JPS5897163U - スパツタ装置 - Google Patents

スパツタ装置

Info

Publication number
JPS5897163U
JPS5897163U JP19557581U JP19557581U JPS5897163U JP S5897163 U JPS5897163 U JP S5897163U JP 19557581 U JP19557581 U JP 19557581U JP 19557581 U JP19557581 U JP 19557581U JP S5897163 U JPS5897163 U JP S5897163U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cooling water
sputtering device
abstract
target
processed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19557581U
Other languages
English (en)
Inventor
竹内 透
Original Assignee
富士通株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士通株式会社 filed Critical 富士通株式会社
Priority to JP19557581U priority Critical patent/JPS5897163U/ja
Publication of JPS5897163U publication Critical patent/JPS5897163U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はスパッタ装置の断面構造図、第2図は本考案に
かきる冷却水パージ用配管を設けた部分断面図である。 図中、1は真空チャンバ、2は被処理基板、3 ゛はタ
ーゲット、6はターゲット支持体、7は流入配管、8は
排出配管、9は水溜め部、10は冷却水パージ用配管、
11はバルブを示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空チャンバ内部で被処理基板とターゲットとを対峙さ
    せた構造を有するスパッタ装置において、ターゲット支
    持へ供給する冷却水配管の所望位置に冷却水パージ用ガ
    ス配管が設けられたことを特徴とするスパッタ装置。
JP19557581U 1981-12-24 1981-12-24 スパツタ装置 Pending JPS5897163U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19557581U JPS5897163U (ja) 1981-12-24 1981-12-24 スパツタ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19557581U JPS5897163U (ja) 1981-12-24 1981-12-24 スパツタ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5897163U true JPS5897163U (ja) 1983-07-01

Family

ID=30108842

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19557581U Pending JPS5897163U (ja) 1981-12-24 1981-12-24 スパツタ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5897163U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6223978A (ja) * 1985-07-24 1987-01-31 Fujitsu Ltd スパツタ装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6223978A (ja) * 1985-07-24 1987-01-31 Fujitsu Ltd スパツタ装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5897163U (ja) スパツタ装置
JPS5877043U (ja) プラズマ処理装置
JPS59138426U (ja) 遠心機の集合体
JPS6061722U (ja) 成膜装置
JPS5815653U (ja) 蒸着装置
JPS6088539U (ja) 反応性スパツタエツチング装置
JPS6139629U (ja) フユ−エルタンクの蒸発ガス冷却装置
JPS5834957U (ja) 真空蒸着装置
JPS5958938U (ja) 低圧処理装置
JPS5881911U (ja) 超電導極低温クライオスタツト
JPS58170421U (ja) エア−フロ−ト式フリ−ボ−ルベアリング
JPS58183474U (ja) 凝縮器の散水装置
JPS6146605U (ja) 水位保持槽
JPS5960493U (ja) 溶湯保持ルツボ
JPS59116587U (ja) 真空排気装置
JPS58158276U (ja) 空気調和機の分配器
JPS594762U (ja) スパツタ薄膜形成装置におけるウエハ冷却機構
JPS6088266U (ja) 試料気化室
JPS5940360U (ja) スパツタリング装置
JPS60113369U (ja) 真空容器へのガス急速供給装置
JPS58148470U (ja) 復水器
JPS6120561U (ja) 真空成膜装置
JPS5823264U (ja) 鋳造装置
JPS5926238U (ja) Cvd装置
JPS59175807U (ja) 脱気器のトレイバイパス管