び硫黄化
合物を硫化水素に転化せしめる。使用する還元触
媒は第六族金属としてのモリブデン、タングステ
ン及び（又は）クロム及びなるべくは第八族金属
としての鉄族からの金属例えばコバルト、ニツケ
ル及び（又は）鉄を含有する触媒とするとよい。
無機酸化物担体はアルミナ、シリカ、マグネシ
ア、ボーリア（boria）、トリア、ジルコニア又は
これら２種又はそれ以上の混合物とするとよい。
本発明方法により使用する適当な還元触媒は
Ni／Mo／Al₂O₃又はCo／Mo／Al₂O₃触媒であ
る。

該排出ガスと水素及び（又は）一酸化炭素含有
ガスとの処理はなるべく180℃乃至350℃の範囲の
温度で行うのがよく、更に好ましくは200℃と300
℃との間がよい。適用圧力は主として大気圧であ
るけれども、必要あれば僅かに上昇した圧力を使
用してもよい。還元中適用するガスの毎時空間速
度は触媒ｌ当り毎時500乃至10000NIのクラウス
排出ガスである。

使用する水素及び（又は）一酸化炭素含有のガ
スは有利には両化合物を含有するガス、例えば都
市ガス、水性ガス及び合成ガスとするとよい。純
枠の水素又は一酸化炭素も同様に使用することが
出来る。適当な水素豊富ガス又はガス混合物は、
接触改質装置の排出ガス、水素プラントで製造さ
れるガス又は石油よりの飽和粗ガス用処理装置か
ら得られるガスである。

水素含有ガスはなるべく少なくとも20容量％の
H₂又は当量の水素及び一酸化炭素を含有すると
よい。水素又は水素含有ガスは、水素と二酸化硫
黄の比が３：１乃至15：１の量で使用する。この
比はなるべく3.5：１乃至８：１とするとよい。

上記の範囲は水素及び一酸化炭素両方を含有す
る還元ガス混合物を使用する時と、一酸化炭素単
独で使用する時とは同一のままであるが、これは
一酸化炭素が水素と当量であるからである。若し
元素的硫黄が該クラウス排出ガス中にも存在すれ
ば、水素及び（又は）一酸化炭素の必要量はSO₂
％としての元素的硫黄に就て計算することも出来
る。

吸収後は硫化水素豊富吸収剤は加熱及び（又
は）ストリツピングにより再生するが、これが硫
化水素豊富ガス混合物及び再生吸収剤を製造し、
再使用することが出来る。然し乍ら再生は決して
完全ではなく、且つ二酸化炭素は長期使用後は吸
収剤中に増強され、特に若しクラウス排出ガスが
高CO₂含量を有すると、このガスは上記水素及び
（又は）一酸化炭素含有ガスと処理した後に、な
るべく硫化水素の選択性を増強するため、それ故
溶媒の循環速度を減少せしめるためにアミン又は
置換アミンと低温で接触せしめ、その間高いガス
速度を使用するのがよく、該接触は20段以下の接
触棚を有する吸収塔中で行う。更に好ましくは吸
収塔が４乃至15段の接触棚を有するとよい。使用
するガス速度は少なくとも1.0m／secであつて、
更に好ましくは２乃至4m／secである。このガス
速度は“活性”又は曝気棚表面を基準にしてい
る。

低い吸収剤温度は硫化水素／二酸化炭素の分離
の選択性を高める。該温度はなるべく40℃以下が
よく、最も満足すべき結果は５℃乃至30℃の範囲
の温度で得られる。該クラウス排出ガスはアミン
又は置換アミンの水性溶液と大気圧又は実質的な
大気圧で接触せしめる。

吸収剤を通過せしめてしまつた時には、排出ガ
スの非吸収部分であつて今や非常に少量の水素及
び硫化水素の根跡の他に主として窒素及び二酸化
炭素からなるガスを大気中に放出する。若し望む
ならば、この非吸収部分も通常の方法で煙道に通
過せしめる前に焼成してもよい。

硫化水素豊富吸収剤の再生により遊離され、且
つ又幾分かの二酸化炭素及び水をも含有する硫化
水素ガスは、先ず冷却してその中に存在する水を
凝縮するようにする。通常少なくもこの水の部分
を再生段階に循環して水性吸収剤の水含量を必要
水準に維持するようにする。冷却後硫化水素豊富
ガスをクラウスプラントに通過せしめて該ガスよ
り元素的硫黄を回収するようにする。本発明方法
はクラウス排出ガスに適用されるので、再生で得
られる硫化水素ガスは最も適当に同一クラウスプ
ラントに再循環せしめられる。

本発明を今や単一図面に関して説明するが、こ
れは簡単化した工程流れ計画を説明するものであ
り、この中で設備の副次的項目例えばポンプ、
弁、冷却器等は除外してある。

数字１では部分的燃焼方法から発生する硫化水
素／二酸化炭素の含有ガスが非選択的吸収／再生
の装置２へ通過せしめられる線を示す。実質的に
硫化水素及び二酸化炭素のない生成物ガスは線３
を経て該装置を離れ、且つ硫化水素／二酸化炭素
の豊富なガスは線４を経て離れる。後者ガス部分
は線５を経てクラウスプラント７を迂回し、残余
のものは線６を経て該クラウスプラントに通過す
る。クラウスプラント７は熱的段階及び爾後冷却
器／硫黄凝縮器及び多数の接触段階であつて中間
段階冷却器／硫黄凝縮器（図示せず）有するもの
を組込んでいる。該ガスはクラウスプラント中で
転化され、酸素含有ガスは線８を経由して供給さ
れ、元素的硫黄は線９を経由して除去される。ク
ラウスプラント排出ガスは線１０及び熱交換器１
１を経由して流れ―熱交換器の代りに線型燃焼器
を使用してもよい―反応器１２に到るが、この中
で該ガスは還元触媒の存在の下に線１３を経由し
て供給される水素含有ガスによつて還元される。
還元された排出ガス線１４を経由して反応器１２
を離れ、熱交換器１５中で冷却され、その後これ
が迂回流れ５と一緒に選択的吸収／再生の装置１
６に通過する。主として二酸化炭素及び窒素から
なる排出ガスの非吸収成分は線１７を通つて装置
１６から排棄される。硫化水素根跡の総てを転化
せしめるためには該ガス線１９を経由して大気中
に放出する以前に燃焼炉１８中で焼成する。吸
収／再生の装置１６の再出生段階から得られる硫
化水素化水素豊富ガスは線２０を経由してクラウ
スプラントに再循環せしめられる。

図面に於てクラウスプラントに対する供給流れ
は該プラント中への導入以前に於て分離されてい
ることが観察される。実際の操作例えば精製に於
ては、２個又はそれ以上の非選択的吸収再生装置
２を並列に操作することが充分可能であり、この
並列装置は必ずしも同型のガスを処理する必要は
ない。このような場合、最高の二酸化炭素含量を
有する硫化水素含有ガスのその流れは、全体とし
て選択的吸収／再生の装置１６に供給してもよい
が、低二酸化炭素含量を有する第二の硫化水素含
有流れは全体としてクラウスプラント７に供給す
るとよい。

原理的には何れかの硫化水素含有ガスの上記方
法による処理をすることは可能であるが、これに
就きガスを装置１６の通過せしめることによつて
直接該クラウスプラントに導入することは、一つ
又は別の理由により好ましくない。

本発明の実際的応用を次の例に就て説明する。

例 １ 部分的燃焼工程から発生する合成ガス精製用に
使用するスルフイノール吸収剤の再生によつて得
られる硫化水素／二酸化炭素の含有ガス200キロ
モル／時を実質的に図面に示すような方法で処理
した。該硫化水素／二酸化炭素の含有ガスは次の
組成を有した。

H₂S 22容量％ CO₂ 72容量％ H₂O ５容量％ 炭化水素 １容量％ ガス流の50％が直接クラウスプラントを通過
し、更に50％が該プラントを迂回して、該クラウ
スプラント排出ガスに関して操作する還元反応器
につづく選択的吸収／再生装置を直接通過した。
この吸収／再生の装置は、メチルジエタノールア
ミンの水性溶液を使用するが、その濃度は該アミ
ンに就て略々２モルであり、再生により酸性ガス
を生じ、これを該クラウスプラントに再循環せし
めた。この酸性ガスは47キロモル／時にあたり、
次の組成を有した。

H₂S 52容量％ CO₂ 44容量％ H₂O ４容量％ 該クラウスプラントに入る結合供給流れと再循
環流れとの量は147キロモル／時であつて、その
組成は次の通りであつた。

H₂S 32容量％ CO₂ 63容量％ H₂O 43容量％ 炭化水素 0.7容量％ この結合流れは該クラウスプラント中で燃焼し
て元素的硫黄を製造するが、これは該工程から除
去し、次に該クラウス排出ガスを加熱して反応器
に通過せしめ、其処で硫化Co／Mo／Al₂O₃触媒
上水素の存在の下に230℃の温度で還元した。反
応器を離れるガスは55℃に冷却し、且つ選択的吸
収／再生の装置に通過せしめるがこれに就ての吸
収塔は20段以下の接触棚を有するものであつた。
迂回路供給流れはこの同一吸収塔に入るが、吸収
剤入口の点から遥かに離れた点に入つた。

処理ガスは次に焼成炉に装入し、燃焼して
500ppm以下の硫黄を有するガスを与えるように
する。本方法の総括効率は除去硫黄化合物の百分
率で表わすと99.6％であつた。

提案した迂回流の結果として該クラウスプラン
トは若しも迂回流を使用しなかつた場合の200キ
ロモル／時の代りに147キロモル／時のガスを処
理すれば足りることに注目しなければならない。
従つて該クラウスプラントはより小型に作ること
が出来る。更に処理すべき供給流れは迂回流なし
の場合より高いH₂S含量を有しており、これは該
クラウスプラントの熱的段階の操作に有利でであ
ることを認めることが出来る。

例 ２ 例１に於て述べたような供給流れ処理プラント
を変形して化学プラントの低圧排出ガスも処理す
るようにする。この付加的排出ガスは20キロモ
ル／時の量で得られ、次の組成を有した。

H₂S 10容量％ CO₂ 85容量％ H₂O ５容量％ この付加的排出ガを、クラウスプラント排出ガ
スに関して操作する還元反応器につづく選択的吸
収／再生装置に直接通過せしめた。該排出ガスは
この装置の吸収塔に吸収剤の入口と迂回供給流れ
の入口の間の点で入れた。

例１に於けると同様のままの総ての条件で再生
によつて得られ該クラウスガスに再循環せしめる
酸性ガスの量は52キロモル／時であつた。これは
次の組成であつた。

H₂S 52容量％ CO₂ 44容量％ H₂O ４容量％ 該クラウスプラントに入る結合した供給流れと
再循環流れの量は152キロモル／時であつて、そ
の組成は次の通りであつた。

H₂S 32.1容量％ CO₂ 62.6容量％ H₂O 4.6容量％ 炭化水素 0.7容量％ 本方法の総括効率は除去硫黄化合物に就て99.6
％位である。

追加の関係 原発明（特願昭46−52156号）はクラウス法排
出ガスが175℃以上の温度において水素および／
または一酸化炭素含有ガスと共に無機酸化物型担
体上に担持された族および／または族金属硫
化物触媒上に通過され、そののち斯く処理された
排出ガスが液状で且つ再生可能な硫化水素の吸着
剤上に通され、該排出ガスの未吸着部分は所望に
応じて焼却した後大気中に放出され、硫化水素含
有吸着剤は再生され更に硫化水素を吸着するため
に再使用され、且つ再生中に遊離された硫化水素
リツチガス混合物はクラウス法工程に通されるこ
とを特徴とするクラウス法排出ガスの総イオウ含
有率を低下させる方法に関するものである。これ
に対し本発明は、原発明に係る硫化水素含有ガス
の硫黄成分をクラウスプラント中に於て元素状硫
黄に転化せしめ、かくて形成された硫黄を次に工
程から除去し、且つ反応排出ガスを遊離水素―及
び（又は）遊離一酸化炭素―含有のガスと共に
175℃以上の温度で流化第六族及び（又は）第八
族金属触媒であつて無機酸化物担体上に支持され
たものの上に通過せしめ、然る後かくて得られた
還元排出ガスを硫化水素用の液体であつて再生可
能の吸収剤に通過せしめ、該還元排出ガスの非吸
収部分を大気中に放出し、硫化水素豊富吸収剤を
再生し且つ別の硫化水素吸収用に再使用し、該再
生で放出される硫化水素豊富ガス混合物をクラウ
スプラントに通過せしめる硫化水素含有ガス仕上
げの改良方法に於て、二酸化炭素20容量％以上を
含んでなる硫化水素含有ガスの１部を該クラウス
プラントを迂回流せしめ且つ直接硫化水素用液体
且つ再生可能の吸収剤と接触せしめることを特徴
とする法に関する。

かように本発明は、原発明の構成に欠くことの
できない事項の主要部をその構成に欠くことがで
きない事項の主要部としている発明であつて、原
発明と同一の目的を達成するものであるから、本
発明は明らかに特許法第31条第１号に規定の追加
の特許の要件をみたすものである。

【図面の簡単な説明】

図は簡単化された工程流れ図を示す。 ２…非選択的吸収／再生装置、５…迂回流れ、
７…クラウスプラント、１１，１５…熱交換器、
１２…反応器、１６…選択吸収／再生装置、１８
…燃焼炉。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 硫化水素含有ガスの硫黄成分をクラウスプラ
   ント中に於て元素状硫黄に転化せしめ、かくて形
   成された硫黄を次に工程から除去し、且つ反応排
   出ガスを遊離水素―及び（又は）遊離一酸化炭素
   ―含有のガスと共に175℃以上の温度で硫化第六
   族及び（又は）第八族金属触媒であつて無機酸化
   物担体上に支持されたものの上に通過せしめ、然
   る後かくて得られた環元排出ガスを硫化水素用の
   液体であつて再生可能の吸収剤に通過せしめ、該
   還元排出ガスの非吸収部分を大気中に放出し、硫
   化水素豊富吸収剤を再生し且つ、別の硫化水素吸
   収用に再使用し、該再生で放出される硫化水素豊
   富ガス混合物をクラウスプラントに通過せしめる
   硫化水素含有ガス仕上げの改良方法に於て、二酸
   化炭素20容量％以上を含んでなる硫化水素含有ガ
   スの１部を該クラウスプラントを迂回流せしめ且
   つ直接硫化水素用の液体且つ再生可能の吸収剤と
   接触せしめることを特徴とする方法。 ２ 硫化水素含有ガスが40―85容量％の二酸化炭
   素を含有する特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 非選択的であるか又は部分的選択的である吸
   収工程から硫化水素／二酸化炭素を含有するガス
   を得て、そしてクラウスプラントを迂回せしめる
   ガスの部分に、選択的である吸収工程を受けしめ
   る特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方法。 ４ 液体且つ再生可能の吸収剤が第三級置換窒素
   原子を有するアルカノールアミンである特許請求
   の範囲第１項乃至第３項のいずれか記載の方法。 ５ 還元排出ガス及び迂回硫化水素／二酸化炭素
   を含有するガスを20段以下の棚を有する吸収塔中
   の吸収剤と接触せしめ、しかも、吸収剤とガスの
   流れを向流にし、硫化水素／二酸化炭素を含有す
   るガスを還元排出ガスの塔中導入点より吸収剤入
   口から遥かに離れた点で塔中に導入する特許請求
   の範囲第１項乃至第４項のいずれか記載の方法。 ６ 硫化水素／二酸化炭素を含有するガスの40乃
   至70％をクラウスプラントを迂回せしめ、且つ直
   接に硫化水素用の液体且つ再生可能の吸収剤と接
   触せしめる特許請求の範囲第１項乃至第５項のい
   ずれか記載の方法。 ７ 硫化水素／二酸化炭素を含有するガスを、部
   分的燃焼方法によつて発生するガスの精製用に使
   用される吸収工程から得る特許請求の範囲第１項
   乃至第６項のいずれか記載の方法。 ８ ２又はそれ以上の別々の流れの硫化水素／二
   酸化炭素を含有するガスを該吸収塔中に導入す
   る、特許請求の範囲第５項又は第６項記載の方
   法。