JPS5929160B2 - Manufacturing method of wiring board - Google Patents

Manufacturing method of wiring board

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JPS5929160B2
JPS5929160B2 JP4283980A JP4283980A JPS5929160B2 JP S5929160 B2 JPS5929160 B2 JP S5929160B2 JP 4283980 A JP4283980 A JP 4283980A JP 4283980 A JP4283980 A JP 4283980A JP S5929160 B2 JPS5929160 B2 JP S5929160B2
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JP
Japan
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thick film
paste
laser beam
wiring board
wiring pattern
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JP4283980A
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JPS56140694A (en
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悦治 杉田
眞一 山崎
修 茨木
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は配線板の製造方法に係り、ことに高密度にして
低コストの配線板を得ることのできる配線板の製造方法
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a wiring board, and more particularly to a method of manufacturing a wiring board that can produce a high-density, low-cost wiring board.

電子装置の小形化、高性能化のため裸のLSIチップを
セラミック製の配線板(以下、「セラミック板」と言う
)上に多数搭載する実装法が注目されている。
In order to miniaturize and improve the performance of electronic devices, a mounting method in which a large number of bare LSI chips are mounted on a ceramic wiring board (hereinafter referred to as a "ceramic board") is attracting attention.

そしてセラミック板の配線層の形成には一般に厚膜多層
法が利用されている。
A thick film multilayer method is generally used to form the wiring layer of a ceramic board.

この方法では金属又はプラスチックのメッシュに感光性
樹脂を塗布し、所定の配線パタンを形成したホトマスク
を通して光を当てて樹脂を感光、現像し、所定の配線パ
タンを有する印刷用スクリーンを作る。次いでこのスク
リーンを通してセラミック板上にAg一Pdなどの導体
、又は結晶化ガラスなどの絶縁体の厚膜ペーストを印刷
し、所定の厚膜ペーストパタンを形成する。その後、1
20〜150℃で乾燥し、約800〜1000℃で焼成
する。なお多層化する場合には、導体印刷−焼成、絶縁
体印刷−焼成の工程をくり返す。ところでこの従来の厚
膜多層法ではスクリーンを使用するため、配線パタンの
幅を十分に狭くできない欠点がある。
In this method, a metal or plastic mesh is coated with a photosensitive resin, and the resin is exposed and developed by shining light through a photomask with a predetermined wiring pattern formed thereon, thereby creating a printing screen having a predetermined wiring pattern. Next, a thick film paste of a conductor such as Ag-Pd or an insulator such as crystallized glass is printed on the ceramic plate through this screen to form a predetermined thick film paste pattern. After that, 1
Dry at 20-150°C and bake at about 800-1000°C. Note that in the case of multilayering, the processes of conductor printing and firing and insulator printing and firing are repeated. However, since this conventional thick film multilayer method uses a screen, it has the disadvantage that the width of the wiring pattern cannot be made sufficiently narrow.

すなわち必要な導体の厚さ、スクリーンのくり返し利用
などの点から、現状では約300メッシュ以下のスクリ
ーンを使用し、導体の幅はO、11gtが限界である。
またこの方法では配線パタンの形成にホトマスクを利用
するため、少量生産ではコスト高となる欠点もある。ま
た従来、高密度パタン形成用厚膜ペーストとして感光性
厚膜ペーストを用いる力法もある。
In other words, in view of the required thickness of the conductor, the repeated use of the screen, etc., at present, a screen of approximately 300 mesh or less is used, and the width of the conductor is limited to 0.11 gt.
Furthermore, since this method uses a photomask to form the wiring pattern, it also has the disadvantage of high costs in small-scale production. Furthermore, conventionally, there is also a force method using a photosensitive thick film paste as a thick film paste for forming a high-density pattern.

この場合には、セラミツク板の全面に感光性厚膜ペース
トを塗布し、ホトマスクを通して露光し、現像して厚膜
ペーストのパタンを形成し、通常の方法で焼成して配線
パタンを得る。ところで絶縁体としては感光性厚膜ペー
ストが有用であるが、導体の場合には一般に透光性が非
常に悪いため、この方法では通常の厚さを有する導体の
高密度パタン形成は困難である。
In this case, a photosensitive thick film paste is applied to the entire surface of the ceramic plate, exposed through a photomask, developed to form a pattern of the thick film paste, and then baked in a conventional manner to obtain a wiring pattern. By the way, photosensitive thick film paste is useful as an insulator, but in the case of conductors, it generally has very poor light transmittance, so it is difficult to form high-density patterns on conductors with normal thickness using this method. .

またホトマスクを利用するため、少量生産でコスト高と
なる欠点は上記した厚膜多層法と同様である。本発明は
上記した従来技術における実情に鑑みてなされたもので
、その目的は高密度な厚膜配線パタンが得られ、またホ
トマスクを使用しないで厚膜配線パタンが得られる配線
板の製造方法を提供することにある。この目的を達成す
るために本発明は、セラミツク板上に塗布した厚膜ペー
ストにレーザビームを照射して配線パタンを形成し、そ
の後炉中で焼成するようにしたことを骨子としている。
Further, since a photomask is used, the disadvantage of high cost in small-scale production is the same as that of the thick film multilayer method described above. The present invention has been made in view of the above-mentioned actual situation in the prior art, and its purpose is to provide a method for manufacturing a wiring board that can obtain a thick film wiring pattern with high density and without using a photomask. It is about providing. In order to achieve this object, the main feature of the present invention is to form a wiring pattern by irradiating a thick film paste coated on a ceramic plate with a laser beam, and then firing it in a furnace.

なお、レーザビームを照射しただけでは、導体周辺部が
焼付不良となつて所望の導電特性が得られず、炉中で焼
成することが必須である。
It should be noted that if only the laser beam is irradiated, the peripheral portion of the conductor will be defective in baking and the desired conductive properties cannot be obtained, so it is essential to bake it in a furnace.

以下、本発明の配線板の製造方法を図に基づいて詳述す
る。
Hereinafter, the method for manufacturing a wiring board according to the present invention will be explained in detail based on the drawings.

第1図は本発明のうちの第1の発明を示す説明図で、第
1図aは製造工程を表示するプロツク図、第1図bは製
造工程を示す側断面図である。なお第1図aにおけるイ
〜二のそれぞれは、第1図bにおけるイ〜二のそれぞれ
に対応させてある。また第1図bにおいて、1はセラミ
ツク板、2は厚膜ペースト、3は配線パタンである。そ
してまず第1図A,bのそれぞれのイに示すように、セ
ラミツク板1の表面に厚膜ペースト2を塗布し、乾燥し
た後、X方向およびY方向に移動するテーブル上に、こ
のセラミツク板1を載せ、口に示すようにレーザビーム
を照射して厚膜ペースト2を部分的に焼成し、所定の配
線パタン3を形成する。次にハに示すように、適当な溶
媒を用いてレーザビーム未照射部の厚膜ペースト2を溶
解する。最後に二に示すように、焼結を完全にして所望
の導電性を得るために、通常のベルト炉等を用いて焼成
する。このようにして配線板が得られる。次に上記した
第1の発明による方法で配線板の製造をおこなつた具体
例について述べる。
FIG. 1 is an explanatory view showing the first aspect of the present invention, FIG. 1a is a block diagram showing the manufacturing process, and FIG. 1b is a side sectional view showing the manufacturing process. In addition, each of A to 2 in FIG. 1A corresponds to each of A to 2 in FIG. 1B. Further, in FIG. 1b, 1 is a ceramic board, 2 is a thick film paste, and 3 is a wiring pattern. First, as shown in each A and B of FIG. 1 is placed, and the thick film paste 2 is partially fired by irradiation with a laser beam as shown at the opening to form a predetermined wiring pattern 3. Next, as shown in c, the thick film paste 2 in the area not irradiated with the laser beam is dissolved using a suitable solvent. Finally, as shown in step 2, the material is fired using a conventional belt furnace or the like in order to complete the sintering and obtain the desired conductivity. In this way, a wiring board is obtained. Next, a specific example of manufacturing a wiring board using the method according to the first invention described above will be described.

この具体例においては、セラミツク板1として純度96
%、厚さ111Qのアルミナ基板を用いた。そしてこの
アルミナ基板上の全面にデユポン社製の銀一白金ペース
ト(カタログ煮9770)を325メツシユのスクリー
ンを用いて印刷し、150℃で15分乾燥した。次にこ
の基板をX−Y方向に移動するテーブルに載せ、YAG
レーザを用いて連続出力50W,径約0.0571iR
のレーザビームを厚膜ペーストに照射した。このときの
基板の移動速度は毎分1mに設定してあつた。次にレー
ザビームを照射した基板を三塩化エチレン中に浸漬し超
音波を印加して、レーザ未照射部の厚膜ペーストを溶解
した。最後に、ベルト炉を用いて最高温度900℃で焼
成した。以上の工程を通して、幅0.1m以下の配線パ
タンを有する配線板が得られた。第2図は本発明のうち
の第2の発明を示す説明図で、第2図aは製造工程を表
示するプロツク図、第2図bは製造工程を示す側断面図
である。
In this specific example, the ceramic plate 1 has a purity of 96
% and a thickness of 111Q was used. Then, a silver-platinum paste manufactured by DuPont (Catalog No. 9770) was printed on the entire surface of this alumina substrate using a 325 mesh screen and dried at 150° C. for 15 minutes. Next, this board is placed on a table that moves in the X-Y direction, and the YAG
Continuous output 50W using laser, diameter approximately 0.0571iR
The thick film paste was irradiated with a laser beam of . The moving speed of the substrate at this time was set to 1 m/min. Next, the substrate irradiated with the laser beam was immersed in ethylene trichloride, and ultrasonic waves were applied to dissolve the thick film paste in the areas not irradiated with the laser beam. Finally, it was fired at a maximum temperature of 900°C using a belt furnace. Through the above steps, a wiring board having a wiring pattern with a width of 0.1 m or less was obtained. FIG. 2 is an explanatory view showing the second invention of the present invention, FIG. 2a is a block diagram showing the manufacturing process, and FIG. 2b is a side sectional view showing the manufacturing process.

この第2の発明は多層配線をおこなう方法を示している
。なお第2図aにおけるイ〜トのそれぞれは、第2図b
におけるイ〜トのそれぞれに対応させてある。第2図b
において、4はセラミツク板、5は厚膜導体ペースト、
6は配線パタン、7は厚膜絶縁体ペースト、8はスルホ
ール、9は厚膜導体ペーストである。なお第2図A,b
における工程イ〜ハは、第1図A,bにおける工程イ〜
ハと同様であるので説明を省く。この第2の発明にあつ
ては、ハに示すように配線パタン6を形成したセラミツ
ク板4の全面に、二に示すように厚膜絶縁体ペースト7
を塗布する。
This second invention shows a method for performing multilayer wiring. Note that each of I to I in Fig. 2a is the same as Fig. 2b.
It corresponds to each of I to I in . Figure 2b
, 4 is a ceramic board, 5 is a thick film conductor paste,
6 is a wiring pattern, 7 is a thick film insulator paste, 8 is a through hole, and 9 is a thick film conductor paste. In addition, Fig. 2 A, b
Steps I to C in FIG.
Since this is the same as (c), the explanation will be omitted. In this second invention, a thick film insulating paste 7 is applied to the entire surface of the ceramic board 4 on which the wiring pattern 6 is formed as shown in C.
Apply.

この厚膜絶縁体ペースト7としては、例えばデユポン社
製、カタログ煮9950のペーストを使用する。次にホ
に示すように所望の導電特性を得るために約800〜1
000℃で焼成する。そしてへに示すように所定の位置
にレーザビームを照射してスルホール8をあける。なお
この時に下部の配線パタン6が溶解しないようにするた
めに、配線パタン6の材質は銅にすることが望ましい。
次に、トに示すように表面の全面に厚膜導体ペースト9
を塗布する。以下必要に応じて口以下の工程をくり返す
。このようにして多層からなる配線板が得られる。なお
上記した第2の発明における二の厚膜絶縁体ペーストの
塗布工程の代りに、感光性厚膜絶縁体ペーストを塗布す
るようにしてもよい。
As the thick film insulating paste 7, for example, a paste manufactured by DuPont, Catalog 9950 is used. Next, as shown in E, approximately 800 to 1
Fire at 000°C. Then, as shown in Fig. 5, a laser beam is irradiated to a predetermined position to open a through hole 8. Note that in order to prevent the lower wiring pattern 6 from dissolving at this time, it is desirable that the material of the wiring pattern 6 be copper.
Next, thick film conductor paste 9 is applied to the entire surface as shown in FIG.
Apply. Repeat the following steps as necessary. In this way, a multilayer wiring board is obtained. Note that instead of the second thick film insulator paste application step in the second aspect of the invention described above, a photosensitive thick film insulator paste may be applied.

この場合、感光性厚膜絶縁体ペーストとしては、例えば
デユポン社製、商品名FODEL(フオーデル)を使用
する。そしてホトマスクを介して露光した後、現像し、
第2図bのスルホール8と同様のスルホールを形成する
。次にこれを所望の導電特性を得るために約800〜1
000℃で焼成した後、第2図の卜の工程に入り、さら
に必要に応じて口以下の工程をくり返す。このようにし
ても多層からなる配線板を得ることができる。以上説明
したように、本発明の配線板の製造方法は、レーザビー
ムを照射してパタンを形成するようにしたので、細い配
線パタンを有する配線板を得ることができ、しかも配線
パタンの形成に際してホトマスクを用いることがないの
で、従来に比べて低コストで製造できる効果を奏する。
In this case, as the photosensitive thick film insulating paste, for example, FODEL (trade name) manufactured by DuPont is used. Then, after exposing it to light through a photomask, it is developed,
A through hole similar to through hole 8 in FIG. 2b is formed. This is then adjusted to about 800-1 to obtain the desired conductive properties.
After firing at 000°C, the process shown in Figure 2 is started, and the following steps are repeated as necessary. Even in this manner, a multilayer wiring board can be obtained. As explained above, in the method for manufacturing a wiring board of the present invention, since the pattern is formed by irradiating a laser beam, a wiring board having a thin wiring pattern can be obtained, and moreover, when forming the wiring pattern, Since no photomask is used, it is possible to manufacture at a lower cost than conventional methods.

また、レーザビーム照射後炉中で焼成することによつて
、導体周辺部の焼付を完全にし、所望の導電特性が得ら
れる効果がある。
Further, by firing in a furnace after laser beam irradiation, the peripheral part of the conductor can be completely baked and desired conductive properties can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の配線板の製造方法のうちの第1の発明
を示す説明図で、第1図aは製造工程を表示するプロツ
ク図、第1図bは製造工程を示す側断面図、第2図は本
発明のうちの第2の発明を示す説明図で、第2図aは製
造工程を表示するプロツク図、第2図bは製造工程を示
す側断面図である。 1,4・・・・・・セラミツク板、2・・・・・・厚膜
ペースト、3,6・・・・・・配線パタン、5,9・・
・・・・厚膜導体ペースト、7・・・・・・厚膜絶縁体
ペースト、8・・・・・・スルホーノレ。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing the first invention of the method for manufacturing a wiring board of the present invention, FIG. 1a is a block diagram showing the manufacturing process, and FIG. 1b is a side sectional view showing the manufacturing process. FIG. 2 is an explanatory view showing the second aspect of the present invention, FIG. 2a is a block diagram showing the manufacturing process, and FIG. 2b is a side sectional view showing the manufacturing process. 1, 4... Ceramic board, 2... Thick film paste, 3, 6... Wiring pattern, 5, 9...
...Thick film conductor paste, 7...Thick film insulator paste, 8...Sulfonate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基板上に厚膜ペーストを被ふくし、該厚膜ペースト
にレーザビームを照射し、レーザビーム未照射部の厚膜
ペーストを溶融除去して所定のパタンを形成し、次いで
炉中で焼成することを特徴とする配線板の製造方法。 2 基板上に厚膜導体ペーストを被ふくし、該厚膜導体
ペーストにレーザビームを照射し、レーザビーム未照射
部の厚膜導体ペーストを溶解除去して所定の配線パタン
を形成し、次にこの配線パタンおよび基板の表面に厚膜
絶縁体ペーストを被ふくし、炉中で焼成し、次いで所定
の位置にレーザビームを用いて穴あけすることを特徴と
する配線板の製造方法。 3 基板上に厚膜導体ペーストを被ふくし、該厚膜導体
ペーストにレーザビームを照射し、レーザビーム未照射
部の厚膜導体ペーストを溶解除去して所定の配線パタン
を形成し、次にこの配線パタンおよび基板の表面に感光
性厚膜絶縁体ペーストを塗布し、露光、現像して穴あけ
し、次いで炉中で焼成することを特徴とする配線板の製
造方法。
[Claims] 1. Covering a substrate with a thick film paste, irradiating the thick film paste with a laser beam, melting and removing the thick film paste in areas not irradiated with the laser beam to form a predetermined pattern, and then A method for manufacturing a wiring board, characterized by firing in a furnace. 2 Cover the substrate with thick film conductor paste, irradiate the thick film conductor paste with a laser beam, dissolve and remove the thick film conductor paste in the areas not irradiated with the laser beam, and then form a predetermined wiring pattern. 1. A method of manufacturing a wiring board, comprising: coating a wiring pattern and the surface of a board with a thick film insulating paste, firing the paste in a furnace, and then drilling holes at predetermined positions using a laser beam. 3 Cover the substrate with thick film conductor paste, irradiate the thick film conductor paste with a laser beam, dissolve and remove the thick film conductor paste in the areas not irradiated with the laser beam, and then form a predetermined wiring pattern. A method for manufacturing a wiring board, which comprises applying a photosensitive thick film insulating paste to a wiring pattern and the surface of a substrate, exposing and developing the paste to make holes, and then baking it in a furnace.
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