JPS59232969A - SiC焼結体の製造方法 - Google Patents

SiC焼結体の製造方法

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JPS59232969A
JPS59232969A JP58109767A JP10976783A JPS59232969A JP S59232969 A JPS59232969 A JP S59232969A JP 58109767 A JP58109767 A JP 58109767A JP 10976783 A JP10976783 A JP 10976783A JP S59232969 A JPS59232969 A JP S59232969A
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JP
Japan
Prior art keywords
molded body
sintered body
graphite
sic
tomotochi
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Pending
Application number
JP58109767A
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English (en)
Inventor
康博 愛場
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明ばSiC焼結体の製造方法に関するものである。
8iC焼結体は近年ホットプレス法を使用せず無加圧で
焼成できるようになり、その優れた熱的性質。
化学的性質、耐摩耗性等からエンジニアリングセラミッ
クスとして脚光をあびている。このようなSiC焼結体
は通常、サブミクロンのSiC粉にB、AI、BeC(
炭素)やそれらの化合物からなる焼結助剤とバインダー
等の添加物を加えた成形体を不活性雰囲気中で1900
−2500℃で焼成して得られる。この焼成は高温であ
るので焼成炉の高温部分には通常黒鉛材料が用いられ、
この成形体は黒鉛製台の上に載せて焼成される。この焼
成体の焼成による線収縮率は18〜20%である。焼結
体は焼成中、黒鉛製台の上をすべり、焼結体と黒鉛製台
の間には摩擦が生じる。特にリング状の成形体では摩擦
の大きいところと小さいところが生じるため均一に収縮
せず、真円度の良い焼結体が得られず変形が生じる。こ
のような現象はSiC焼結体のみでなく一般のセラミッ
クスでも起こる。従来からこのような変形防止の対策と
して同一材質の板状の成形体(通常トモトチと称する)
を敷くことにより変形を防止する方法が知られている。
しかしトモトチを用いる方法は通常のセラミックスのよ
うに安宿原料を用い、大きな炉で比較的低温(isoo
℃以下)で焼成する場合にはあまり問題がなくとも8i
C焼結体ではトモトチを用いることは極めて不経済であ
る。
本発明はこのような従来の問題点を解決し、安価で変形
のないSiC焼結体の製造方法を提供することを目的と
するものである。
本発明者はトモトチに替わるものKついて研究を重ねた
結果、トモトチの替わりにSiC,C又はそれらの複合
体からなる球状粒子を用いることにより変形せずSiC
焼結体を製造できることを見い出した。
本発明けSiC粉、焼結助剤及びその他の添加物からな
る成形体を焼成して8iC焼結体を得る場合に成形体と
成形体を載せる台との間にSiC,C(炭素′)又はそ
れらの複合体からなる球状粒子を配置するSiC焼結体
の製造方法に関する。
本発明において用いられる球状粒子は第1に本質的にS
iCからなる球状粒子、たとえば通常の8iCの粉砕粒
を摩砕によシ丸くしたもの、サブミクロンのSiC粉に
焼結助剤とその他の添加物を加えて球状に造粒し、焼結
したもの等をあげることができる。第2は本質的にCか
らなる球状粒子でたとえば黒鉛粉を有機物バインダーで
造粒し、焼成黒鉛化したものをあげることができる。第
3は8iCとCの複合体で、たとえば8iC粉を有機物
バインダーで造粒し、焼成したもの、 8iC球状粒子
にCをコーティングしたもの等をあげることができる。
粒径は焼成する成形体の大きさにもよるが。
通常は0.1〜1.Omが好ましい。しかし1mgをこ
えるものやo、 i at未満でも条件によっては使用
可能である。
次に実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例 平均粒径0.7μmのα−8iC粉100重量部に平均
粒径1μmの炭化硼素(B4C)粉1重量部。
ノボラックフェノールレジン6 fKt部、アセトン1
0重量部を添加して混合し乾燥後、ポリビニルアルコー
ル水溶液(固形分で1重量部)を加えて造粒し、外径1
90.0m、内径170.0m、高さ20.0flaL
の成形体を得た。この成形体2をAr雰囲気中で第1図
のように黒鉛製台1の上に載せて毎時100℃で昇温し
、2000℃で1時間焼成した。
図において(a)は炉内の黒鉛製台1の上に直接成形体
2を置いた場合(比較例1 ) 、 (b)は黒鉛製台
1と成形体20間に+30 GCSiC粉3を置いた場
合(比較例2 ) 、 (C)は黒鉛製台1と成形体2
の間に厚さ4mで成形体2と同一材料で同一外径のトモ
トチ4今置いた場合(比較例3 ) 、 (d)は黒鉛
製台1と成形体20間に厚さ201111のトモトチ4
aを置いた場合(比較例4 ) 、 (e)は黒鉛製台
1と成形体2の間に成形体2と同一の材料を造粒し焼成
して得た平均粒径0.51EIの球状8.i C粒子5
を均一に敷いた場合(実施例1)、(f)は黒鉛製台1
と成形体2の間に厚さ4鴎で成形体2と同一材料、同一
外径のトモトチ4b、トモトチ4bの上に黒鉛微粉をフ
ェノールレジンで造粒し焼成して得た平均粒径0.5f
iの球状黒鉛粒子6を均一に敷いた場合(実施例2)で
ある。この場合の焼結体の密度はいずれも3.15 ?
/cm”であった。またその変形量を外径の最大最小の
差から測定し第1表に示した。
5− 第1表 従来のトモトチを使用するSiC焼結体の製造方法はト
モトチが薄いと焼結体の変形防止効果が小さく厚いこと
が必要であるが9本発明になる球状粒子を使用する製造
方法によれば少量の材料、低摩なコストで優れた変形防
止効果がある。また従来のトモトチと本発明の球状粒子
を併用すれば変形防止効果は極めて大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は成形体を黒鉛製台の上に載せて製造する状態を
示す断面図である。 符号の説明 6− 1・・・黒鉛製台       2・・・成形体3 ・
・・+30GCSiC粉砕粉  4.4a、 4b−・
・トモトチ5・・・平均0.5 flの球状SiC粒子
6・・・平均0.511IIIの球状黒鉛粒子7一

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 8iC粉、焼結助剤及びその他の添加物からなる
    成形体を焼成してSiC焼結体を得る場合に。 成形体と成形体を載せる台との間に8iC,C(炭素)
    又はそれらの複合体からなる球状粒子を配置することを
    特徴とする8iC焼結体の製造方法。
JP58109767A 1983-06-17 1983-06-17 SiC焼結体の製造方法 Pending JPS59232969A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004058663A1 (ja) * 2002-12-26 2004-07-15 Ngk Insulators, Ltd. セラミックス構造体の製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5480305A (en) * 1977-12-08 1979-06-27 Tanto Kk Tile firing in box and bottom laid bowl for use in same process
JPS56160380A (en) * 1980-05-06 1981-12-10 Ngk Spark Plug Co Method of baking ceramics

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