JPS59232087A - 嫌気性細菌の培養方法 - Google Patents
嫌気性細菌の培養方法Info
- Publication number
- JPS59232087A JPS59232087A JP10560083A JP10560083A JPS59232087A JP S59232087 A JPS59232087 A JP S59232087A JP 10560083 A JP10560083 A JP 10560083A JP 10560083 A JP10560083 A JP 10560083A JP S59232087 A JPS59232087 A JP S59232087A
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- JP
- Japan
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- anaerobic
- anaerobic bacteria
- bacteria
- cultivation
- acid salt
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は嫌気性細菌の培養方法に関する。更に詳しくは
亜ニチオン酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム
および水を含有する脱酸素剤と嫌気性細菌を接種した培
地とを密封容器内に封入することを特徴とする嫌気性細
菌の培養方法に関する。
亜ニチオン酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム
および水を含有する脱酸素剤と嫌気性細菌を接種した培
地とを密封容器内に封入することを特徴とする嫌気性細
菌の培養方法に関する。
細菌は酸素の要求度から １）偏性好気性菌２）通性嫌
気性菌 ３）偏性嫌気性菌に分けられ、このうち偏性嫌
気性菌の中にはボツリヌス菌、ウェルシュ菌等の食中毒
菌が多く含まれており近年鎌気性細菌の培養方法が注目
されてきている。
気性菌 ３）偏性嫌気性菌に分けられ、このうち偏性嫌
気性菌の中にはボツリヌス菌、ウェルシュ菌等の食中毒
菌が多く含まれており近年鎌気性細菌の培養方法が注目
されてきている。
しかしながら、従来嫌気性細菌の培養には特別の器具、
装置を必要とし、かつ操作にはかなりの熟練を必要とさ
れていた。
装置を必要とし、かつ操作にはかなりの熟練を必要とさ
れていた。
従来までの方法には １）重層法 ２）高層固形培地培
養法、 ′５）空気置換法 ４）化学的酸素吸収法
５）還元剤等を培地に加える方法 ６）生物学的方法等
があるが、これらはいずれも嫌気雰囲気を作るためＫは
操作が煩雑であった。
養法、 ′５）空気置換法 ４）化学的酸素吸収法
５）還元剤等を培地に加える方法 ６）生物学的方法等
があるが、これらはいずれも嫌気雰囲気を作るためＫは
操作が煩雑であった。
最も一般的に行なわれている方法は ４）のうちガスバ
ック法で原理は化学的方法によりＨ２ガス及び炭酸ガス
を発生させ、パラジウム金属触媒を用いて水素と容器内
の酸素とを反応させて嫌気状態を作り出すものである。
ック法で原理は化学的方法によりＨ２ガス及び炭酸ガス
を発生させ、パラジウム金属触媒を用いて水素と容器内
の酸素とを反応させて嫌気状態を作り出すものである。
しかしながら、この方法では ■可熱性の水素ガスの発
生を伴ない、酸素除去後も数１０％の水素ガスが残存し
危険である、 ■触媒の温度が１００℃以上の高温に達
する、 ■触媒の再生が必要である、 ■経済性に劣る
、等の欠点があった。
生を伴ない、酸素除去後も数１０％の水素ガスが残存し
危険である、 ■触媒の温度が１００℃以上の高温に達
する、 ■触媒の再生が必要である、 ■経済性に劣る
、等の欠点があった。
これらの欠点を解決する方法としては酸素を除去するた
めに脱酸素剤を使用することが考えられる。しかし嫌気
性細菌はその生育に炭酸ガスを必要とする菌が多く、単
に脱酸素剤を使用しても嫌気性細菌の培養方法としては
不十分である。
めに脱酸素剤を使用することが考えられる。しかし嫌気
性細菌はその生育に炭酸ガスを必要とする菌が多く、単
に脱酸素剤を使用しても嫌気性細菌の培養方法としては
不十分である。
本発明はこれらの欠点を克服したものである。
すなわち本発明は亜ニチオン酸塩系脱酸素剤を嫌気性細
菌を接種した培地と共に密封容器内に封入する事を特徴
とする嫌気性細菌の培養方法である。
菌を接種した培地と共に密封容器内に封入する事を特徴
とする嫌気性細菌の培養方法である。
本発明によれば触媒や特殊な器具、装置を必要とせず、
亜ニチオン酸塩系脱酸素剤を密封容器、例えば酸素透気
度１００ｃｃ／Ｌ２・２４ｈｒ・ａｔｏｍ以下の包材で
作られた袋に嫌気性細菌を接種した培地と共に封入、密
封するのみでよく、きわめて簡単に炭酸ガスの共存する
嫌気雰囲気１ を作る事が可能である。
亜ニチオン酸塩系脱酸素剤を密封容器、例えば酸素透気
度１００ｃｃ／Ｌ２・２４ｈｒ・ａｔｏｍ以下の包材で
作られた袋に嫌気性細菌を接種した培地と共に封入、密
封するのみでよく、きわめて簡単に炭酸ガスの共存する
嫌気雰囲気１ を作る事が可能である。
また、簡単に嫌気雰囲気に到達したかどうかを確認する
ため、酸素検知剤を使用する事も可能である。
ため、酸素検知剤を使用する事も可能である。
本発明において亜ニチオン酸塩としては亜二・″ チオ
ン酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２０４）および亜ニチオン酸
亜鉛（ＺｎＳ２０４）が一般的であり、好ましくは亜ニ
チオン酸ナトリウムが用いられる。
ン酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２０４）および亜ニチオン酸
亜鉛（ＺｎＳ２０４）が一般的であり、好ましくは亜ニ
チオン酸ナトリウムが用いられる。
本発明における脱酸素剤はＮａ２Ｓ２Ｏ４１００部に対
してＮａＨＣＯｓ １０〜４００部、Ｎａ２ＣＯｓ
１〜９５０部および水 ５〜４０部からなり、かつＮ
ａＨＣＯｓ／ＮａＨＣＯｓ＋Ｎａ２ＣＯｓの重量比が０
．６〜０．９である。更に好ましくはＮａ２Ｓ２Ｏ４１
００部に対して、ＮａＨＣＯｓ５０〜２００部、Ｎａ２
ＣＯ３１５〜２００部、水 １０〜２０部からなり、か
つ捧糾ＫＯ丁ｔＮａＨＣＯｓ／ＮａＨＣＯｓ＋Ｎａ２Ｃ
Ｏｓの重量比が、０．４〜０．８である。
してＮａＨＣＯｓ １０〜４００部、Ｎａ２ＣＯｓ
１〜９５０部および水 ５〜４０部からなり、かつＮ
ａＨＣＯｓ／ＮａＨＣＯｓ＋Ｎａ２ＣＯｓの重量比が０
．６〜０．９である。更に好ましくはＮａ２Ｓ２Ｏ４１
００部に対して、ＮａＨＣＯｓ５０〜２００部、Ｎａ２
ＣＯ３１５〜２００部、水 １０〜２０部からなり、か
つ捧糾ＫＯ丁ｔＮａＨＣＯｓ／ＮａＨＣＯｓ＋Ｎａ２Ｃ
Ｏｓの重量比が、０．４〜０．８である。
この脱酸素剤に含まれている水は純水又は塩類の水溶液
または有機物の水溶液等の各種の水溶液を用いることが
可能である。
または有機物の水溶液等の各種の水溶液を用いることが
可能である。
これらの水、もしくは水溶液はＮａ２Ｓ２Ｏ４とＮａＨ
ＣＯｓ とＮａ２ＣＯ３の混合物に添加するかもしくは
粒状物質に含浸したかたちで添加する方法がとられる。
ＣＯｓ とＮａ２ＣＯ３の混合物に添加するかもしくは
粒状物質に含浸したかたちで添加する方法がとられる。
嫌気性菌の培養には適正な炭酸ガス雰囲気が必要であり
通常はその濃度が５〜２０９６である。
通常はその濃度が５〜２０９６である。
本発明はこの炭酸ガス雰囲気をＮａＨＣＯｓ／ＮａＨＣ
Ｏｓ＋Ｎａ２ＣＯｓの重量比を変えることＫよりコント
ロールするものであり、この重量比が０・３未満の場合
は炭酸ガスの発生が５９６未満であり、０．９を超える
場合は２０９６を超えてしまうので０．４〜０．９の範
囲が好ましい。
Ｏｓ＋Ｎａ２ＣＯｓの重量比を変えることＫよりコント
ロールするものであり、この重量比が０・３未満の場合
は炭酸ガスの発生が５９６未満であり、０．９を超える
場合は２０９６を超えてしまうので０．４〜０．９の範
囲が好ましい。
本発明に使用する密封容器は酸素透気度が５００ｃｃ／
ＦＰＬ２・２４ｈｒ−ａｔｏｍ以下、好ましくは１００
ＣＣ／ＦＦＬ２−２４ ｈｒ・ａｔｏｍ以下の材質で
作られ、完全に密封可能であれば、その形態にかかわら
ず使用可能である。
ＦＰＬ２・２４ｈｒ−ａｔｏｍ以下、好ましくは１００
ＣＣ／ＦＦＬ２−２４ ｈｒ・ａｔｏｍ以下の材質で
作られ、完全に密封可能であれば、その形態にかかわら
ず使用可能である。
例えば本発明に使用する最も簡単な容器は、各種塩化ビ
ニリデンコートフィルム（ＫＯＰ’（商品名）ＫＯＮ、
ＫＰＥＴ、 等）、ビニロン等で作られた袋であり、
嫌気性菌の接種された培地を炭酸第一鉄及び添加物から
なる脱酸素剤と共に５− 封入し、ヒートシールすればよい。
ニリデンコートフィルム（ＫＯＰ’（商品名）ＫＯＮ、
ＫＰＥＴ、 等）、ビニロン等で作られた袋であり、
嫌気性菌の接種された培地を炭酸第一鉄及び添加物から
なる脱酸素剤と共に５− 封入し、ヒートシールすればよい。
このような透明フィルムを用いると培養中、嫌気性菌の
生育状況の観察が可能となり便利である。
生育状況の観察が可能となり便利である。
嫌気性細菌を十分に生育させるＫは、短時間に嫌気雰囲
気を作り出すことと炭酸ガスを存在させる事が必要であ
り、本発明により炭酸第一鉄系の脱酸素剤を用いれば容
易にその条件を満足させる事ができる。
気を作り出すことと炭酸ガスを存在させる事が必要であ
り、本発明により炭酸第一鉄系の脱酸素剤を用いれば容
易にその条件を満足させる事ができる。
以下に実施例をあげて説明する。
実施例１
嫌気性菌Ｂａｃｔｅｒｏｉｄｅｓ ｆｒａｇｉｌｉｓ
■ＧＡＭブイヨン２４時間嫌気培養液の希釈液、０．
１ｄをＣＡＭ寒天培地で混釈したものをシャーレごと、
Ｎａ２Ｓ２０４１ ．２ Ｐ ＮａＨＣＯｓ １ 、
７ ｆＮａ２ＣＯ３，０、７ｆＪ水０ 、２ Ｐ Ｃａ
ＣＪｈ ０−０２１ 造粒灰 ０．４５’（この組成の
ＮａＨＣＯｓ／ ＮａＨＣＯｓ ＋、Ｎａ２ＣＯｓ ＝
Ｏ−７）からなる脱酸素剤と共に塩化ビニリデンコー
ト延伸ボリプロ６− ピレン／ポリエチレンの二層フィルムから成る透明な袋
内へ封入後ヒートシールし密封した。
■ＧＡＭブイヨン２４時間嫌気培養液の希釈液、０．
１ｄをＣＡＭ寒天培地で混釈したものをシャーレごと、
Ｎａ２Ｓ２０４１ ．２ Ｐ ＮａＨＣＯｓ １ 、
７ ｆＮａ２ＣＯ３，０、７ｆＪ水０ 、２ Ｐ Ｃａ
ＣＪｈ ０−０２１ 造粒灰 ０．４５’（この組成の
ＮａＨＣＯｓ／ ＮａＨＣＯｓ ＋、Ｎａ２ＣＯｓ ＝
Ｏ−７）からなる脱酸素剤と共に塩化ビニリデンコー
ト延伸ボリプロ６− ピレン／ポリエチレンの二層フィルムから成る透明な袋
内へ封入後ヒートシールし密封した。
これを３７℃で４８時間培養後、コロニーの数を測定し
た。また比較例として同試料を大気下及びＦｅ系脱酸素
剤（Ｆｅ粉 １．２ｆＰ相当）を上記の袋へ封入しＣＯ
２の存在しない嫌気下にて培養した後、コロニーの数を
測定した。
た。また比較例として同試料を大気下及びＦｅ系脱酸素
剤（Ｆｅ粉 １．２ｆＰ相当）を上記の袋へ封入しＣＯ
２の存在しない嫌気下にて培養した後、コロニーの数を
測定した。
その結果を表１に示す。
表１
実施例２
ＮａＨＣＯｓ／ＮａＨＣＯｓ＋ Ｎａ２ＣＯｓの比とＣ
Ｏ２発生量を比較するため、ハイドルサルファイド １
゜２ノ、水 ０．２１、 ＣａＣ６２ｏ 、０ ２
ｆ”を一定Ｋして、ＮａＨＣＯ３とＮａ２ＣＯｓ ｆ）
割合を変えた混合物を作り、実施例１と同じようにそれ
ぞれガスクロマトグラフィーで測定した。
Ｏ２発生量を比較するため、ハイドルサルファイド １
゜２ノ、水 ０．２１、 ＣａＣ６２ｏ 、０ ２
ｆ”を一定Ｋして、ＮａＨＣＯ３とＮａ２ＣＯｓ ｆ）
割合を変えた混合物を作り、実施例１と同じようにそれ
ぞれガスクロマトグラフィーで測定した。
結果を表２に示した。
表２
特許出願人
三菱瓦斯化学株式会社
代表者 長野和書
手続補正書
１、事件の表示
昭和５８年特許願第１０５６００号
２、発明の名称
嫌気性細菌の培養方法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所（〒１００）東京都千代田区丸の内二丁目５番２号
名称（４４６）三菱瓦斯化学株式会社 オン酸塩に補正する。
名称（４４６）三菱瓦斯化学株式会社 オン酸塩に補正する。
（２）第６ページ７〜８行目の炭酸第一鉄をアニチオン
酸塩に補正する。
酸塩に補正する。
Claims (1)
- 亜ニチオン酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸す）９ウム
および水を含有する脱酸素剤と嫌気性細菌を接種した培
地とを密封容器内に封入することを特徴とする嫌気性細
菌の培養方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10560083A JPS59232087A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 嫌気性細菌の培養方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10560083A JPS59232087A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 嫌気性細菌の培養方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59232087A true JPS59232087A (ja) | 1984-12-26 |
| JPH0461635B2 JPH0461635B2 (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=14411985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10560083A Granted JPS59232087A (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 嫌気性細菌の培養方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59232087A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004283001A (ja) * | 2000-12-08 | 2004-10-14 | Bicom:Kk | 独立栄養細菌を高濃度に培養するための促進剤 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54105288A (en) * | 1978-01-31 | 1979-08-18 | Toppan Printing Co Ltd | Culturing of anaerobic bacteria |
-
1983
- 1983-06-13 JP JP10560083A patent/JPS59232087A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54105288A (en) * | 1978-01-31 | 1979-08-18 | Toppan Printing Co Ltd | Culturing of anaerobic bacteria |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004283001A (ja) * | 2000-12-08 | 2004-10-14 | Bicom:Kk | 独立栄養細菌を高濃度に培養するための促進剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0461635B2 (ja) | 1992-10-01 |
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