JPS5924759U - スパツタリング装置 - Google Patents

スパツタリング装置

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JPS5924759U
JPS5924759U JP12121682U JP12121682U JPS5924759U JP S5924759 U JPS5924759 U JP S5924759U JP 12121682 U JP12121682 U JP 12121682U JP 12121682 U JP12121682 U JP 12121682U JP S5924759 U JPS5924759 U JP S5924759U
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JP
Japan
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target
shutter
plated
suction port
vacuum container
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JP12121682U
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JPS621229Y2 (ja
Inventor
潮田　友四郎
Original Assignee
株式会社徳田製作所
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はこの考案の一実施例に係るスパッタリング装置
の構成を説明するための模式的縦断面図、第２図は同装
置におけるシャッタを下側から見た外観図である。 １・・・真空容器、４・・・スパッタ源、７・・・ター
ゲット、２２・・・位置設定ならびに流路として機能す
るパイプ、２４・・・シャッタ、２９・・・吸引口、３
３・・・バルブ、３４・・・排気系。 −（ａ）２４ ｆ　ｍ （ｂ） 、６２−２７−′？ ！　　ト

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空容器内にターゲットと被メッキ物とを対向配置させ
    、低圧不活性ガス中での放電を利用して上記被メッキ物
    の表面に上記ターゲット構成材とほぼ同一組成の薄膜を
    付着させるようにしたスパッタリング装置において、前
    記真空容器内に配置されたシャッタと、このシャッタを
    上記真空容器外からの操作によって選択的に前記ターゲ
    ットの表面に近接配置させる位置設定機構と、上記シャ
    ッタの上記ターゲットに対向する面に開口部が位置する
    ように設けられた吸引口と、この吸引口を上記真空容器
    外に位置する吸引系に選択的に接続する流路機構とを具
    備してなることを特徴とするスパッタリング装置。
JP12121682U 1982-08-10 1982-08-10 スパツタリング装置 Granted JPS5924759U (ja)

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JP12121682U JPS5924759U (ja) 1982-08-10 1982-08-10 スパツタリング装置

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JP12121682U JPS5924759U (ja) 1982-08-10 1982-08-10 スパツタリング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5924759U true JPS5924759U (ja) 1984-02-16
JPS621229Y2 JPS621229Y2 (ja) 1987-01-13

Family

ID=30277520

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JP12121682U Granted JPS5924759U (ja) 1982-08-10 1982-08-10 スパツタリング装置

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JPS621229Y2 (ja) 1987-01-13

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