JPS5936202A - カラ−フイルタアレイ形成方法 - Google Patents
カラ−フイルタアレイ形成方法Info
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- JPS5936202A JPS5936202A JP57146532A JP14653282A JPS5936202A JP S5936202 A JPS5936202 A JP S5936202A JP 57146532 A JP57146532 A JP 57146532A JP 14653282 A JP14653282 A JP 14653282A JP S5936202 A JPS5936202 A JP S5936202A
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- color filter
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- coated
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- Pending
Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、カラー用固体撮像素子のカラーフィルタアレ
イ形成方法に関する。
イ形成方法に関する。
カラー撮像素子は、基板の表面に形成した多数の光電変
換画素にそれヂれ一定順序でカラーフィルタを被覆形成
している。この、カラーフィルタアレイは、第１図に図
示する工うな工程を経て形成さｎている。まず、光電変
換画素を形成した基板１１）にポリイミドのポリマーを
コーティングする（第１図Ｃ参照）。このポリマ一層（
２）の表面にフォトレジストをコーティングする（第１
図Ｃ参照）０このフォトレジ層（３）を露光現像処理し
て、所定間隔のスポット（６ａ）・・・を形成する（第
１図Ｃ参照）０このスポット（６ａ）・・・は６個毎の
光電変換画素に対応して形成されており、とのスボツ）
（６ａ）・・・に対応する前記ポリマ一層（２）を第１
の色で染色処理する（第１図り参照）。染色後前記フォ
トレジスト層１３）を除去する（第１図Ｃ参照）。以後
、第２の色と第６の色による染色を為すため、前述のフ
ォトレジストコーティング作業以下の工程を更に２度繰
り返す。
換画素にそれヂれ一定順序でカラーフィルタを被覆形成
している。この、カラーフィルタアレイは、第１図に図
示する工うな工程を経て形成さｎている。まず、光電変
換画素を形成した基板１１）にポリイミドのポリマーを
コーティングする（第１図Ｃ参照）。このポリマ一層（
２）の表面にフォトレジストをコーティングする（第１
図Ｃ参照）０このフォトレジ層（３）を露光現像処理し
て、所定間隔のスポット（６ａ）・・・を形成する（第
１図Ｃ参照）０このスポット（６ａ）・・・は６個毎の
光電変換画素に対応して形成されており、とのスボツ）
（６ａ）・・・に対応する前記ポリマ一層（２）を第１
の色で染色処理する（第１図り参照）。染色後前記フォ
トレジスト層１３）を除去する（第１図Ｃ参照）。以後
、第２の色と第６の色による染色を為すため、前述のフ
ォトレジストコーティング作業以下の工程を更に２度繰
り返す。
上述する従来の工程でに、フォト１／シストコーテイン
グ作業以下の工程を６回経なければならず、工程数が多
いために歩留りが悪かった。
グ作業以下の工程を６回経なければならず、工程数が多
いために歩留りが悪かった。
そこで、本発明に、フォトレジストを着色すること［、
［つで前述の作業工程を大＠ＫＷ１５略化した新規且つ
有効なカラーフィルタアレイ形成方法を提案するもので
ある。
［つで前述の作業工程を大＠ＫＷ１５略化した新規且つ
有効なカラーフィルタアレイ形成方法を提案するもので
ある。
第２図に、本発明の一実施例を示す工程説明図である。
本実施例はまず、光電変換画素を多数形成した基板（１
）上に、ＥＡＥＩＴＭＡＮポリエステルレッド２Ｇ（商
品名）を重量比で５％混入した熱架橋型ポジ形レジスト
（メタクリル酸メチルとメタクリル酸クロリドを５１
：４９で共重合させたものを、溶剤メチルセロンルブア
セテートで溶かしたもの）を１μｍ塗布する（第２図人
参照）。
）上に、ＥＡＥＩＴＭＡＮポリエステルレッド２Ｇ（商
品名）を重量比で５％混入した熱架橋型ポジ形レジスト
（メタクリル酸メチルとメタクリル酸クロリドを５１
：４９で共重合させたものを、溶剤メチルセロンルブア
セテートで溶かしたもの）を１μｍ塗布する（第２図人
参照）。
次に、この塗布層の乾燥と架橋のため１５０’Ｃの窒素
雰囲気下で６０分間ベークし赤色フィルター＃ １４１
を基板（１）上全面に形成する。次に、ビーム径を０．
５μｍとし露光ｉｔｔ’７ Ｘ １０ Ｃ／ｌｖ ト
Ｔル寛子線にて所定位１ｉ１’Ｙ露光し、メチルイソブ
チルケトンとインプロピルアルコールを１：５の比で混
合して成る現象液にて現像し、所定の第１ピツ１（４ａ
）・・・を形成する（第２図Ｂ）。次に８０゛Ｃの窒素
雰囲気で１０分間乾燥し、今度は、ＫＡＳＴＭＡＮポリ
エステルブルーＧＲ（商品名）を重量比で５俤混入した
熱架橋型ポジ形レジストをに１のビン？（４ａ）・・・
が埋められる程度塗布する（第２図Ｃ参照）。塗布後、
乾燥と架橋のため、１５０’Ｃの窒素ず囲気で１５分乾
燥して青色フィルタ（５）を形成する。次に、前述同様
の方法に工って電子線露光と現像によって新たに第２の
ビット（５ａ）・・・を第１ビツト（４ａ）・・・に続
いて形成する（第２図り参照）。次に再び８０°Ｃの窒
素雰囲気で乾燥した第２ビツト（５ａ）に、ＥＡＳＴＭ
ＡＮボ゛リエステルイエロー７ＧＴ（商品名）とＥｋＳ
ＴＭＡＮポリエステルブルーＧＲ（商品名）とを６：４
で混合して成る染料を５チ混合せしめた前述同様の熱架
橋型ポジ型レジストを埋める様塗布する（第２図Ｃ参照
）。塗布後、１５０℃の窒素雰囲気で６０分間ベークし
、緑フィルタ（６）を形成する。最後に不要なレジスト
が重なっている表面を、メチルインブチルケトンとイソ
プロピルアルコールを１：６に混合した溶液中で除去し
く第２図Ｆ診照）、８０“Ｃの窒素雰囲り、で１０分間
乾燥させる〇 工って上述する様な工程を経て製造されるカラーフィル
タアレイは工程数が少ないため従来例に比し高い歩留り
Ｚ得ることができる。尚本実施例のレジストに電子線Ｖ
ｃ工って露光されるものを採用したが、光学的に露光さ
れるレジストを採用することもでき、光学的に露光する
場合も本発明にぎまれることは言う迄もない。
雰囲気下で６０分間ベークし赤色フィルター＃ １４１
を基板（１）上全面に形成する。次に、ビーム径を０．
５μｍとし露光ｉｔｔ’７ Ｘ １０ Ｃ／ｌｖ ト
Ｔル寛子線にて所定位１ｉ１’Ｙ露光し、メチルイソブ
チルケトンとインプロピルアルコールを１：５の比で混
合して成る現象液にて現像し、所定の第１ピツ１（４ａ
）・・・を形成する（第２図Ｂ）。次に８０゛Ｃの窒素
雰囲気で１０分間乾燥し、今度は、ＫＡＳＴＭＡＮポリ
エステルブルーＧＲ（商品名）を重量比で５俤混入した
熱架橋型ポジ形レジストをに１のビン？（４ａ）・・・
が埋められる程度塗布する（第２図Ｃ参照）。塗布後、
乾燥と架橋のため、１５０’Ｃの窒素ず囲気で１５分乾
燥して青色フィルタ（５）を形成する。次に、前述同様
の方法に工って電子線露光と現像によって新たに第２の
ビット（５ａ）・・・を第１ビツト（４ａ）・・・に続
いて形成する（第２図り参照）。次に再び８０°Ｃの窒
素雰囲気で乾燥した第２ビツト（５ａ）に、ＥＡＳＴＭ
ＡＮボ゛リエステルイエロー７ＧＴ（商品名）とＥｋＳ
ＴＭＡＮポリエステルブルーＧＲ（商品名）とを６：４
で混合して成る染料を５チ混合せしめた前述同様の熱架
橋型ポジ型レジストを埋める様塗布する（第２図Ｃ参照
）。塗布後、１５０℃の窒素雰囲気で６０分間ベークし
、緑フィルタ（６）を形成する。最後に不要なレジスト
が重なっている表面を、メチルインブチルケトンとイソ
プロピルアルコールを１：６に混合した溶液中で除去し
く第２図Ｆ診照）、８０“Ｃの窒素雰囲り、で１０分間
乾燥させる〇 工って上述する様な工程を経て製造されるカラーフィル
タアレイは工程数が少ないため従来例に比し高い歩留り
Ｚ得ることができる。尚本実施例のレジストに電子線Ｖ
ｃ工って露光されるものを採用したが、光学的に露光さ
れるレジストを採用することもでき、光学的に露光する
場合も本発明にぎまれることは言う迄もない。
第１図は従来のカラフィルタアレイ製造工程ン示す説明
図であり、第２図は本発明の一実施例に係るカラーフィ
ルタアレイ製造工程の説明図である０ 王な図番の説明 （１）・・・基板、（４）・・・赤色フィルター、（５
）・・・青色フィルター、（６）・・・緑色フィルター
、（４ａ）・・・第１ピツト、（５ａ）・・・第２ビッ
ト０
図であり、第２図は本発明の一実施例に係るカラーフィ
ルタアレイ製造工程の説明図である０ 王な図番の説明 （１）・・・基板、（４）・・・赤色フィルター、（５
）・・・青色フィルター、（６）・・・緑色フィルター
、（４ａ）・・・第１ピツト、（５ａ）・・・第２ビッ
ト０
Claims (1)
- ｉｌ＋、固体撮像水子表面に第１の染料を含むポジ形レ
ジストを塗布して第１のカラーフィルタを形成する工程
と、前記第１のカラーフィルタを露光現像して第１のビ
ットを形成する工程と、前記第１のビット内に第２の染
料ン含むポジ形レジストを塗布して第２のカラムフィル
タを形成する工程と、前記第１のカラーフィルタの一部
ｗｔＫ元現像して前記第１のビットに続く第２のピッｔ
ｌ形Ｊｉｌる工程と、前記第２のビット内に第６の染料
を含むポジ形レジストを塗布する工程と工９成るカラー
フィルタアレイの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57146532A JPS5936202A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | カラ−フイルタアレイ形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57146532A JPS5936202A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | カラ−フイルタアレイ形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5936202A true JPS5936202A (ja) | 1984-02-28 |
Family
ID=15409769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57146532A Pending JPS5936202A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | カラ−フイルタアレイ形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5936202A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6194004A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-12 | Nec Corp | カラ−フイルタ−製造方法 |
| JPH02127602A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-05-16 | Polaroid Corp | カラーフィルターの製造方法 |
-
1982
- 1982-08-23 JP JP57146532A patent/JPS5936202A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6194004A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-12 | Nec Corp | カラ−フイルタ−製造方法 |
| JPH02127602A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-05-16 | Polaroid Corp | カラーフィルターの製造方法 |
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