JPS5931543A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS5931543A JPS5931543A JP14164582A JP14164582A JPS5931543A JP S5931543 A JPS5931543 A JP S5931543A JP 14164582 A JP14164582 A JP 14164582A JP 14164582 A JP14164582 A JP 14164582A JP S5931543 A JPS5931543 A JP S5931543A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hole
- shadow mask
- small hole
- forming
- small
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラーブラウン管（二使用されるシャドウマス
クの製造方法に関するものである。
クの製造方法に関するものである。
〔発明の技９Ｉ：ｊ的背景と七の１日］題点〕カラーブ
ラウン管に使用されるシャドウマスクは土として写Ａ製
版法によって多く一造嘔れている。そしてこの写真製版
法は大別１−るとシャドウマスク累月の両主面≦二感ブ
Ｌ液を塗布する４Ω元Ｃ夜堕布工程、この感光液ケ成膜
化して感光ｊ俣とする乾燥工程、にル光工程、現像工程
、バー二ング工程。
ラウン管に使用されるシャドウマスクは土として写Ａ製
版法によって多く一造嘔れている。そしてこの写真製版
法は大別１−るとシャドウマスク累月の両主面≦二感ブ
Ｌ液を塗布する４Ω元Ｃ夜堕布工程、この感光液ケ成膜
化して感光ｊ俣とする乾燥工程、にル光工程、現像工程
、バー二ング工程。
及び腐一工程などから構成されている。
一方、カラー受像管は一般用、モニターやディスプレイ
ル」などその川越か多岐にわたってνυ、このシち一収
ホ誕用は別としてモニターやディスプレイ用のカラーブ
ラウン管は極めて倣卸１な１仰。
ル」などその川越か多岐にわたってνυ、このシち一収
ホ誕用は別としてモニターやディスプレイ用のカラーブ
ラウン管は極めて倣卸１な１仰。
が要求されでいるため、これら（二使用するシャドウマ
スクの電子ビーム遍孔部は篩棺度で且つ似創なものが要
求されている。
スクの電子ビーム遍孔部は篩棺度で且つ似創なものが要
求されている。
次に本発明のシャドウマスクの膜端方法（二級も近い従
来例でめる特開１１１：１５１ ９０３４％公報（二よ
るシャドウマスクの製造方法を第１図乃至第４図しよシ
説明すると、先ず第１図のようにシャドウマスク累月（
１）の両土面に感光膜（２）を形成したのち、大孔用ネ
ガパターン、小孔用ネガパターンを有１−るネガ原板を
密接させたのち、廠元、机像し、直径（ａ＋）の小孔形
成部と、直径（ｄ２）の大孔形成部の感光膜（２）を除
去し仄（１弟２図のよう（二両面からｌ腐蝕液なスプレ
イカ法により吠きつけ小孔部（３）の開口部径（ＤＩ）
を二なる迄蝕刻する。勿論この場合（二は大孔形成部
からも所蔵深さの大孔部（４）が蝕刻される。
来例でめる特開１１１：１５１ ９０３４％公報（二よ
るシャドウマスクの製造方法を第１図乃至第４図しよシ
説明すると、先ず第１図のようにシャドウマスク累月（
１）の両土面に感光膜（２）を形成したのち、大孔用ネ
ガパターン、小孔用ネガパターンを有１−るネガ原板を
密接させたのち、廠元、机像し、直径（ａ＋）の小孔形
成部と、直径（ｄ２）の大孔形成部の感光膜（２）を除
去し仄（１弟２図のよう（二両面からｌ腐蝕液なスプレ
イカ法により吠きつけ小孔部（３）の開口部径（ＤＩ）
を二なる迄蝕刻する。勿論この場合（二は大孔形成部
からも所蔵深さの大孔部（４）が蝕刻される。
次に第３図のよう（二小孔部（３）円も含めて感光膜（
２）上に腐蝕液の抵抗層（６）を被着形成したのち、第
４凶（二示すよう（二土として大孔部（４）側より腐蝕
液をスプレィ方法（二より吹きつけ、小孔部（３〕（二
被着形成された腐蝕液の抵抗層（５）（二達し、かつ小
孔部（３）の開口部径（Ｄｌ）を乱すことがないよう（
二人孔部（４）を拡大し、大孔部（４）の開口部往（Ｄ
２） ｌ二なる迄腐蝕し、水洗・乾燥後、腐蝕液の抵抗
層（６）及び感光膜（２）を除去し、第５図（−示すシ
ャドウマスク （実際（二は〆ラットマスク）を完成す
る。
２）上に腐蝕液の抵抗層（６）を被着形成したのち、第
４凶（二示すよう（二土として大孔部（４）側より腐蝕
液をスプレィ方法（二より吹きつけ、小孔部（３〕（二
被着形成された腐蝕液の抵抗層（５）（二達し、かつ小
孔部（３）の開口部径（Ｄｌ）を乱すことがないよう（
二人孔部（４）を拡大し、大孔部（４）の開口部往（Ｄ
２） ｌ二なる迄腐蝕し、水洗・乾燥後、腐蝕液の抵抗
層（６）及び感光膜（２）を除去し、第５図（−示すシ
ャドウマスク （実際（二は〆ラットマスク）を完成す
る。
このようなシャドウマスクの製造方法（＝よると電子ビ
ーム通孔部の断面形状が安定し、また小孔部（３）の開
口部の直径（ＤＩ）も列えは１４０±５μｍのばらつき
しかなく、また小孔部（３１の深さくｔりも安定し、更
に小孔部（３）のサイドエツチング量も約加〜（９）μ
ｉｎと少なく、良好な電子ビーム辿孔部ケ形成すること
が可能であるか、鳥蝕欣の抵抗層（６）を小孔部（３）
内に被着形成するため、この充填かしく二くいし、゛ま
だ充填をしてもピンホールや？包などが発生しやすく、
このためこれらピンホールや市など（二よる電子ビーム
通孔部の欠陥が起シ易いという問題点がある。
ーム通孔部の断面形状が安定し、また小孔部（３）の開
口部の直径（ＤＩ）も列えは１４０±５μｍのばらつき
しかなく、また小孔部（３１の深さくｔりも安定し、更
に小孔部（３）のサイドエツチング量も約加〜（９）μ
ｉｎと少なく、良好な電子ビーム辿孔部ケ形成すること
が可能であるか、鳥蝕欣の抵抗層（６）を小孔部（３）
内に被着形成するため、この充填かしく二くいし、゛ま
だ充填をしてもピンホールや？包などが発生しやすく、
このためこれらピンホールや市など（二よる電子ビーム
通孔部の欠陥が起シ易いという問題点がある。
本発明は前述した従来の問題点（二亀みな看れたもので
あり、予め大孔部の開口部の通径が所定の直径（＝なる
まで大孔部のみを腐蝕形成したのち、この大孔部の少く
とも底部（二腐蝕液の抵抗層を直接または下地を介して
被着形成したのち、小孔部の開口部の直径を所定径にな
るよう（＝／１４ｉｆｉ’ｌ−ること（二よシ１．挑め
て良好な電子ビーム通孔部を＃設することが可能なシャ
ドウマスクの製造方法な提供することを目的としている
。
あり、予め大孔部の開口部の通径が所定の直径（＝なる
まで大孔部のみを腐蝕形成したのち、この大孔部の少く
とも底部（二腐蝕液の抵抗層を直接または下地を介して
被着形成したのち、小孔部の開口部の直径を所定径にな
るよう（＝／１４ｉｆｉ’ｌ−ること（二よシ１．挑め
て良好な電子ビーム通孔部を＃設することが可能なシャ
ドウマスクの製造方法な提供することを目的としている
。
即ち、本発明はシャドウマスク素材の両王面（二感光膜
を形成する工程と感光面上（二それぞれ大孔用ネガパタ
ーン、小孔用ネガパターンを有するネが原板なＭ供させ
て露光する工程と、現１家（二よｐ大孔及び小孔形成部
の感光膜を除去する工程と、大孔形成部のみから腐蝕に
よシ所定深さの大孔部を形成する弗ｌの腐蝕工程と、少
くともＡｉｌ記大孔大孔部部し直接または下地を介して
腐蝕液の抵抗ノーを＊Ｗ形成３−る工程と、小孔形成部
のみから腐蝕）二よシＨ［定の開口１１μ径を有し、か
つ腐ｉｉ！ｌＩ液の抵抗層（＝達する小孔部を形成する
第２のｊ＾蝕工程と、腐蝕液の抵抗層及び感光膜を除去
する工程とを具備することを特徴とするシャドウマスク
の製造方法である。
を形成する工程と感光面上（二それぞれ大孔用ネガパタ
ーン、小孔用ネガパターンを有するネが原板なＭ供させ
て露光する工程と、現１家（二よｐ大孔及び小孔形成部
の感光膜を除去する工程と、大孔形成部のみから腐蝕に
よシ所定深さの大孔部を形成する弗ｌの腐蝕工程と、少
くともＡｉｌ記大孔大孔部部し直接または下地を介して
腐蝕液の抵抗ノーを＊Ｗ形成３−る工程と、小孔形成部
のみから腐蝕）二よシＨ［定の開口１１μ径を有し、か
つ腐ｉｉ！ｌＩ液の抵抗層（＝達する小孔部を形成する
第２のｊ＾蝕工程と、腐蝕液の抵抗層及び感光膜を除去
する工程とを具備することを特徴とするシャドウマスク
の製造方法である。
〔づ６明の実施例〕
次雇二本兄明のシャドウマスクの製造方法を工程順に′
１４′３６図乃至第１Ｏ図によシ祝明する。
１４′３６図乃至第１Ｏ図によシ祝明する。
先ず第６図のようにシャドウマスク素材ａυの両主面）
二感光膜（Ｉ７Ｊを形成したのち、大孔用ネガノ（ター
ン、小孔用ネガパターンを有するネガ原板を密接させた
のち、露光、現像し、１に径（ｄ３）の小孔形成部と、
直径（ｄ４）の大孔形成部の感光族ｕ′４を除去し、次
に第７図のよう（二手孔形成部及び感光膜０り上（二腐
蝕液の影響を受けないよう（＝ポリエステルフィルム０
四で遮蔽し、大孔形成部のみを腐Ｉｉ！Ｉｔ液のスプレ
ィ方法（皿上シ開口部径（Ｄ４）の大孔部（１４）を形
成する。この場合大孔部（１荀の深さはシャドウマスク
素材０υの材質、厚さ、腐蝕時間（−よっても異なるが
小形形成部からの厚さくｔ２）かが［望１区（二なるよ
う（二選択する。またポリエステルフィルレム凸は腐蝕
装置の工夫で不用（ユすることもできる。
二感光膜（Ｉ７Ｊを形成したのち、大孔用ネガノ（ター
ン、小孔用ネガパターンを有するネガ原板を密接させた
のち、露光、現像し、１に径（ｄ３）の小孔形成部と、
直径（ｄ４）の大孔形成部の感光族ｕ′４を除去し、次
に第７図のよう（二手孔形成部及び感光膜０り上（二腐
蝕液の影響を受けないよう（＝ポリエステルフィルム０
四で遮蔽し、大孔形成部のみを腐Ｉｉ！Ｉｔ液のスプレ
ィ方法（皿上シ開口部径（Ｄ４）の大孔部（１４）を形
成する。この場合大孔部（１荀の深さはシャドウマスク
素材０υの材質、厚さ、腐蝕時間（−よっても異なるが
小形形成部からの厚さくｔ２）かが［望１区（二なるよ
う（二選択する。またポリエステルフィルレム凸は腐蝕
装置の工夫で不用（ユすることもできる。
次にポリエステルフィルム（１９を除去し、洗浄。
乾燥後例えば富士薬品工業（株）製の牛乳カゼインＴＳ
−５と重クロム酸アンモニウムを貞ｉ％て約１００
： １とし、水で稀釈して比重を１．０３００ にした
腐蝕液の抵抗層（１６）’に第８図（二示すよう（二人
孔部ｔｔ４１内部から感光膜ｄ２１を覆うように被着形
成し、ベーキング処理を行なう。
−５と重クロム酸アンモニウムを貞ｉ％て約１００
： １とし、水で稀釈して比重を１．０３００ にした
腐蝕液の抵抗層（１６）’に第８図（二示すよう（二人
孔部ｔｔ４１内部から感光膜ｄ２１を覆うように被着形
成し、ベーキング処理を行なう。
次Ｃ″−弗９図に示すよう（二手孔形成部のみから所定
の開口部径（Ｄりを有する小孔部（ＩＪを形成する。
の開口部径（Ｄりを有する小孔部（ＩＪを形成する。
次（二腐蝕液の抵抗層ｕ６）、感光膜ｕ４を除去し、大
孔部（１勺及び小孔ＩＩ〜０３）からなる電子ビーム荊
孔部を有する？ｉ１４１０図に示１−ようなシャドウマ
スクを完成する。
孔部（１勺及び小孔ＩＩ〜０３）からなる電子ビーム荊
孔部を有する？ｉ１４１０図に示１−ようなシャドウマ
スクを完成する。
本実施例のシャドウマスクの製造方法によれば電子ビー
ム通孔部の断面形状が安定し、また小孔部（１３）の開
口部径（Ｄ３）も例えば１４０±５μｍのばらつきしか
なく、また小孔部μ３）の深さくｔ２）も安定し、更に
小孔ＨＢｕａｌのサイドエツチング量も約加〜加μｍと
少なく、良好な電子ビーム通孔部な形成することが可能
であるのは従来の製造方法とほぼ同様であるが、本実施
例では大孔部τＩ１１から例えば水浴性感光層などの腐
蝕液の抵抗層を被着形成するので作業的にも極めて容易
てありかつピンホール、泡などが発生い二くいため、こ
れらピンホール、泡など（二よる゛電子ビーム通孔部の
欠陥が起シにくいし、更（＝最終旧（二電子ビーム通孔
部として最も重要な小孔部Ｑ３１を形成するため、この
小孔部（１３）の開口部径（Ｄ３）を制御することがロ
エ能となる。
ム通孔部の断面形状が安定し、また小孔部（１３）の開
口部径（Ｄ３）も例えば１４０±５μｍのばらつきしか
なく、また小孔部μ３）の深さくｔ２）も安定し、更に
小孔ＨＢｕａｌのサイドエツチング量も約加〜加μｍと
少なく、良好な電子ビーム通孔部な形成することが可能
であるのは従来の製造方法とほぼ同様であるが、本実施
例では大孔部τＩ１１から例えば水浴性感光層などの腐
蝕液の抵抗層を被着形成するので作業的にも極めて容易
てありかつピンホール、泡などが発生い二くいため、こ
れらピンホール、泡など（二よる゛電子ビーム通孔部の
欠陥が起シにくいし、更（＝最終旧（二電子ビーム通孔
部として最も重要な小孔部Ｑ３１を形成するため、この
小孔部（１３）の開口部径（Ｄ３）を制御することがロ
エ能となる。
前記実施例では腐蝕液の抵抗ＪｖＩ叫を大孔部圓から感
光膜（１２）を績うよう（二設けたが、これは第１１１
Ａに示すよう（二大孔郡（１４Ｊの低部に小孔部（１〜
を設ける部分より広め（二被宥形成してもよい。この理
由としては従来例のよう（二手孔部（３） ｆ（１１に
腐蝕液の抵抗層（６）を充填する場合は光全（二冗填し
ないと後半の腐蝕工程の際（＝影響を受けて欠陥となり
易い。つｔ、ｂ小孔部Ｕ■はシャドウマスクの電子ビー
ム径そのものを決定すると同時（二手孔部０：３）その
ものが、シャドウマスクの孔径となるが、本発明のよう
に大孔部（−腐蝕７にの抵抗層−を被雲形成するのはシ
ャドウマスクの電子ビーム径を決める（二は従的なもの
であり、小孔部側はど重要でないからである。
光膜（１２）を績うよう（二設けたが、これは第１１１
Ａに示すよう（二大孔郡（１４Ｊの低部に小孔部（１〜
を設ける部分より広め（二被宥形成してもよい。この理
由としては従来例のよう（二手孔部（３） ｆ（１１に
腐蝕液の抵抗層（６）を充填する場合は光全（二冗填し
ないと後半の腐蝕工程の際（＝影響を受けて欠陥となり
易い。つｔ、ｂ小孔部Ｕ■はシャドウマスクの電子ビー
ム径そのものを決定すると同時（二手孔部０：３）その
ものが、シャドウマスクの孔径となるが、本発明のよう
に大孔部（−腐蝕７にの抵抗層−を被雲形成するのはシ
ャドウマスクの電子ビーム径を決める（二は従的なもの
であり、小孔部側はど重要でないからである。
次に、本発明の他の実施例（二使用する腐蝕液の抵抗層
の被着形成方法を説明すると、１＾蝕液の抵抗層として
例えば富士薬品工栗（株）製カゼインＴＳ−５と重クロ
ム酸アンそニウムを重撤チで約１００ ： １とし水で
稀釈して比重を１．０３００に調量したもの、または例
えば和信化学工業（株） ｇＬａｑｕｅｒＮｏ１８クリ
ーヤーとＮｏ ３０００ シンナーを重ｉｓで約１＝
２に調製したものを準備し、夫々の溶媒、即し、ＭｉＪ
者は水、陵者はシンナーを用いて大孔部の形成されたシ
ャドウマスク累月にスプレィ方法またはゲップ方法て溶
媒を残存させる。即ち、このｍ媒は下地（二なる。その
後、腐蝕液の抵抗層をスプレィまたはディップて被着形
成する。このよう（二下地を設けることζ二よυ、腐ｉ
Ｉ！ｌＬ液の抵抗層はそれぞれ下地の１に分散、ｍｍし
て容易（ニなじみ、約１５０°０２分間の乾燥体シャド
ウマスク素材と大孔部との境界−１にピンホール、泡な
どを全く発生することなく、最終的区二鳥蝕敵の抵抗層
は大孔部内（二、しっかりと固着し、脱洛現象も生じる
ことがなく（ムめて良好なシャドウマスクを形成するこ
とが可能である。
の被着形成方法を説明すると、１＾蝕液の抵抗層として
例えば富士薬品工栗（株）製カゼインＴＳ−５と重クロ
ム酸アンそニウムを重撤チで約１００ ： １とし水で
稀釈して比重を１．０３００に調量したもの、または例
えば和信化学工業（株） ｇＬａｑｕｅｒＮｏ１８クリ
ーヤーとＮｏ ３０００ シンナーを重ｉｓで約１＝
２に調製したものを準備し、夫々の溶媒、即し、ＭｉＪ
者は水、陵者はシンナーを用いて大孔部の形成されたシ
ャドウマスク累月にスプレィ方法またはゲップ方法て溶
媒を残存させる。即ち、このｍ媒は下地（二なる。その
後、腐蝕液の抵抗層をスプレィまたはディップて被着形
成する。このよう（二下地を設けることζ二よυ、腐ｉ
Ｉ！ｌＬ液の抵抗層はそれぞれ下地の１に分散、ｍｍし
て容易（ニなじみ、約１５０°０２分間の乾燥体シャド
ウマスク素材と大孔部との境界−１にピンホール、泡な
どを全く発生することなく、最終的区二鳥蝕敵の抵抗層
は大孔部内（二、しっかりと固着し、脱洛現象も生じる
ことがなく（ムめて良好なシャドウマスクを形成するこ
とが可能である。
前述のよう（二本発明のシャドウマスクの製造方法（＝
よれば極めて良好な電子ビーム通孔部をＭするシャドウ
マスクを得ることができるのでその工業的価値は極めて
大である。
よれば極めて良好な電子ビーム通孔部をＭするシャドウ
マスクを得ることができるのでその工業的価値は極めて
大である。
第１図乃至第５図は従来のシャドウマスクの製造方法を
工程順に示す直明用断凹図、第６図乃主第１０図は本発
明のシャドウマスクの製造方法の一実施例を工程ｆｉｌ
（ｉ二本す説明用断面図、弔１１凶は局独ｍの逃抗ノー
の他の被着形成状態を示す欣明用Ｈ］「面図である。 １．１１・・・シャドウマスク素材 ２．１２・・・感
光膜３．１３・・・小孔ｔｋ’ｉＩ ４，１
４・・・大孔部６、１６．１Ｇ、・−・腐蝕液の抵抗ノ
ー１５・・・ポリエステルフィルム 代理人 弁理士 井 上 −男 第を図 第 ２ 図 第４図 第５図 第６図
工程順に示す直明用断凹図、第６図乃主第１０図は本発
明のシャドウマスクの製造方法の一実施例を工程ｆｉｌ
（ｉ二本す説明用断面図、弔１１凶は局独ｍの逃抗ノー
の他の被着形成状態を示す欣明用Ｈ］「面図である。 １．１１・・・シャドウマスク素材 ２．１２・・・感
光膜３．１３・・・小孔ｔｋ’ｉＩ ４，１
４・・・大孔部６、１６．１Ｇ、・−・腐蝕液の抵抗ノ
ー１５・・・ポリエステルフィルム 代理人 弁理士 井 上 −男 第を図 第 ２ 図 第４図 第５図 第６図
Claims (1)
- シャドウマスク素材の両王面（二感光膜を形成する工程
ど、前日己感）シ股上（ニヤれぞｇ大孔用ネガパターン
、小孔ハラネガパターンを４イするネガ原板を密接させ
て路光する工程と、況像（二より大孔及び小孔形成部の
感光族を除去−する工程と、−４肥大孔形成部のみから
腐蝕（二よシ所定深さの大孔部を形成する第１の）Ｈ蝕
工程と、少くとも前記大孔部の底部に直ｊり互たは下地
を介して１１に蝕液の処りＬ崩を被７Ｉｖ形成する工程
と、ｎｌＪ ＊己小孔形成部のかからｎ（蝕によシ〃「
定の開ロ部径ン肩し、かつ削記ｊλ蝕欲の抵抗層（１達
する小孔部を形成する第２の胸畝工程と、前記腐蝕液の
抵抗層及び前記感光族を瀕去Ｊ−る工程とを具’ｈＨｉ
ｉ−ることを特徴とするシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14164582A JPS5931543A (ja) | 1982-08-17 | 1982-08-17 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14164582A JPS5931543A (ja) | 1982-08-17 | 1982-08-17 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5931543A true JPS5931543A (ja) | 1984-02-20 |
| JPH0429174B2 JPH0429174B2 (ja) | 1992-05-18 |
Family
ID=15296855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14164582A Granted JPS5931543A (ja) | 1982-08-17 | 1982-08-17 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5931543A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62215646A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-22 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | プロピレン重合体組成物 |
| JPS62232448A (ja) * | 1986-04-03 | 1987-10-12 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | プロピレン共重合体フイルム |
| JPS6386877A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-18 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012042720A (ja) | 2010-08-19 | 2012-03-01 | Sony Corp | 画像処理装置および方法、並びにプログラム |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4978478A (ja) * | 1972-11-30 | 1974-07-29 | ||
| JPS5726346A (en) * | 1980-07-22 | 1982-02-12 | Kubota Ltd | Hot water feeder |
-
1982
- 1982-08-17 JP JP14164582A patent/JPS5931543A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4978478A (ja) * | 1972-11-30 | 1974-07-29 | ||
| JPS5726346A (en) * | 1980-07-22 | 1982-02-12 | Kubota Ltd | Hot water feeder |
Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
| JPS62215646A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-22 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | プロピレン重合体組成物 |
| JPH0528262B2 (ja) * | 1986-03-17 | 1993-04-23 | Mitsubishi Petrochemical Co | |
| JPS62232448A (ja) * | 1986-04-03 | 1987-10-12 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | プロピレン共重合体フイルム |
| JPH0511550B2 (ja) * | 1986-04-03 | 1993-02-15 | Mitsubishi Petrochemical Co | |
| JPS6386877A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-18 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0429174B2 (ja) | 1992-05-18 |
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