JPS5934166B2 - 酢酸ビニルの製造方法 - Google Patents

酢酸ビニルの製造方法

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JPS5934166B2
JPS5934166B2 JP12840480A JP12840480A JPS5934166B2 JP S5934166 B2 JPS5934166 B2 JP S5934166B2 JP 12840480 A JP12840480 A JP 12840480A JP 12840480 A JP12840480 A JP 12840480A JP S5934166 B2 JPS5934166 B2 JP S5934166B2
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安彦 喜嶋
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雄 宮内
隆夫 近藤
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は酢酸ビニルを分離しながら無水酢酸と水素を反
応させて、無水酢酸と水素から直接、酢酸ビニルを高収
率で製造する方法に関する。
さらに詳しくは、パラジウム、ロジウムおよびルテニウ
ムよりなる群から選ばれる1種以上の金属および/また
はその化合物とスルホン酸の存在下に、酢酸ビニルを分
離しながら無水酢酸と水素とを140〜250℃で反応
させ、生成酢酸ビニルを分離することを特徴とする酢酸
ビニルの製造方法に関する。従来、酢酸ビニルの製造方
法としてはアセチレンを原料とする方法が古くから知ら
れていたが、近年、エチレンに原料転換する方法が開発
され、有利なエチレン法に変つてきた。
エチレンから酢酸ビニルの直接合成は塩化パラジウム触
媒あるいはこの系に酢酸ソーダを共存させるなどの方法
が端緒であつた。一方また、これとは別の方法としてア
セトアルデヒドおよび無水酢酸を素原料としてエチリデ
ンジアセテート(1・1−ジアセトキシエタン)を経由
して、あるいは直接、酢酸ビニルおよび酢酸に変換する
方法が提案されている。〔例えば、Hydrocarb
onProcess)44(ll)287(1965)
、英国特許1112555、米国特許2021698、
2425389、2860159等があげられる。〕す
なわち、これらの方法はアセトアルデヒドと無水酢酸と
の直接反応によるものや、アセトアルデヒドと無水酢酸
との反応で一旦エチリデンジアセテートを製造し、次に
これを熱分解して酢酸ビニルを製造する方法として知ら
れている。本発明者らは無水酢酸を原料とする合理的な
酢酸ビニルの製造方法について鋭意研究をつづけたとこ
ろ無水酢酸と水素とを反応させて、一段で酢酸ビニルを
合成するという新規な反応を見い出し、新しい酢酸ビニ
ルの製造方法を完成した。
すなわち本発明はパラジウム、ロジウムおよびルテニウ
ムよりなる群から選ばれる1種以上の金属および/また
はその化合物とスルホン酸並びに一酸化炭素の存在下に
、酢酸ビニルを分離しながら温度140〜250℃で無
水酢酸と水素とを反応させて酢酸ビニルを製造すること
を特徴とする酢酸ビニルの製造方法である。本発明によ
る無水酢酸の水素還元反応の詳細な反応機構は明確では
ないが総合反応として次の化学反応式によつて表わすこ
とができる。上記化学式で表わされる反応はパラジウム
、ロジウムおよびルテニウムよりなる群から選ばれる1
種以上の金属および/またはその化合物とスルホン酸を
触媒として使用することにより、反応を好適に進めるこ
とができる。
金属触媒の形態は任意のあらゆる型で利用できる。
たとえば、金属それ自体、または微粉砕した形の金属、
ラネー金属の形態あるいは炭酸塩、酸化物、過酸化物、
水酸化物、硝酸塩、燐酸塩、・・ロゲン化物、シアン化
物、チオシアン化物、スルフォン酸塩、C1〜C5の低
級アルコキシドたとえばメトキシドまたはエトキシド、
フエノキシド、カルボキシイオンが1〜20炭素原子の
アルカン酸から誘導される金属カルボン酸塩、オキシハ
ロゲン化物、水素化物、カルボニル、亜硝酸塩、亜硫酸
塩、亜リン酸塩、アセチルアセトン塩、硫化物、および
アンモニア、シアン、アミン類、アミノ酸類等を配位し
た化合物がある。その一部を例示すれば、Pd金属、P
dX2、PdX2・2H20、PdX22NH3、Pd
(CN)2、〔Pd(PPh3)2〕Cl2、 Pd〔(n−C4H,)3P〕(CO)Cl2、Pd2
H、Pd(0H)2、Pd(0H)2・2NH3、Pd
(NO3)2、Pd2O、PdO.PdO2、PdSO
4・2H20、Pd2S,.PdS.PdS2、Pd3
(PO4)2、Na2PdX4.K2PdXぃLi2P
dX4、Pd(0Ac)2、Pd(AcAc)2、Pd
X2(PhCN)2、Pd(SCN)2、Pd(NC)
2、ベンゼンスルホン酸パラジウム、Rh金属、RhX
3、RhX3・3H20.Rh(0H)3、Rh(NO
3)3・2H20.Rh0.Rh02、Rh2O3、R
h2(SO4)3・6H20、RhS、〔Rh(AcO
)2〕2、Rh2(CO)3、Rh6(CO)16Rh
(PPh3)2(CO)Cl2、〔RhX(CO)2〕
2、Rh(AcAc)3、Rh(SCN)3、RhCl
(PPh3)3、Rh(0Ph)3、Ru金属、RUX
2、RUX3、RuX4.Ru(0H)3、RUO2、
RU2O3、Ru(NO3)3・6H201Ru(CO
)212、RU(CO)12、(上記式中のXは0F,
.C1、BrまたはI,.Phはフェニル基、AdOは
アセトキシ基、AcAcはアセチルアセトネート基をそ
れぞれ示す。
)があげられる。また、シリカ、ポリ塩化ビニルあるい
はホスフィン、シリル、アミン、ピリジンまたはスルフ
イ5ド結合によつて交差結合されたポリスチレンージビ
ニルベンゼン基材に結合された第8族金属〔例えば、C
HEMTECHl56O−566p(1973);11
7−122p(1975)などに代表的に例示されてい
る。〕よりなる金属ポリマー錯体を用・θ いることも
できる。金属触媒は最初から、あるいは最終的に反応液
に可溶な形で使用して均一触媒とすることもできる。
この代りに不溶性または一部して溶解しない形のものを
使用して、不均一触媒系とすることも・5できる。不均
一触媒系の場合、金属化合物あるいは金属それ自体、微
粉砕した形の金属またはラネー金属などの形態でも使用
することも可能であるが、後述する担体上に担持して使
用することもできる。この場合、担持方法は例えば通常
の浸漬法、混練法、吸着法、共沈法、イオン交換法等に
よるがその他の方法も実施可能である。
その一部を例示すると金属あるいは金属化合物と、必要
に応じてその他の成分を含有する溶液を担体に含浸し、
ついでホルマリン、水素、ギ酸ソーダ、一酸化炭素、ナ
トリウムボローハイドライド、リチウムアルミニウムハ
イドライド、あるいはヒドラジンなどの通常の還元手段
によつて金属化合物を金属へ変性せしめて、乾燥するこ
とによつて行なわれるが、もとよりこれらの方法にのみ
限定されるものでなく、金属および/またはその化合物
を担持させうる限り、方法のいかんを問うものではない
。使用される担体としては炭素、グラファイト、骨炭、
アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、硫酸バリウム、ゼ
オライト、スピネル、マグネシア付アルミナ、トリア、
酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化トリウム、酸化ラ
ンタン、酸化セリウム、酸化亜鉛、タンタリウム、粘土
、ケイソウ土、セライト、アスベスト、軽石、ボーキサ
イト、白土、Super−FiltrOlのような天然
および処理された白土、炭化シリコン、沸石および沸石
モレキユラシーブ、セラミック蜂窩、ポリア、セメント
などが用いられるが好ましくは炭素、グラファイト、骨
炭、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、硫酸バリウム
、ゼオライト、スピネル、マグネシア付アルミナが用い
られる。上記担体は均一粒度および不均一粒度および毛
細管状の粒子として用いられ必要に応じて成型物、押出
物、セラミック棒、ボール、破壊細片、タイルおよびそ
れらの類似物のような型で用いられる。以上述べた如く
、本発明による金属触媒は均一触媒および不均一触媒の
いずれの形態でも使用できることを開示したが、触媒の
分離、回収を容易にするという点で不均一触媒を用いる
ことは好ましい実施態様である。
反応は金属触媒とともに芳香族スルホン酸の存在を必要
とする。
本発明で使用される芳香族スルホン酸限定でなく、単に
例示の目的であげる。
ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、キシレンス
ルホン酸、ナフタレンスルホン酸に代表される芳香族ス
ルホン酸。
本発明において使用する金属触媒の使用量は均一触媒を
用いるか不均一触媒を用いるか、あるいは不均一触媒の
場合反応を流動床で行なうか固定床で行なうかによつて
異なるが、原理的にはあらゆる範囲の使用量の適用が可
能である。
しかしながら一般的にいつて、金属基準で反応液に対し
て、1×10−4乃至25重量%、好ましくは5×10
1乃至20重量%、さらに好ましくは1×10−3乃至
15重量%の範囲が選択されるが、特に2.5×10−
3乃至10重量%の範囲は有効である。又、金属触媒と
ともに使用する芳香族スルホン酸の使用量は特に臨界的
ではないが、反応液に対して1×10−2乃至20重量
%、好ましくは1×10−1乃至15重量%、さらに好
ましくは2,5×10−1乃至10重量%の範囲が選択
されるが、特に5×10−1乃至5重量%の範囲は有効
である。
本発明の方法を実施するための反応は反応温度が20〜
300℃、特に140〜250℃の領域が特に有効であ
る。
反応全圧もまた反応液を液相に保ち、水素を適当な分圧
に保つのに十分であれば製造における重要なパラメータ
ーではない。水素の好適な分圧は0.05〜300気圧
、最適には0,1〜200気圧、さらに最適には0.2
〜100気圧であるが、これより広い0.01〜500
気圧の範囲の分圧でもさしつかえない。使用される水素
は必ずしも純度の高いものでなくても良く、酸化炭素、
二酸化炭素、メタン、窒素、希ガス等を含有していても
良い。原料ガスは合成ガス(一酸化炭素と水素の混合ガ
ス)の形態で供給されることができる。本発明の反応に
おいては、一酸化炭素は触媒を安定化し、副反応を抑制
する効果があり、一酸化炭素の存在下に反応を実施する
。従つて、水素ガス中に一酸化炭素が混在するものを用
いることは好ましい態様の一つである。したがつて、反
応ガス中に0.1モル%以上、好ましくは1モル%以上
、さらに好ましくは2モル%以上の一酸化炭素を混在さ
せることが好ましい。本発明の原料である無水酢酸は例
えばアセトアルデヒドの酸化、あるいはアセトアルデヒ
ドの酸化又はメタノールと一酸化炭素の反応により、生
成した酢酸をケテンを中間体として経由するいわゆるワ
ッカー法によつて供給することもできるし、あるいは酢
酸メチルと一酸化炭素の反応により生成した無水酢酸を
利用することもでき”る(例えば特公昭52−3926
、特開昭51−65709、特開昭54−59214等
があげられる。)。以上のような場合、原料中に酢酸、
酢酸メチル、アセトアルデヒド等の不純物が混入するで
あろうことが予想されるが、反応の総合収支を乱さない
かぎり、上記不純物も許容して反応を好適に進めること
が出来る。
尚、酢酸メチルのカルボニル化反応により生成した無水
酢酸を原料として使用する場合、同カルボニル化反応に
おいて原料ガスとして合成ガスを使用し、この工程にお
ける反応廃ガスの一部または全部を本発明における水素
化反応の原料ガスとして利用することもできる。
さらに水素化反応工程における反応廃ガスの一部または
全部を前記力ルボニル化反応工程に再利用するなどして
原料ガス、反応廃ガスを相互に転用することは合理的な
実施態様である。反応原料中に水が混在することは一般
に生じうる現象であるが、水素ならびに無水酢酸は市販
の反応剤に存在することがありがちな程度の少量の水の
混在は許容して問題は生じない。
しかしながら、通常本発明に用いる一種以上の反応原料
に10モル%以上の水が混在することは避けるべきであ
つて、反応系への大過剰な水の誘導は原料および生成物
の分解を招来し易い。この点において5モル%、さらに
好ましくは3モル%以下の含水量であることが望ましい
。水は反応生成物ではないので反応液を無水に近い条件
に保つことは、反応帯に導入される必要な反応剤ならび
に反応作動液を適正な乾燥状態に維持することによつて
簡単に達成される。本発明の方法は原料である無水酢酸
それ自体あるいは副生成物である酢酸が溶媒を兼るので
必ずしも溶媒を用いなくてもよいが必要に応じて使用す
ることもできる。
一般に使用し得る溶媒としては酢酸、プロピオン酸、酪
酸等の有機酸類、酢酸メチル、酢酸エチル、エチレング
リコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテ
ート、アジピン酸ジメチル、安息香酸メチル、安息香酸
エチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル
?ジオクチル、酢酸フェニル、酢酸トリル等の有機酸エ
ステル類、ドデカン、ヘキサデカン、ベンゼン、ナフタ
レン、ビフェニル等の炭化水素類、トリフェニルホスフ
ェート、トリクレジルホスフエート、ジブチルフェニル
ホスフェート、テトラメチルオルトシリケート、テトラ
ブチルシリケート等の無機酸エステル類、ジフェニルエ
ーテル等の芳香族エーテル類、アセトン、メチルエチル
ケトン、ジブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ア
セトフェノン、ベンゾフェノン等のケトン類が挙げられ
る。本発明の方法は回分式、半回分式あるいは連続式で
実施することができるが、半回分式および連続流通反応
形式は重合反応を生起する性質を有する目的生成物酢酸
ビニルの反応系内濃度を低く維持し得るので特に好まし
い実施態様である。
また不均一触媒の場合、反応型式は流動床型式あるいは
固定床型式のいずれでも実施可能である。本発明の方法
においては、反応液は原料無水酢酸、目的生成物酢酸ビ
ニルを含む混合液の状態に保たれているが生成する酢酸
ビニルを直ちに反応液から分離し、重合反応を生起する
性質を有する酢酸ビニルの反応系内濃度を低く維持する
ことが肝要である。したがつて生成物の分離を伴ういわ
ゆる反応蒸留によつて反応液中の酢酸ビニルの濃度は反
応液に対して25重量%以下、好ましくは15重量%以
下、さらに好ましくは10重量%以下に保たれるが、5
重量%以下の濃度に維持することは特に有効である。前
記した反応液からの酢酸ビニルの分離操作を有効にする
ため、例えば蒸発除去をする場合、反応系内の水素を含
む反応ガスの一部または全部を循環したり、あるいは反
応系外ヘパージすることは好ましい実施態様である。
以上の点に関して例示するだけの目的で本発明の方法を
実施する典型的な反応系の説明図を示す図面を参照する
ことによつてさらに容易に理解することができるだろう
。図面において反応帯100は任意のタイプの1基以上
の圧力反応器よりなり、この反応器に適当な触媒、典型
的にいつて強プロトン酸と組合わされた第8族金属より
なる触媒を含む液相反応液とともに導入する。純粋な形
または混合ガスの形の水素は101から循環ガス流11
1とともに103を経由して反応帯100の低部へ圧入
し、無水酢酸は102から導入する。反応帯100から
105を経由する流出流、すなわち反応ガスを含む反応
および未反応の流出蒸気流はその主要成分に分けるため
、この分野の専門家がよく知つているように、1基以上
の気液分離器および蒸留ユニットよりなる分離帯200
に導入される。すなわち、水素を含む流出蒸気流は10
5を経由して分離帯200で気液分離される。非凝縮性
の水素を含むガス流は109から111をとおつて、1
01からの供給ガスとともに103を経由して反応帯1
00へ循環されるが、必要に応じて110よソー部系外
へ放出されることもある。方前記反応ガス流とともに酢
酸ビニル、アセトアルデヒド、酢酸、無水酢酸などの液
相主要成分はストリツピングおよび/または蒸発により
105を経由して分離帯200で気液分離されるが、未
反応物、酢酸の一部あるいはアセトアルデヒドなどの低
沸点成分はその大部分が反応ガス流とともに反応帯10
0へ循環される。また製品酢酸ビニルと副生成物酢酸は
分離帯200で凝縮、粗分離されて107あるいは10
8より、一緒にあるいは別々に抜き出される。又未反応
の無水酢酸はその大部分が106を経由して反応帯10
0へ循環される。場合によつては反応中に生成すること
のある副生重合物、その他の高沸点副生物の蓄積を防止
するため、あるいは触媒の一部を抜き出すために反応帯
中の反応液の一部を105よりパージすることもある。
以上、詳細に説明した本発明の方法は新規な反応により
酢酸ビニルを無水酢酸と水素とを反応させることにより
製造するものであり、工業的意義はきわめて高いもので
ある。
以下、実施例によりさらに具体的に説明する。
これらの実施例は特記しない限り部はすべてモル基準で
ある。実施例1 第1図に例示されているようなフローシートに従つて実
施した。
耐圧反応管を包括する反応帯100に予め原料液(無水
酢酸1モル中、酢酸パラジウム1ミリモル、バラトルエ
ンスルホン酸20ミリモルを含む溶液)を満たし、反応
帯を混合ガス(水素:ニ酸化炭素=7:3)で置換した
後、温度150℃に昇温した。その後、反応管低部より
前記組成の混合ガスを5kg/CdGまで圧入するとと
もに、反応帯100から105,200,109,11
1,103を経由するラインをとおして1,0部/分の
速度でガス循環を開始した。又、これと同時に102か
ら無水酢酸を0.6部/時の ,速度で反応帯100に
導入した。これに伴なつて、ガス吸収と酢酸ビニルを含
む酢酸、無水酢酸混合液の環流が生じたが101より水
素を補給し、反応圧力を5k9/CrAGに維持した。
環流液は蒸留ユニットを含む分離帯200で分離した。
粗分離さJれた酢酸ビニルとその相当量の酢酸とをそれ
ぞれ、0.261部/時、0.522部/時の速度で1
08を経由して抜き出した。実施例2 第1図に例示されているようなフローシートに ≦従つ
て実施した。
耐圧反応管を包括する反応帯100に予め原料液(無水
酢酸1モル中、酢酸ロジウム2ミリモル、ベンゼンスル
ホン酸20ミリモルを含む溶液)を満たし、反応帯を混
合ガス(水素:ー酸化炭素=4:l)で置換した後、温
度145℃に昇温した。その後、反応管低部より前記組
成の混合ガスを10k9/C77iGまで圧入するとと
もに、反応帯100から105,200,109,11
1,103を経由するラインをとおして1.4部/分の
速度でガス循環を開始した。又これと同時に102から
無水酢酸0.35部/時の速度で反応帯100に導入し
た。これに伴なつて、ガス吸収と酢酸ビニルを含む酢酸
、無水酢酸混合O液の環流が生じたが、101より水素
を補給し、反応圧力を10k9/CdGに維持した。環
流液は蒸留ユニットを含む分離帯200で分離した。粗
分離された酢酸ビニルとその相当量の酢酸とをそれぞれ
0.156部/時、0,312部/時の速度で′)10
8を経由して抜き出した。実施例3 第1図に例示されているようなフローシートに従つて実
施した。
耐圧反応管を包括する反応帯100に予め原料液(無水
酢酸1モル中、塩化ル)テニウム1.5ミリモル、ベン
ゼンスルホン酸20ミリモルを含む溶液)を満たし、反
応帯を混合ガス(水素:ー酸化炭素=4:1)で置換し
た後、温度140℃に昇温した。その後、反応管低部よ
り前記組成の混合ガスを10k9/CdGまで圧入する
とともに、反応帯100から105,200,109,
111,103を経由するラインをとおして0.64部
/分の速度でガス循環を開始した。又これと同時に10
2から無水酢酸を0.15部/時の速度で反応帯100
に導人した。これに伴なつてガス吸収と酢酸ビニルを含
む酢酸、無水酢酸混合液の環流が生じたが、101より
水素を補給し、反応圧力を10kg/CdGに維持した
。環流液は蒸留ユニットを含む分離帯200で分離した
。粗分離された酢酸ビニルとその相当量の酢酸とをそれ
ぞれ0.062部/時、0.125部/時の速度で10
8を経由して抜き出した。実施例4 第1図に例示されているようなフローシートに従つて実
施した。
耐圧反応管を包括する反応帯100に予め原料液(無水
酢酸1モル中、5%パラジウムー活性炭(日木エンゲル
・・ルト社製)2.047、バラトルエンスルホン酸2
0ミリモルを含む溶液)を満たし、反応帯を混合ガス(
水素:ー酸化炭素−4:l)で置換した後、温度145
℃に昇温した。その後、反応管低部より前記組成の混合
ガスを5k9/CdGまで圧入するとともに、反応帯1
00から105,200,109,111,103を経
由するラインをとおして1.0部/分の速度でガス循環
を開始した。又これと同時に102から無水酢酸を0.
5部/時の速度で反応帯100に導入した。これに伴な
つてガス吸収と酢酸ビニルを含む酢酸、無水酢酸混合液
の環流が生じたが、101より水素を補給し、反応圧力
を5kg/CdGに維持した。環流液は蒸留ユニットを
含む分離帯200で分離した。粗分離された酢酸ビニル
とその相当量の酢酸とをそれぞれ、0.230部/時、
0.460部/時の速度で108を経由して抜き出した
。参考例1〜3 反応容器にエチリデンジアセテート135f7を仕込み
無触媒下に175℃で、および触媒としてベンゼンスル
ホン酸を4.57仕込んでそれぞれ175℃、145℃
で90分間保つた。
それらの反応液を冷却後分析したところ、酢酸ビニルの
生成量は無触媒で0.027、ベンゼンスルホン酸触媒
、175℃の場合にはタール状物が生成し不適であり、
同145℃の場合は0.29rであつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法を実施する工程図の一例であり、
図中の番号はそれぞれ、100;反応帯、200;分離
帯、101:原料ガス供給ライン、102;原料及び触
媒供給ライン、を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 パラジウム、ロジウムおよびルテニウムよりなる群
    から選ばれる1種以上の金属および/またはその化合物
    と芳香族スルホン酸並びに一酸化炭素の存在下に、酢酸
    ビニルを分離しながら温度140〜250℃で無水酢酸
    と水素とを反応させて酢酸ビニルを製造することを特徴
    とする酢酸ビニルの製造方法。
JP12840480A 1980-09-16 1980-09-16 酢酸ビニルの製造方法 Expired JPS5934166B2 (ja)

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JP12840480A Expired JPS5934166B2 (ja) 1980-09-16 1980-09-16 酢酸ビニルの製造方法

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JP (1) JPS5934166B2 (ja)

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JPS5753434A (en) 1982-03-30

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