JPS59226897A - ホウ酸ソ−ダ含有放射性廃液の減容固化処理法 - Google Patents
ホウ酸ソ−ダ含有放射性廃液の減容固化処理法Info
- Publication number
- JPS59226897A JPS59226897A JP10133783A JP10133783A JPS59226897A JP S59226897 A JPS59226897 A JP S59226897A JP 10133783 A JP10133783 A JP 10133783A JP 10133783 A JP10133783 A JP 10133783A JP S59226897 A JPS59226897 A JP S59226897A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- radioactive waste
- sodium borate
- containing sodium
- treatment method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
- Treatment Of Sludge (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は放射性廃液の減容固化処理技術に関するもの
である。
である。
従来、原子力発電所または再処理施設などから発生する
ホウ酸ソーダ含有放射性廃液の減容固化処理には、アス
ファル１〜にホウ酸ソーダ含有放剣性廃液を混練したの
ち加熱して水分を蒸発させ、混線物をドラム罐に充填し
て同化処理づるアスファルト同化法、および、ホウ酸ソ
ーダ含有放射性廃液をセメント粉末と混練し、ドラム罐
に注入して同化処理するセメント固化法が利用されてき
た。
ホウ酸ソーダ含有放射性廃液の減容固化処理には、アス
ファル１〜にホウ酸ソーダ含有放剣性廃液を混練したの
ち加熱して水分を蒸発させ、混線物をドラム罐に充填し
て同化処理づるアスファルト同化法、および、ホウ酸ソ
ーダ含有放射性廃液をセメント粉末と混練し、ドラム罐
に注入して同化処理するセメント固化法が利用されてき
た。
しかるに、前者の処理法ににるアスファルト固化体は有
機物であるので、火災面の安全性に欠け、また、後者の
処理法にあってはセメントが十分に固化せず、したがっ
て、同化体としての強度が不十分で、かつ、放射性物質
の浸出率が大きい等の問題があった この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたものであっ
て、ホウ酸ソーダ含有放射性廃液の減容固化処理に係わ
り、固化体どじでの強瓜、耐熱性に優れ、かつ、放射性
物質の浸出することの殆んどない、より安全な同化体を
得るための減容固化処理法を提供することを目的とする
ものである。
機物であるので、火災面の安全性に欠け、また、後者の
処理法にあってはセメントが十分に固化せず、したがっ
て、同化体としての強度が不十分で、かつ、放射性物質
の浸出率が大きい等の問題があった この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたものであっ
て、ホウ酸ソーダ含有放射性廃液の減容固化処理に係わ
り、固化体どじでの強瓜、耐熱性に優れ、かつ、放射性
物質の浸出することの殆んどない、より安全な同化体を
得るための減容固化処理法を提供することを目的とする
ものである。
この目的に対応して、この発明のホウ酸ソーダ含有放射
性廃液の減容固化処理法は、放射性廃液中に含まれるホ
ウ酸ソーダ１に対し１Ｍ比で０．４３ないし２．３３の
シリカわ）末を前記放射性廃液に添加混合したのち前記
放射性廃液をスプレー゛ カルサイナに供給し、高温雰
囲気中において前記放射性廃液中の水分を蒸発させると
共に、ホウ酸ソーダとシリカを反応さぜホウ硅酸ガラス
固化体を得ることを特徴としている。
性廃液の減容固化処理法は、放射性廃液中に含まれるホ
ウ酸ソーダ１に対し１Ｍ比で０．４３ないし２．３３の
シリカわ）末を前記放射性廃液に添加混合したのち前記
放射性廃液をスプレー゛ カルサイナに供給し、高温雰
囲気中において前記放射性廃液中の水分を蒸発させると
共に、ホウ酸ソーダとシリカを反応さぜホウ硅酸ガラス
固化体を得ることを特徴としている。
以下、この発明の詳細を一実施例を示すフローシートに
ついて説明する。
ついて説明する。
図は、本発明に係わるボウ醸ソーダ含有放射性廃液の減
容固化処理法を実施りるためのスブレ−カルサイナ装置
の概略フローシー１へで、ホウ酸ソーダ含有放射性廃液
とシリカ粉末を供給・混合タンク１に供給し、図示して
いないが七−ク駆動の撹拌羽根などによりＪ：り混合し
たのち、前記放射性廃液を配管４を通してスプレーカル
→ノイナ２のノズル３に送入する。ノズル３には放射性
廃液の供給圧力に釣合った圧力で空気を送入しノズル出
口からシリカを添加混合した放射性廃液を霧状にしてス
プレー力ルサイナ２内に噴射する。スプレー力ルザイナ
２内はヒータ１２により５００℃ないし９００℃に加熱
しであるので霧状となった放射性廃液中の水分は直ちに
蒸発し、１１ｊ、削性物質を含有したホウ酸ソーダとシ
リカは固体どして分離され、かつ、均一に分散してスプ
レー力ルサイナ２内を落下しながら熱の影響を受りて互
いに反応しあいホウ硅酸ガラスとなる。ホウ硅酸ガラス
はヒータ１３により９００℃ないし１，３００℃に加熱
されたガラス溶融槽６内に自然落下し完全に溶融して安
全性の高いガラス（冷やせば固化体）が得られる。一方
、蒸発した水分および放射性廃液をスプレーづるだめに
ノズル３に供給した空気はフィルタ７を通過してペンヂ
ュリースクラバ−８、−リーイクロン９およびスクラバ
１０を通過して清浄な空気となりタクトへ放出される。
容固化処理法を実施りるためのスブレ−カルサイナ装置
の概略フローシー１へで、ホウ酸ソーダ含有放射性廃液
とシリカ粉末を供給・混合タンク１に供給し、図示して
いないが七−ク駆動の撹拌羽根などによりＪ：り混合し
たのち、前記放射性廃液を配管４を通してスプレーカル
→ノイナ２のノズル３に送入する。ノズル３には放射性
廃液の供給圧力に釣合った圧力で空気を送入しノズル出
口からシリカを添加混合した放射性廃液を霧状にしてス
プレー力ルサイナ２内に噴射する。スプレー力ルザイナ
２内はヒータ１２により５００℃ないし９００℃に加熱
しであるので霧状となった放射性廃液中の水分は直ちに
蒸発し、１１ｊ、削性物質を含有したホウ酸ソーダとシ
リカは固体どして分離され、かつ、均一に分散してスプ
レー力ルサイナ２内を落下しながら熱の影響を受りて互
いに反応しあいホウ硅酸ガラスとなる。ホウ硅酸ガラス
はヒータ１３により９００℃ないし１，３００℃に加熱
されたガラス溶融槽６内に自然落下し完全に溶融して安
全性の高いガラス（冷やせば固化体）が得られる。一方
、蒸発した水分および放射性廃液をスプレーづるだめに
ノズル３に供給した空気はフィルタ７を通過してペンヂ
ュリースクラバ−８、−リーイクロン９およびスクラバ
１０を通過して清浄な空気となりタクトへ放出される。
−力水蒸気は冷ム１］されて凝縮液タンク１１に貯溜さ
れる。
れる。
実施条件おにび実施結果は次の通りである。
実施例
２．５％のホウ酸ソーダ（Ｎ ａ、Ｂ、０７）水溶液１
０（ｌＣＣに対して、シリカ粉末（平均粒径約５μｍ）
を０７５〜１．７５ｇ添加したホウ酸ソーダ模擬廃液を
作成した。この模擬廃液を約２０ＣＣ／分の流量で６０
０℃ないし８００℃に加熱したスプレーノＪルリーイナ
中に１５Ｌ／分の空気と共に噴霧した。ガラス溶＠槽は
室温から１．２００７Ｃまで変化さけて、ガラス溶融槽
内の生成物を取り出して分析し、温度と生成物の関係を
求めた。
０（ｌＣＣに対して、シリカ粉末（平均粒径約５μｍ）
を０７５〜１．７５ｇ添加したホウ酸ソーダ模擬廃液を
作成した。この模擬廃液を約２０ＣＣ／分の流量で６０
０℃ないし８００℃に加熱したスプレーノＪルリーイナ
中に１５Ｌ／分の空気と共に噴霧した。ガラス溶＠槽は
室温から１．２００７Ｃまで変化さけて、ガラス溶融槽
内の生成物を取り出して分析し、温度と生成物の関係を
求めた。
（２）実り結果
「ホウ硅酸ガラスの生成状況」
ガラス溶融槽を室温に保持して、ガラス溶融槽内に落下
した生成物の分析を行い、ホウ硅酸ガラスの生成状況と
スプレーカル→ノイナ況度との関係を求めた。
した生成物の分析を行い、ホウ硅酸ガラスの生成状況と
スプレーカル→ノイナ況度との関係を求めた。
尚、表中Ｘ印はホウ硅酸ガラスが殆んど生成せず、Δ印
は一部生成し、○印は完全に小つ硅酸ガラスが生成した
事を示す。この表からシリカ粉末の組成比率が高いほど
、ホウ硅酸ガラスが生成する温度が高くなる傾向が認め
られる。
は一部生成し、○印は完全に小つ硅酸ガラスが生成した
事を示す。この表からシリカ粉末の組成比率が高いほど
、ホウ硅酸ガラスが生成する温度が高くなる傾向が認め
られる。
「ガラス同化体の状況」
ボウ硅酸ガラスの得られた表中○印の試料をＸ線解析（
ＸＭΔ）した結果ホウ素とシリコンが均一に分散してい
ることが確認された。また、ガラス溶融槽をｉ、ｏｏｏ
℃イ≧いし１，２００’Ｃに保持して、スプレー力ルザ
イナから落下づる粉末を溶融処理したものでは表中スプ
レー力ルザイナ温度６００℃、６５０℃、７００℃、８
００℃の何れの場合にも比重２．４〜２．７のボウ硅酸
ガラス固化体が得られた。
ＸＭΔ）した結果ホウ素とシリコンが均一に分散してい
ることが確認された。また、ガラス溶融槽をｉ、ｏｏｏ
℃イ≧いし１，２００’Ｃに保持して、スプレー力ルザ
イナから落下づる粉末を溶融処理したものでは表中スプ
レー力ルザイナ温度６００℃、６５０℃、７００℃、８
００℃の何れの場合にも比重２．４〜２．７のボウ硅酸
ガラス固化体が得られた。
これらガラス固化体の浸出率は、試験の結果セメント同
化体の浸出率の約１００分の１であることが確認された
。
化体の浸出率の約１００分の１であることが確認された
。
尚、ホウ硅酸ガラス固化体を１！７るために必要とする
スプレー力ルサイナ加熱条件は、添加するシリカ粉末量
すなわち組成によって異なるが、実施結果の表から判る
ようにシリカ７０ｆｆｉ呈パーセント（ホウ酸ソーダ１
に対しシリカ２３３）のものでは少なくとも６５０°Ｃ
以上に加熱する必要がある。
スプレー力ルサイナ加熱条件は、添加するシリカ粉末量
すなわち組成によって異なるが、実施結果の表から判る
ようにシリカ７０ｆｆｉ呈パーセント（ホウ酸ソーダ１
に対しシリカ２３３）のものでは少なくとも６５０°Ｃ
以上に加熱する必要がある。
また、９００℃を超える高温状態では、スプレー力ルザ
イナ内を落下中に反応して生成したホウ硅酸ガラスのう
ちシリカ濃度の小さいものは溶融状態となりスプレー力
ルサイナ内壁にイ」着してしまい回収することが困難と
なるので、上限は９００℃程度に抑えることが好ましい
。
イナ内を落下中に反応して生成したホウ硅酸ガラスのう
ちシリカ濃度の小さいものは溶融状態となりスプレー力
ルサイナ内壁にイ」着してしまい回収することが困難と
なるので、上限は９００℃程度に抑えることが好ましい
。
ガラス溶融槽の加熱温度については、シリカ含有量の大
きなホウ硅酸ガラスを溶融状態にするには１ 、２００
℃を必要とするので、完全な溶融を図るためには余裕を
みて１ 、３００℃程瓜に加熱することが好ましい。し
かし、ガラス溶解槽は［ホウ硅酸カラスの生成状況」に
おいて記述しＩＣように必ずしも必要なものではない。
きなホウ硅酸ガラスを溶融状態にするには１ 、２００
℃を必要とするので、完全な溶融を図るためには余裕を
みて１ 、３００℃程瓜に加熱することが好ましい。し
かし、ガラス溶解槽は［ホウ硅酸カラスの生成状況」に
おいて記述しＩＣように必ずしも必要なものではない。
すなわち、スプレー力ルザイナから落下する反応生成物
を室温雰囲気に取り出すだけでもボウ硅酸ガラス固化体
を行ることが可能である。
を室温雰囲気に取り出すだけでもボウ硅酸ガラス固化体
を行ることが可能である。
以上の説明から明らかなように、この発明によればホウ
酸ソーダ含有放射性廃液中の水分以外の物質を、添加し
たシリカ粉末との反応生成物であるホウ硅酸ガラス中に
溶融固化処理づ°ることができ、しかも、ホウ硅酸ガラ
スは不燃であることは勿論のこと固化体として強度、耐
熱性に優れており、かつ、浸出の問題も殆ｌυどないの
で、放射＋９廃液の安全な処理処分を実施することがで
き産業上きわめて有用である。
酸ソーダ含有放射性廃液中の水分以外の物質を、添加し
たシリカ粉末との反応生成物であるホウ硅酸ガラス中に
溶融固化処理づ°ることができ、しかも、ホウ硅酸ガラ
スは不燃であることは勿論のこと固化体として強度、耐
熱性に優れており、かつ、浸出の問題も殆ｌυどないの
で、放射＋９廃液の安全な処理処分を実施することがで
き産業上きわめて有用である。
図は、この発明を実施するためのスプレー力ルザスナ装
置の概略フローシートを示づものである。 １ ：ｌ、−、供給・混合タンク ２・・・スプレー
力ルサイナ ３・・・ノズル ４・・・配管 ６
・・・ガラス溶融槽 １２．１３・・・ヒータ １
５・・・フラッシュタンク 特ＦＦ出願人 三菱原子カニ業株式会社代理
人弁理士 川 １１ 泊 男５５１
置の概略フローシートを示づものである。 １ ：ｌ、−、供給・混合タンク ２・・・スプレー
力ルサイナ ３・・・ノズル ４・・・配管 ６
・・・ガラス溶融槽 １２．１３・・・ヒータ １
５・・・フラッシュタンク 特ＦＦ出願人 三菱原子カニ業株式会社代理
人弁理士 川 １１ 泊 男５５１
Claims (1)
- （１）放射性廃液中に含まれるホウ酸ソーダ１に対し重
量比で０，４３ないし２３３のシリカ粉末を前記放射性
廃液に添加混合したのち前記放射性廃液をスプレー力ル
ザイナに供給し、高温雰囲気中において前記放射性廃液
中の水分を蒸発させると共に、ホウ酸ンーダとシリカを
反応させ、ホウ硅酸ガラス同化体を得ることを特徴とＪ
るホウ酸ソーダ含有／ｊ５［躬性廃液の減容固化処理法
（２）前記高温雰囲気は、６５０℃ないし９００℃であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のホウ酸
ソーダ含有放射性廃液の減容固化処理法（３）前記ホウ
硅酸ガラス固化体は、冷却固化前に少なくとも９００℃
ないし１，３００’Ｃに加熱溶融することを特徴とする
特許請求の範囲第１項または第２項記載のホウ酸ソーダ
含有放口Ｊ性廃液の減容固化処理法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10133783A JPS59226897A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | ホウ酸ソ−ダ含有放射性廃液の減容固化処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10133783A JPS59226897A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | ホウ酸ソ−ダ含有放射性廃液の減容固化処理法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59226897A true JPS59226897A (ja) | 1984-12-20 |
Family
ID=14298020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10133783A Pending JPS59226897A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | ホウ酸ソ−ダ含有放射性廃液の減容固化処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59226897A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4595528A (en) * | 1984-05-10 | 1986-06-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Process for immobilizing radioactive boric acid liquid wastes |
-
1983
- 1983-06-07 JP JP10133783A patent/JPS59226897A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4595528A (en) * | 1984-05-10 | 1986-06-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Process for immobilizing radioactive boric acid liquid wastes |
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