JPS5923491A - 高周波誘導加熱装置 - Google Patents
高周波誘導加熱装置Info
- Publication number
- JPS5923491A JPS5923491A JP13182082A JP13182082A JPS5923491A JP S5923491 A JPS5923491 A JP S5923491A JP 13182082 A JP13182082 A JP 13182082A JP 13182082 A JP13182082 A JP 13182082A JP S5923491 A JPS5923491 A JP S5923491A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- high frequency
- frequency induction
- induction heating
- wire
- Prior art date
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- Granted
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- General Induction Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高周波誘導加熱装置に関し、詳細には高周波誘
導加熱装置におけるソレノイドコイルに加えられる高周
波高電圧に対する静電遮蔽に関する。
導加熱装置におけるソレノイドコイルに加えられる高周
波高電圧に対する静電遮蔽に関する。
ソレノイドコイル内に金属体を配置し、コイルに高周波
電圧を加えることにより、金属体表面に渦電流を生じせ
しめてそれを加熱する高周波誘導加熱装置は周知である
。
電圧を加えることにより、金属体表面に渦電流を生じせ
しめてそれを加熱する高周波誘導加熱装置は周知である
。
従来のこのような装置においてはコイルと被加熱金属体
との電気的な混触は誘電体をその間に介在させると共に
対地絶縁層を介在させることにより防止されているが充
分とはいえない。更にコイルと被加熱金属体との電気的
分離を行うには両者を静電的に遮蔽する必要がある。こ
のような静電遮蔽にはコイルと被加熱金属体との間に金
属静電遮蔽体を介在させればよい。しかしながら単にそ
のような遮蔽体を介在させた場合にはその遮蔽体自体も
誘導加熱されてしまい極めて不都合である。
との電気的な混触は誘電体をその間に介在させると共に
対地絶縁層を介在させることにより防止されているが充
分とはいえない。更にコイルと被加熱金属体との電気的
分離を行うには両者を静電的に遮蔽する必要がある。こ
のような静電遮蔽にはコイルと被加熱金属体との間に金
属静電遮蔽体を介在させればよい。しかしながら単にそ
のような遮蔽体を介在させた場合にはその遮蔽体自体も
誘導加熱されてしまい極めて不都合である。
本発明の目的は充分な静電遮蔽効果を得ることが出来、
しかもそれ自体誘導加熱される事が殆んどないごとくな
った高周波誘導加熱用の静電遮蔽体を有する高周波誘導
加熱装置を提供することである。
しかもそれ自体誘導加熱される事が殆んどないごとくな
った高周波誘導加熱用の静電遮蔽体を有する高周波誘導
加熱装置を提供することである。
上記目的は本発明によれば素線絶縁された固有抵抗の高
い細い金属線をソレノイドコイルの内側に軸方向に隙間
なく並置し、その一端において金属線を共通接続して接
地するようにして達成される。
い細い金属線をソレノイドコイルの内側に軸方向に隙間
なく並置し、その一端において金属線を共通接続して接
地するようにして達成される。
ここで用いる素線は高周波磁界内で使用される関係上非
磁性材料からなるものである必要があり、更にその寸法
については充分選択する必要がある。
磁性材料からなるものである必要があり、更にその寸法
については充分選択する必要がある。
すなわちこれら素線により形成される静電遮蔽体の発熱
量はコイルに供給される電圧の周波数とそれによりコイ
ル内に発生する磁束の密度とによりきまるものである。
量はコイルに供給される電圧の周波数とそれによりコイ
ル内に発生する磁束の密度とによりきまるものである。
大電力の誘導加熱コイルでは磁束密度も犬となるが、渦
電流の素線の金属線への滲透深さｔ（Ｃｒｎ）は素線の
固有抵抗率をρ（Ω・ｃｍ）とし誘導加熱周波数をｆ（
Ｉ４ｚ）とした場合に次式で一般に表わされる。
電流の素線の金属線への滲透深さｔ（Ｃｒｎ）は素線の
固有抵抗率をρ（Ω・ｃｍ）とし誘導加熱周波数をｆ（
Ｉ４ｚ）とした場合に次式で一般に表わされる。
従って素線の半径はＩｉだはそれ以下であるとよい。
以下図面にもとづき本発明の一実施例を説明する。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図であり、第２図は
第１図の線ｎ−ｎにおける横断面図である。この誘導加
熱装置はソレノイドコイル１と、その内側に配置されて
コイルに印加される高周波電圧を絶縁するだめの対地絶
縁層２と、更にその内側の絶縁筒４から成り、この絶縁
筒４内に加熱されるべき金属体５が配置される。
第１図の線ｎ−ｎにおける横断面図である。この誘導加
熱装置はソレノイドコイル１と、その内側に配置されて
コイルに印加される高周波電圧を絶縁するだめの対地絶
縁層２と、更にその内側の絶縁筒４から成り、この絶縁
筒４内に加熱されるべき金属体５が配置される。
本発明によれば対地絶縁層２と絶縁筒４の間に静電遮蔽
層３が設けられる。
層３が設けられる。
静電遮蔽層は第２図から明らかなように多数の素線６を
コイルの軸と平行にコイルの内側全周にわたり隙間なく
並置して構成されており、各素線６の一端は集電電極７
により共通に接続されて接地線８により接地される。
コイルの軸と平行にコイルの内側全周にわたり隙間なく
並置して構成されており、各素線６の一端は集電電極７
により共通に接続されて接地線８により接地される。
このようにすることにより高周波電圧は対地絶縁層２に
より対地絶縁される。従って高周波電圧のすべてがこの
絶縁層２により分担され、絶縁筒４および絶縁筒４と被
加熱金属体５との間の空隙９には電圧が加わらず、従っ
てコロナの発生、誘電体損の発生等が最少となる。そし
てこのような接地された静電遮蔽層３により、装置に絶
縁不良等の故障が生じても被加熱金属体にコイルの高電
圧が混触することがなく、装置の安全上極めて有利とな
る。また、金属の静電遮蔽層を設けた場合に考えられる
コイル内高周波磁束による発熱は本発明のごとくに静電
遮蔽層を構成することにより極めて僅かなものとなり無
視し得るものである。
より対地絶縁される。従って高周波電圧のすべてがこの
絶縁層２により分担され、絶縁筒４および絶縁筒４と被
加熱金属体５との間の空隙９には電圧が加わらず、従っ
てコロナの発生、誘電体損の発生等が最少となる。そし
てこのような接地された静電遮蔽層３により、装置に絶
縁不良等の故障が生じても被加熱金属体にコイルの高電
圧が混触することがなく、装置の安全上極めて有利とな
る。また、金属の静電遮蔽層を設けた場合に考えられる
コイル内高周波磁束による発熱は本発明のごとくに静電
遮蔽層を構成することにより極めて僅かなものとなり無
視し得るものである。
なお、本発明の静電遮蔽層３を形成する各素線６の絶縁
層は、対地高周波電圧による電界に耐えるものであると
同時にコイルｌと静電遮蔽層３の電磁結合係数が完全に
１．０である場合には静電遮蔽層３にコイルのワンター
ン電圧が加わるのでその電圧にも耐えられるものとすべ
きことは自明である。
層は、対地高周波電圧による電界に耐えるものであると
同時にコイルｌと静電遮蔽層３の電磁結合係数が完全に
１．０である場合には静電遮蔽層３にコイルのワンター
ン電圧が加わるのでその電圧にも耐えられるものとすべ
きことは自明である。
まだ素線６の固有抵抗が高すぎると電磁誘導による渦電
流損は少くなるが静電遮蔽効果も小となり、捷だ対地電
圧により接地側に流れる充電電流による発熱も無視出来
なくなる。従って上記実施例では素線６の一端のみを集
電電極および接地線８で共通に接地しているが、この場
合には素線６の他端側においても同様に接地するように
するとよい。
流損は少くなるが静電遮蔽効果も小となり、捷だ対地電
圧により接地側に流れる充電電流による発熱も無視出来
なくなる。従って上記実施例では素線６の一端のみを集
電電極および接地線８で共通に接地しているが、この場
合には素線６の他端側においても同様に接地するように
するとよい。
５−
第１図は本発明の高周波誘導加熱装置の縦断面図、第２
図は第１図のｎ−ｎ線における断面図である。 １・誘導加熱用ソレノイドコイル、２ 対地絶縁層、３
静電遮蔽層１４ 絶縁筒、５・・・被加熱金属体、６
・素線、７ 集電電極、８・接地線。 ６−
図は第１図のｎ−ｎ線における断面図である。 １・誘導加熱用ソレノイドコイル、２ 対地絶縁層、３
静電遮蔽層１４ 絶縁筒、５・・・被加熱金属体、６
・素線、７ 集電電極、８・接地線。 ６−
Claims (1)
- 円筒型ソレノイドコイルと、このコイルの内側全面にそ
の軸方向に沿って配置された夫々素線絶縁を有する複数
の金属線からなる静電遮蔽体と、これら金属線の一端に
電気的に接続する素線接続部とからなり、上記夫々の素
線の半径はその渦電流の滲透深さ以下であるごとくなっ
た高周波誘導加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13182082A JPS5923491A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 高周波誘導加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13182082A JPS5923491A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 高周波誘導加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5923491A true JPS5923491A (ja) | 1984-02-06 |
| JPS6143830B2 JPS6143830B2 (ja) | 1986-09-30 |
Family
ID=15066859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13182082A Granted JPS5923491A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 高周波誘導加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5923491A (ja) |
-
1982
- 1982-07-28 JP JP13182082A patent/JPS5923491A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6143830B2 (ja) | 1986-09-30 |
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