JPS59220333A - 合成樹脂平面レンズの製造方法 - Google Patents
合成樹脂平面レンズの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は合成樹脂から成る透明基板中に屈折率分布型レ
ンズ部分が設けられている合成樹脂平面レンズを製造す
る方法に関する。
ンズ部分が設けられている合成樹脂平面レンズを製造す
る方法に関する。
平行平面をもつ透明基板内に、光軸方向に二乗近似で変
化する屈折率分布および光軸を含む少なくとも一つの断
面内で光軸から遠さかるくつれて二乗近似で次第に変化
する屈折率分布をもつ屈折率分布型レンズ部分を間隔を
おいてライン状ＶＣあるいはマトリクス状に多数形成し
た平面レンズが知られている。このよう力平面レンズに
おいて、レンズ部分は光軸を含む全ての断面内で上記の
ような屈折率分布をもつレンズすなわち半球状または球
状レンズである場合もあれは、１つの断面内で光軸から
離れるにしたかい次第に変化する屈折率分布をもち、こ
れと直交する断面内では光軸からの距離によらず屈折率
が一定であるようなレンズすなわち半円柱状または円柱
状レンズでおる場合もある。
化する屈折率分布および光軸を含む少なくとも一つの断
面内で光軸から遠さかるくつれて二乗近似で次第に変化
する屈折率分布をもつ屈折率分布型レンズ部分を間隔を
おいてライン状ＶＣあるいはマトリクス状に多数形成し
た平面レンズが知られている。このよう力平面レンズに
おいて、レンズ部分は光軸を含む全ての断面内で上記の
ような屈折率分布をもつレンズすなわち半球状または球
状レンズである場合もあれは、１つの断面内で光軸から
離れるにしたかい次第に変化する屈折率分布をもち、こ
れと直交する断面内では光軸からの距離によらず屈折率
が一定であるようなレンズすなわち半円柱状または円柱
状レンズでおる場合もある。
上述のような平面レンズは複写機やファクシミリの光学
系など種々の用途における画像伝送素子として、あるい
は光源と光ファイバーとの光結合系、光ファイバーの中
間に減衰器ま７’Ｃは分岐回路を挿入するための平行光
変換素子など光通信用の周辺デバイス等に有用である。
系など種々の用途における画像伝送素子として、あるい
は光源と光ファイバーとの光結合系、光ファイバーの中
間に減衰器ま７’Ｃは分岐回路を挿入するための平行光
変換素子など光通信用の周辺デバイス等に有用である。
上述のような平面レンズを合成樹脂を用いて製作する場
合、第１図に示すように屈折率Ｎａの網状重合体（共重
合体を含む）Ｐａｄ−生成する単量体（単量体混合物を
含む）Ｍａを一部重合して透明ゲル状の基板Ｏ１をつ＜
ル、この基板１１の表面に形成すべきレンズ部分のパタ
ーンに合わせた開口α１）を設けたマスクμりそ施し、
この開口（ｌＤｙ！：通して基板中に上記屈折率Ｎａと
は異なる屈折率Ｎｂの重合体（共重合体を宵む）Ｐｂを
生成する単量体（単量体混合物を含む）Ｍｂを拡散及び
重合させてレンズ部分Ｑ３）を形成する方法か知られて
いる。この場合Ｎａ＞Ｎｂであれば基板中に形成される
レンズ部分（１３）は凹レンズ作用をもち、 Ｎａ（Ｎ
ｂであれば凸レンズ作用をもつことになる。
合、第１図に示すように屈折率Ｎａの網状重合体（共重
合体を含む）Ｐａｄ−生成する単量体（単量体混合物を
含む）Ｍａを一部重合して透明ゲル状の基板Ｏ１をつ＜
ル、この基板１１の表面に形成すべきレンズ部分のパタ
ーンに合わせた開口α１）を設けたマスクμりそ施し、
この開口（ｌＤｙ！：通して基板中に上記屈折率Ｎａと
は異なる屈折率Ｎｂの重合体（共重合体を宵む）Ｐｂを
生成する単量体（単量体混合物を含む）Ｍｂを拡散及び
重合させてレンズ部分Ｑ３）を形成する方法か知られて
いる。この場合Ｎａ＞Ｎｂであれば基板中に形成される
レンズ部分（１３）は凹レンズ作用をもち、 Ｎａ（Ｎ
ｂであれば凸レンズ作用をもつことになる。
また、他の方法として第２図に示すように上記と同様の
透明なゲル状基板Ｉをつくり、この基板面のレンズ部分
に限定してマスク（１５１を施し、周辺から基板ａ優と
重合してＮａとれ異なる屈折率Ｎｂｇ）′Ｍ。
透明なゲル状基板Ｉをつくり、この基板面のレンズ部分
に限定してマスク（１５１を施し、周辺から基板ａ優と
重合してＮａとれ異なる屈折率Ｎｂｇ）′Ｍ。
合体をつくるような単量体を拡散する方法もある。
この場合には、基板中に形成されるレンズ部分ａｅはＮ
ａ＞歯であれに凸レンズ作用を示し、 Ｎａ（歯であれ
は凹レンズ作用を示す。
ａ＞歯であれに凸レンズ作用を示し、 Ｎａ（歯であれ
は凹レンズ作用を示す。
ところが、上述した様な第１図及び第２図に示す従来方
法では、単量体量の拡散を妨ける為に設けられるマスク
α２）ａ９とゲル基板（１１１（１４）との密着性が余
程良好でない限夛、単量解扁はマスクとゲル基板との間
に侵入し、単量１ｍがゲル基板の表面全体に拡散してし
まうので屈折率分布をもったレンズ本を形成することが
できないという問題をしはしは生じていた。
法では、単量体量の拡散を妨ける為に設けられるマスク
α２）ａ９とゲル基板（１１１（１４）との密着性が余
程良好でない限夛、単量解扁はマスクとゲル基板との間
に侵入し、単量１ｍがゲル基板の表面全体に拡散してし
まうので屈折率分布をもったレンズ本を形成することが
できないという問題をしはしは生じていた。
本発明は上記従来の問題点を解決し、屈折率分布型平面
レンズの製造に際し上記従来例におけるマスクとゲル基
板との密着性の問題を回避し得る新規な合成樹脂平面レ
ンズの製造方法を提供することを目的としている。
レンズの製造に際し上記従来例におけるマスクとゲル基
板との密着性の問題を回避し得る新規な合成樹脂平面レ
ンズの製造方法を提供することを目的としている。
ところで、一般罠、多元共重合反応において、下記生長
反応ニ ー Ｍｉ”＋ぬ→−ぬ１ ・・・・・・・・・
（１）の速度定数１ｋｉｊ とすれは、任意の単量体
Ｍｉの単量体量に対する反応性比ｒｉｊは ｒｉｊ ＝ ｋｉｉ ／ ｋｉｊ ・・−
・・・（２Ｊと定義される。同様九単量本Ｍｉに対する
単量体めの反応性比ｒｊｉは ｒｊｉ ＝ ｋｊｊ ／ ｋｊｉ −・・−
・−（３）と定義される。Ｘ元系重合にはＸ（Ｘ−１）
個の反応性比かある。を几、単量体ＭｔとＭｊの混合比
を（Ｍｊ ／Ｍｊ ）ｒｎとすると、このとき生成する
共重合体の単量体成分組成比（Ｍｉ／Ｍｊ）ｐは、（４
）式で責わされることか知られている。
反応ニ ー Ｍｉ”＋ぬ→−ぬ１ ・・・・・・・・・
（１）の速度定数１ｋｉｊ とすれは、任意の単量体
Ｍｉの単量体量に対する反応性比ｒｉｊは ｒｉｊ ＝ ｋｉｉ ／ ｋｉｊ ・・−
・・・（２Ｊと定義される。同様九単量本Ｍｉに対する
単量体めの反応性比ｒｊｉは ｒｊｉ ＝ ｋｊｊ ／ ｋｊｉ −・・−
・−（３）と定義される。Ｘ元系重合にはＸ（Ｘ−１）
個の反応性比かある。を几、単量体ＭｔとＭｊの混合比
を（Ｍｊ ／Ｍｊ ）ｒｎとすると、このとき生成する
共重合体の単量体成分組成比（Ｍｉ／Ｍｊ）ｐは、（４
）式で責わされることか知られている。
とおくと、Ｑ＞１であれは常に式（６）か成立するＯす
なわち生成する共重合体中のＭｉ収分のきＭ比は単量体
混合物中のＭｉの混合比よシも常に高いので、重合時間
とともに残存している単量本混合物中のＭｉの混合比扛
次第に減少し、逆に同の混合比は次第に増加する。しｆ
ｃがって重合初期に生成する共重合体中のＭｉ成分の含
有比は高いが、重合時間と共にその時点で生成する共重
合体のＭｉ成分の含有比は減少する。逆に、生成する共
重合体中のめ成分の含有比は重合の進行と共に次第に増
加する。
なわち生成する共重合体中のＭｉ収分のきＭ比は単量体
混合物中のＭｉの混合比よシも常に高いので、重合時間
とともに残存している単量本混合物中のＭｉの混合比扛
次第に減少し、逆に同の混合比は次第に増加する。しｆ
ｃがって重合初期に生成する共重合体中のＭｉ成分の含
有比は高いが、重合時間と共にその時点で生成する共重
合体のＭｉ成分の含有比は減少する。逆に、生成する共
重合体中のめ成分の含有比は重合の進行と共に次第に増
加する。
このようにして得られる共重合本線組成の異なる共重合
体の混合物である。
体の混合物である。
またＱ＜１であれに常に
Ｍｉ Ｍｉ ・・・曲・・（７）（
−）ｐ＜（痛−）ｍ ｊ となるから、Ｑ〉１の場合とは逆に、共重合体中のＭｔ
酸成分含有比は単量体混合物中のＭｉの混合比よシも常
に小さくなる。
−）ｐ＜（痛−）ｍ ｊ となるから、Ｑ〉１の場合とは逆に、共重合体中のＭｔ
酸成分含有比は単量体混合物中のＭｉの混合比よシも常
に小さくなる。
Ｑ＝１であれは
Ｍｉ Ｍｉ
（−）ｐ＝（可）ｍ ・・・・・・・・・（８）
園 となシ、単量体混合比と等しい組成を持った共重合体が
生成し、共重合体は組成分布を示さない。
園 となシ、単量体混合比と等しい組成を持った共重合体が
生成し、共重合体は組成分布を示さない。
木兄８ＪＪは重合の進行とともに共重合体の組成が変化
することを利用し％ ７〜その共重合
体の成分として、 重合したときの屈折率が互いに異なる２種以上の単量体
を選ぶことによって、合成樹脂からなる透明な基板中に
、光軸方向１ｃ次第に変化する屈折率分布と光軸を含む
少くとも１つの断面内で上記光軸から遠ざかるにつれて
次第に変化する屈折率分布とを夫々備えた単一のまたは
複数の屈折率分布型レンズ部分が設けられている合成樹
脂平面レンズを製造する方法を提供するものである。
することを利用し％ ７〜その共重合
体の成分として、 重合したときの屈折率が互いに異なる２種以上の単量体
を選ぶことによって、合成樹脂からなる透明な基板中に
、光軸方向１ｃ次第に変化する屈折率分布と光軸を含む
少くとも１つの断面内で上記光軸から遠ざかるにつれて
次第に変化する屈折率分布とを夫々備えた単一のまたは
複数の屈折率分布型レンズ部分が設けられている合成樹
脂平面レンズを製造する方法を提供するものである。
すなわち、本発明は、その単独重合体の屈折率が互いに
異なる少くとも２種の単量ｆ＃−（単量本混合物を含む
）の混合物を所定形状に保持し、その所定形状の混合物
体に対して場所的に不均一な共重合条件を付与すること
によって最初に前記混合物体のうちの所定部分のみか前
記混合比とは異な・る単量体成分比の共重合＃−を局部
的に形成し次いでその部分から他の部分罠向かって徐々
に共重合か進行するようにして、共重合体の内部におい
て、前記所定の部分から他の部分に向かって単量体成分
の含有比か次第に変化するような組成分布を持たせるこ
とを特徴とする合成樹脂平面レンズの製造方法に係るも
のである。
異なる少くとも２種の単量ｆ＃−（単量本混合物を含む
）の混合物を所定形状に保持し、その所定形状の混合物
体に対して場所的に不均一な共重合条件を付与すること
によって最初に前記混合物体のうちの所定部分のみか前
記混合比とは異な・る単量体成分比の共重合＃−を局部
的に形成し次いでその部分から他の部分罠向かって徐々
に共重合か進行するようにして、共重合体の内部におい
て、前記所定の部分から他の部分に向かって単量体成分
の含有比か次第に変化するような組成分布を持たせるこ
とを特徴とする合成樹脂平面レンズの製造方法に係るも
のである。
本発明においては％まずＸ種類（Ｘは少なくとも２）の
単３１体Ｍ１．Ｍ２．・・・・−・・・・・・・１ＭＸ
の混合物を所定の形状に保持する。この混合物は通常は
液体であるから、所定の内側形状を有する型容器内にこ
の混合物を流し込むことによって所定形状、例えは板状
に保持される。
単３１体Ｍ１．Ｍ２．・・・・−・・・・・・・１ＭＸ
の混合物を所定の形状に保持する。この混合物は通常は
液体であるから、所定の内側形状を有する型容器内にこ
の混合物を流し込むことによって所定形状、例えは板状
に保持される。
次に、所定の形状に保持された単量体の混合物体に対し
て、場所的に不均一な共重合条件を付与する。゛たとえ
は加熱によって共重合させる場合には１部分的に断熱す
る断熱用マスク等を用いて混合物体の内部に不均一な温
度分布を与えることによシ％また紫外ｉ、可視光線、ま
たは放射線の照射によって共重合させる場合には、これ
らの照射線を部分的に遮蔽する遮光マスク等を用いて混
合体内部でこれらの照射’Ｉ−を不拘−九分布させるこ
とによフ、不均一な共重合条件は付与される。この不均
一な共重合条件は、前記混合物体中の所定部分のみが単
量体の混合比に比べて特定の単量体成分を多く含有する
共重合体を局部的に形成し。
て、場所的に不均一な共重合条件を付与する。゛たとえ
は加熱によって共重合させる場合には１部分的に断熱す
る断熱用マスク等を用いて混合物体の内部に不均一な温
度分布を与えることによシ％また紫外ｉ、可視光線、ま
たは放射線の照射によって共重合させる場合には、これ
らの照射線を部分的に遮蔽する遮光マスク等を用いて混
合体内部でこれらの照射’Ｉ−を不拘−九分布させるこ
とによフ、不均一な共重合条件は付与される。この不均
一な共重合条件は、前記混合物体中の所定部分のみが単
量体の混合比に比べて特定の単量体成分を多く含有する
共重合体を局部的に形成し。
次いでその部分から他の部分に向かって徐々に共重合か
進行するように選はれる。紫外線や可視光線を照射１゛
る場合には、増感のために透明度をそれｔ！、ど低下さ
せない程贋に増感剤を前記混合物中に混入させることか
好ましい。
進行するように選はれる。紫外線や可視光線を照射１゛
る場合には、増感のために透明度をそれｔ！、ど低下さ
せない程贋に増感剤を前記混合物中に混入させることか
好ましい。
最初に共重合させる部分か平面レンズの光軸か通る部分
を含む場合、初期に生成する共重合体＃１と、その単独
重合体の屈折率が大きい単、！＃−成分を多く含有する
ような単量体の組合せを選ぶと、得られる平面レンズは
凸レンズになる。葦た逆に、初期に生成する共重合体ｔ
Ｘど、その単独重合（＊の屈折率か小さい単量体成分を
多くき有するような単量体の組合せを選ぶと、得られる
平面レンズは凹レンズになる。すなわち、任意の２種の
単片体Ｍｉおよび間についてそれぞれの単独息＆体の屈
折率をＮｉ％Ｎｊとするとき、前記（５）式においてＱ
＞ １．１ 。
を含む場合、初期に生成する共重合体＃１と、その単独
重合体の屈折率が大きい単、！＃−成分を多く含有する
ような単量体の組合せを選ぶと、得られる平面レンズは
凸レンズになる。葦た逆に、初期に生成する共重合体ｔ
Ｘど、その単独重合（＊の屈折率か小さい単量体成分を
多くき有するような単量体の組合せを選ぶと、得られる
平面レンズは凹レンズになる。すなわち、任意の２種の
単片体Ｍｉおよび間についてそれぞれの単独息＆体の屈
折率をＮｉ％Ｎｊとするとき、前記（５）式においてＱ
＞ １．１ 。
１
Ｔ ｉｚ＞ ′ゞ”＞Ｎｊ・またｕＱ＜工Ｔ１か９ゞ１
くゞｊならば凸レンズが形成される。また、Ｑ＞１．１
でかつである場合には生成する共重合体は全く組成分布
を示さないかあるいは組成分布を示してもそれは十分で
ない。ま７ｈ、ＮｉとＮｊＱ差は０．００５以上である
のが好ましく、これはこの屈折率の差が０．００５未満
の場合にはレンズとして作用するに十分な屈折率勾配が
得にくいからである。
くゞｊならば凸レンズが形成される。また、Ｑ＞１．１
でかつである場合には生成する共重合体は全く組成分布
を示さないかあるいは組成分布を示してもそれは十分で
ない。ま７ｈ、ＮｉとＮｊＱ差は０．００５以上である
のが好ましく、これはこの屈折率の差が０．００５未満
の場合にはレンズとして作用するに十分な屈折率勾配が
得にくいからである。
また、最後に共重合させる部分が平面レンズの光軸か通
る部分を含む場合には、上述したのとは逆ＶＣ，重合初
期に生成する共重合体はど、その単独重合体の屈折率が
小さい単Ｊｉ：体成分を多くき有するように単量体の組
合せを選ぶと得られる平面レンズは凸レンズになる。こ
れとは反対に、重合初期に生成する共重合体はと、その
単独重合体の屈折率が大きい単量体成分を多く庁有する
ように単量体の組合せを選ぶと、得られる平面レンズは
凹レンズになる。すなわち、Ｑ＞１．１かつｒｔｉｔ＜
Ｎｊ。
る部分を含む場合には、上述したのとは逆ＶＣ，重合初
期に生成する共重合体はど、その単独重合体の屈折率が
小さい単Ｊｉ：体成分を多くき有するように単量体の組
合せを選ぶと得られる平面レンズは凸レンズになる。こ
れとは反対に、重合初期に生成する共重合体はと、その
単独重合体の屈折率が大きい単量体成分を多く庁有する
ように単量体の組合せを選ぶと、得られる平面レンズは
凹レンズになる。すなわち、Ｑ＞１．１かつｒｔｉｔ＜
Ｎｊ。
成され、Ｑ＞１．１かつＮｉ ＞Ｎｊ、またはＱ〈１
が７ｆ つＮｉ＜Ｎｊであれば凹レンズか形成される。
が７ｆ つＮｉ＜Ｎｊであれば凹レンズか形成される。
次に、２種の単量体Ｍ１およびＮ２からなる単量体混合
物を用いて共重合を行わせる二元共重合の場合について
具体的に説明する。
物を用いて共重合を行わせる二元共重合の場合について
具体的に説明する。
この場合、次の４種類の生長反応が競合して起こる。
＊
−Ｍ１−１−Ｍ１→−Ｍ１（速度定数４１１）−Ｍｌ
＋Ｍ２→−Ｍ２（〃 ム１２）−Ｎ２ ＋Ｍ１→−
Ｍ１（ｔｔ Ａ２１）＋ｖ″Ｍｚ＋Ｍ２−＋
Ｎ２ （”２２）単量体反応比ｒ１２および１２１
は式（９）によって定義される。
＋Ｍ２→−Ｍ２（〃 ム１２）−Ｎ２ ＋Ｍ１→−
Ｍ１（ｔｔ Ａ２１）＋ｖ″Ｍｚ＋Ｍ２−＋
Ｎ２ （”２２）単量体反応比ｒ１２および１２１
は式（９）によって定義される。
′またＱは式（１１″１？表わされる。
ＩＭＩ
Ｑミ（ｒ１２ｃ、、 ）ｍ ＋１１ ／ （（ｚ）ｍ
＋ｒ２ｔ ｌ −・・（１（ｅここで（Ｍ１／Ｍ２ ）
ｍ １４単量体Ｍ１と単量体Ｍ２の混合モル比である。
＋ｒ２ｔ ｌ −・・（１（ｅここで（Ｍ１／Ｍ２ ）
ｍ １４単量体Ｍ１と単量体Ｍ２の混合モル比である。
このとき、Ｑ ＞ １．１またはＱ＜Ｔ丁であれは、共
重合体に所望の組成分布が形成される。そこで、平面レ
ンズの光軸が通る部分を含む場所から共重合を行わせる
場合には、Ｑ＞１．１かつＮ１＞Ｎ２ （Ｎ１、Ｎ２は
それぞれ単量体Ｍ、 １Ｍ２の単独重合体の屈折率）、
またはＱ＜Ｔ王かつＮ１＜Ｎ２であるような単量体の組
合せを用いると凸レンズが形成され、Ｑ＞１．１かつＮ
ｉ＜Ｎ２％″ｔｈたはＱく沓かつＮ１＞Ｎ２であれは凹
レンズが形成される。また、光軸を含む部分以外のとこ
ろから共重合を行わせる場合には、Ｑ＞１．１かつＮ１
＜Ｎ２ ％またはＱ〈 かつＮ、＞Ｎ２であれば・
ＴＶ 凸レンズが形成され、Ｑ＞１．１かつＮ１＞Ｎ２ ％ま
たしい。
重合体に所望の組成分布が形成される。そこで、平面レ
ンズの光軸が通る部分を含む場所から共重合を行わせる
場合には、Ｑ＞１．１かつＮ１＞Ｎ２ （Ｎ１、Ｎ２は
それぞれ単量体Ｍ、 １Ｍ２の単独重合体の屈折率）、
またはＱ＜Ｔ王かつＮ１＜Ｎ２であるような単量体の組
合せを用いると凸レンズが形成され、Ｑ＞１．１かつＮ
ｉ＜Ｎ２％″ｔｈたはＱく沓かつＮ１＞Ｎ２であれは凹
レンズが形成される。また、光軸を含む部分以外のとこ
ろから共重合を行わせる場合には、Ｑ＞１．１かつＮ１
＜Ｎ２ ％またはＱ〈 かつＮ、＞Ｎ２であれば・
ＴＶ 凸レンズが形成され、Ｑ＞１．１かつＮ１＞Ｎ２ ％ま
たしい。
３種の単量体Ｍ、 、 Ｎ２およびＮ５からなる単量体
混合物を用いて共重合を行わせる三元共重合では次０９
種類の生長反応が競合して起こる。
混合物を用いて共重合を行わせる三元共重合では次０９
種類の生長反応が競合して起こる。
＊
Ｍｔ ＋Ｍ１→−Ｍ１（速度定数４１１）−Ｍｌ ”
＋ Ｎ２→−Ｎ２＊（速度定数４１２）−Ｍｌ ＋Ｍ
５→〜〜Ｍ３（”１ｓ）Ｎ２ ＋Ｍ１→−Ｍ１ （”
２１） −Ｎ２ ＋Ｍ２→−Ｍ２ （１４２２）〜Ｍ２
＋Ｍ５→〜Ｍ！！”（”２５）−Ｎ５−１−Ｍ、→〜Ｍ
１（”ｓ、） 〜油 十Ｍ２→〜Ｍ２ （”５２） −Ｍ！ｌ ＋Ｍ５→−Ｍ５ （１’ｓ３）単量本反
応性比は式Ｉによって定義される。
＋ Ｎ２→−Ｎ２＊（速度定数４１２）−Ｍｌ ＋Ｍ
５→〜〜Ｍ３（”１ｓ）Ｎ２ ＋Ｍ１→−Ｍ１ （”
２１） −Ｎ２ ＋Ｍ２→−Ｍ２ （１４２２）〜Ｍ２
＋Ｍ５→〜Ｍ！！”（”２５）−Ｎ５−１−Ｍ、→〜Ｍ
１（”ｓ、） 〜油 十Ｍ２→〜Ｍ２ （”５２） −Ｍ！ｌ ＋Ｍ５→−Ｍ５ （１’ｓ３）単量本反
応性比は式Ｉによって定義される。
ｒ１２＝ ’＋１／ ’１２
ｒｚ１＝’２２／ ’２１
ｒｓ１＝ ’５ｓ／ ’５１
ｒ２ｓ＝ Ａ２２／’２５
ｒＢ２Ｅ ４５８／ ’３２
またＱは次の６通ルの式で我わされる。
Ｑ１ミ（ｒ １２ ｔＭＶＭ２ ）ｍ十月／ （（ＭＶ
Ｍｚ）ｍ ＋ｒ２１１Ｑ２Ｆ （ｒ２ｓ （Ｍ２／Ｍ５
）ｍ＋１ ）／ （（Ｍｖ’Ｍｓ）ｍ ＋ ｒｓ２１
−α４Ｑｓ ＝ ｌ ｒｌｓ （Ｍｌ／Ｍ！ｌ ）ｍ
十月／ （（ＭｖＭｓ）ｍ ＋ｒｓ １１ここで（Ｍ１
／Ｍ２ ）ｍ −（Ｍｖ’Ｍｓ ）ｍおよび（Ｍ１／Ｍ
ｓ）ｍはそれぞれ混合モル比である。
Ｍｚ）ｍ ＋ｒ２１１Ｑ２Ｆ （ｒ２ｓ （Ｍ２／Ｍ５
）ｍ＋１ ）／ （（Ｍｖ’Ｍｓ）ｍ ＋ ｒｓ２１
−α４Ｑｓ ＝ ｌ ｒｌｓ （Ｍｌ／Ｍ！ｌ ）ｍ
十月／ （（ＭｖＭｓ）ｍ ＋ｒｓ １１ここで（Ｍ１
／Ｍ２ ）ｍ −（Ｍｖ’Ｍｓ ）ｍおよび（Ｍ１／Ｍ
ｓ）ｍはそれぞれ混合モル比である。
式（１２１で表わされるＱ＋ 、Ｑ２ 、Ｑｓがいずれ
も１，１よシも太きけれは、重合初期はどＭ１１次の含
有比が大きく・順次Ｍ２・Ｍ３３次の含有比ｄｉ増大す
るよう有比が大きく、順欠Ｍ２．Ｍ、成分の含有比か増
大するような組成分布が形成される。平面レンズの光軸
が通る部分から共重合を行わせる場合にはｂ Ｑｌ、Ｑ
２− Ｑ５ ＞ １．１かつＮ、 ） Ｎ２ ＞ Ｎ、
（Ｎ１、Ｎ２、Ｎ、はそれぞれ単量体Ｍ、、Ｍ２、Ｎ
ムの単独重合体の屈折率ン、またはＱｌ、Ｑ２ ｂＱｓ
＜青かりＮ１＜ Ｎ２ ＜ Ｎｓであるような単量体の
組合せを用いると凸レンズが形成され、成される。また
、最初に共重合を行わせる場所が光軸の通る部分を詮ま
ない場合にはｓ Ｑ１＊Ｑ２ｈＱｓＱ１． Ｑ２、Ｑ５
＞ １．１かつＮｌ ＞ Ｎ２ ＞ Ｎｌｌ ｋまｆＣ
はＱｌ、 Ｑ２、成される。ここでｌＮｌＮ２１％ｌＮ
２Ｎ５１ はともに０、００５以上であるのが好まし
い。
も１，１よシも太きけれは、重合初期はどＭ１１次の含
有比が大きく・順次Ｍ２・Ｍ３３次の含有比ｄｉ増大す
るよう有比が大きく、順欠Ｍ２．Ｍ、成分の含有比か増
大するような組成分布が形成される。平面レンズの光軸
が通る部分から共重合を行わせる場合にはｂ Ｑｌ、Ｑ
２− Ｑ５ ＞ １．１かつＮ、 ） Ｎ２ ＞ Ｎ、
（Ｎ１、Ｎ２、Ｎ、はそれぞれ単量体Ｍ、、Ｍ２、Ｎ
ムの単独重合体の屈折率ン、またはＱｌ、Ｑ２ ｂＱｓ
＜青かりＮ１＜ Ｎ２ ＜ Ｎｓであるような単量体の
組合せを用いると凸レンズが形成され、成される。また
、最初に共重合を行わせる場所が光軸の通る部分を詮ま
ない場合にはｓ Ｑ１＊Ｑ２ｈＱｓＱ１． Ｑ２、Ｑ５
＞ １．１かつＮｌ ＞ Ｎ２ ＞ Ｎｌｌ ｋまｆＣ
はＱｌ、 Ｑ２、成される。ここでｌＮｌＮ２１％ｌＮ
２Ｎ５１ はともに０、００５以上であるのが好まし
い。
四元以上の共重合についても同様の条件が成立する。
本発明に使用可能な単量体としては、透明な重合体を生
成する単量体であれは如何なるものでもよく、線状重＆
体を生成する単量体はかりでなく網状Ｍ合体を生成する
単量体でも前述した条件を満たし得るものならは何れで
もよい。例えは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル、メタ
クリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ト
リフルオロエチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル
＠ −１，１，３−）リヒドロバーフルオロプロビルな
どのメタクリル酸エステル；無水メタクリル酸；ジメタ
クリル酸エチレン；安息香酸ビニル、０−り両口安息香
酸ビニル、ｐ−クロロ安息香酸ビニル、フタル酸ジビニ
ル、イソフタル酸ジビニル、テレフタル酸ジビニル、α
−ナフトエ酸ビニル、β−ナフトエ酸ビニル、酢酸ビニ
ル、酢酸ビニルフェニルなどのカルボン酸ビニル；フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジ
アリル、ジエチレンクリコールビスアリルカーボネート
などのジアリルエステル；トリメリド酸トリアリル、リ
ン酸トリアリル、亜リン酸トリアリルなどのトリアリル
エステル、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリルなど
の不飽和酸アリルエステル；アクリロニトリル、メタク
リル酸アリル、スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビ
ニル、ブタジェンなどやこれらの混合物が挙げられる。
成する単量体であれは如何なるものでもよく、線状重＆
体を生成する単量体はかりでなく網状Ｍ合体を生成する
単量体でも前述した条件を満たし得るものならは何れで
もよい。例えは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル、メタ
クリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ト
リフルオロエチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル
＠ −１，１，３−）リヒドロバーフルオロプロビルな
どのメタクリル酸エステル；無水メタクリル酸；ジメタ
クリル酸エチレン；安息香酸ビニル、０−り両口安息香
酸ビニル、ｐ−クロロ安息香酸ビニル、フタル酸ジビニ
ル、イソフタル酸ジビニル、テレフタル酸ジビニル、α
−ナフトエ酸ビニル、β−ナフトエ酸ビニル、酢酸ビニ
ル、酢酸ビニルフェニルなどのカルボン酸ビニル；フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジ
アリル、ジエチレンクリコールビスアリルカーボネート
などのジアリルエステル；トリメリド酸トリアリル、リ
ン酸トリアリル、亜リン酸トリアリルなどのトリアリル
エステル、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリルなど
の不飽和酸アリルエステル；アクリロニトリル、メタク
リル酸アリル、スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビ
ニル、ブタジェンなどやこれらの混合物が挙げられる。
これらの単量体を適宜組合せることによって前述した条
件を満たすようにすれはよい０ 次に本発明を図面を参照してさらに詳細に説明する。
件を満たすようにすれはよい０ 次に本発明を図面を参照してさらに詳細に説明する。
まず、所定量の単量ＩＭ１、Ｎ２、・・・・・・・・・
ＭＸを混合し、これに所定量の光重合開始剤（例えは過
酸化ベンゾイル、ベンゾインメチルエーテルなど）を溶
解する。得られた単量体混合物の溶液を例えは第６Ａ図
に示すような平板型の透明セル端内に封入する。次にフ
ォトマスク（２１１を通してセル（２Ｇに紫外線を照射
する。フォトマスク（２１１には後に詳述するように紫
外線を透過させる透明部分（社）と紫外線８遮蔽する無
光部分（ハ）とによって所定のパターンが形成されてい
る。
ＭＸを混合し、これに所定量の光重合開始剤（例えは過
酸化ベンゾイル、ベンゾインメチルエーテルなど）を溶
解する。得られた単量体混合物の溶液を例えは第６Ａ図
に示すような平板型の透明セル端内に封入する。次にフ
ォトマスク（２１１を通してセル（２Ｇに紫外線を照射
する。フォトマスク（２１１には後に詳述するように紫
外線を透過させる透明部分（社）と紫外線８遮蔽する無
光部分（ハ）とによって所定のパターンが形成されてい
る。
フォトマスク（２１）を通して紫外ＩＩＪヲ照射された
セル（至）内の単量体混合物０４）はフォトマスクＱＤ
の透明部分に対応する露光部（ハ）から重合していく。
セル（至）内の単量体混合物０４）はフォトマスクＱＤ
の透明部分に対応する露光部（ハ）から重合していく。
このとき、単量体の共重合のしやすさがＭｌ＞ Ｗｂ
＞・・・・・・・・・・・・〉Ｍｘで前記式（５）で聚
されるＱの値が１．１よりも大きい場合には、まず単量
体Ｍ１が主として重合し、これによって単量体混合物中
のＭｌの含有率が低下する。さらに重８−か進行すると
露光部ρωからセル四の深部および非露光部（４）へ向
かって放射状に共重合体が生成していく。同時に、生成
する共重合体にはｊ献次単量ｔＩＦＭ１ 、Ｎ２、・・
・・・・・・・・・・Ｍｘが主成分であるような組成分
布が形成される。
＞・・・・・・・・・・・・〉Ｍｘで前記式（５）で聚
されるＱの値が１．１よりも大きい場合には、まず単量
体Ｍ１が主として重合し、これによって単量体混合物中
のＭｌの含有率が低下する。さらに重８−か進行すると
露光部ρωからセル四の深部および非露光部（４）へ向
かって放射状に共重合体が生成していく。同時に、生成
する共重合体にはｊ献次単量ｔＩＦＭ１ 、Ｎ２、・・
・・・・・・・・・・Ｍｘが主成分であるような組成分
布が形成される。
単ｌｉ本の共重合のしやすさがＭｔ ＜ Ｎ２ ＜・・
・・・・・・・・・・＜Ｍｘ″′ｃＱ＜ＴＴ″ｔ′ある
場合には、上述したのとは逆の関係となる。
・・・・・・・・・・＜Ｍｘ″′ｃＱ＜ＴＴ″ｔ′ある
場合には、上述したのとは逆の関係となる。
フォトマスクは、例えは基板中に多数の半球状のレンズ
部分が配列している平面レンズを製造する場合には、第
４Ａ図に示すような円形の透明部分（２２を有するフォ
トマスクｏｎ、ｔた扛第４Ｂ図に示すような円形の遮光
部分（２１を有するフォトマスク（２１１を用いること
ができる。
部分が配列している平面レンズを製造する場合には、第
４Ａ図に示すような円形の透明部分（２２を有するフォ
トマスクｏｎ、ｔた扛第４Ｂ図に示すような円形の遮光
部分（２１を有するフォトマスク（２１１を用いること
ができる。
第４Ａ図に示すようなフォトマスクを用いる場合には、
最初に共重合体か生成される露光部分の中心ｗ５を光軸
が通る半球状のレンズ部分が形成される。そこで共重合
しやすい単量体はどその単独重合体の屈折率が大きく、
共重合しにくい単量体ｉｔとその単独重合体の屈折率が
小さいような単量体の組合せを選ぶと凸レンズが形成さ
れ、逆の場合には凹レンズか形成される。この場合、形
成されるレンズ部分の直径は露光部（ハ）すなわちフォ
トマスクの透明部分ｃ！４の直径Ｒよりも広がるから、
直径孔の大きさは形成しようとするレンズ部分の直径よ
りも小さくする。
最初に共重合体か生成される露光部分の中心ｗ５を光軸
が通る半球状のレンズ部分が形成される。そこで共重合
しやすい単量体はどその単独重合体の屈折率が大きく、
共重合しにくい単量体ｉｔとその単独重合体の屈折率が
小さいような単量体の組合せを選ぶと凸レンズが形成さ
れ、逆の場合には凹レンズか形成される。この場合、形
成されるレンズ部分の直径は露光部（ハ）すなわちフォ
トマスクの透明部分ｃ！４の直径Ｒよりも広がるから、
直径孔の大きさは形成しようとするレンズ部分の直径よ
りも小さくする。
第４Ｂ図に示すフォトマスクを用いる場合には、非露光
部（ホ）の中心を光軸が通るはソ半球状のレンズ部分が
形成される。この場合には共重合しゃすい単を体はどそ
の単独型＆体の屈折率が／ＪＳきく。
部（ホ）の中心を光軸が通るはソ半球状のレンズ部分が
形成される。この場合には共重合しゃすい単を体はどそ
の単独型＆体の屈折率が／ＪＳきく。
共重合しにくい単量体はどその単独重合体の屈折率か大
きいような単量体の組合せを選ふと凸レンズが形成され
、逆の場合にね、凹レンズか形成される。得られるレン
ズ部分の直径は非り元部Ｃ２Ｉｌｉ１′１−なわちフォ
トマスクの遮光部分（ハ）の直径Ｒとはソ等しくなる。
きいような単量体の組合せを選ふと凸レンズが形成され
、逆の場合にね、凹レンズか形成される。得られるレン
ズ部分の直径は非り元部Ｃ２Ｉｌｉ１′１−なわちフォ
トマスクの遮光部分（ハ）の直径Ｒとはソ等しくなる。
また、半円柱状のレンズを作る場合には第５図に示すよ
うなスリット状の透明部分？＝肩したフォトマスクを用
いると良い。
うなスリット状の透明部分？＝肩したフォトマスクを用
いると良い。
以上の様にして単量体混合物の共重合を行なって、中心
から周囲へと屈折率が変化するような屈折率分布を有す
るレンズ部分を形成させた後、必要に応じて重合を完結
させるために熱処理を加えてもよい。
から周囲へと屈折率が変化するような屈折率分布を有す
るレンズ部分を形成させた後、必要に応じて重合を完結
させるために熱処理を加えてもよい。
以下、本発明の実施例を述べる。
実施例
ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）（Ｃ
几−６９）とベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）％重
量で９：１の比率になる様に混合し、その混合物に対し
て６重量％のベンゾイルパーオキサイド及び４重量％の
ベンｙフ：ｒ−ノｙｙｅ添加した後、これをセル内に封
入した。フォトマスクには第４Ａ図に示すものを用い、
その透明部分の直径Ｒ社１．０ ａｍとした。これにフ
ォトマスクを通して超高圧水銀ランプからの紫外線を２
４時間照射し、その後８０Ｃで１５時間放置した。重合
の完結しｆｃ ＯＲ−３９／ ＢｚＭＡ共重合体より成
るブロックをセルよル取多田した後、表面を研磨した。
几−６９）とベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）％重
量で９：１の比率になる様に混合し、その混合物に対し
て６重量％のベンゾイルパーオキサイド及び４重量％の
ベンｙフ：ｒ−ノｙｙｅ添加した後、これをセル内に封
入した。フォトマスクには第４Ａ図に示すものを用い、
その透明部分の直径Ｒ社１．０ ａｍとした。これにフ
ォトマスクを通して超高圧水銀ランプからの紫外線を２
４時間照射し、その後８０Ｃで１５時間放置した。重合
の完結しｆｃ ＯＲ−３９／ ＢｚＭＡ共重合体より成
るブロックをセルよル取多田した後、表面を研磨した。
このブロックには直径が約４１１１の凸レンズが５ｘ５
のマトリクス状に並んでいた。
のマトリクス状に並んでいた。
実施例２
ジアリルイソフタレート（ＤＡＩ Ｐ ）と１．１．６
−ドリヒドロパーフルオロブロビルメタクリレート（Ｊ
ＦＭＡ）を重量で９：１の比率になる様に混合し、その
混合物に対して３重量％のベンゾイルパーオキサイド及
び４重量−のベンゾフェノンを添加した後、これをセル
内に封入した。フォト寸スクには第４Ｂ図に示すよりな
りが、４．０ｍｌのものを用いた。これにフォトマスク
を通して超高圧水銀ランプからの紫外線を２９時間照射
し、その後８０Ｃで１５時間放置した。重合の完結した
１）ＡＩＰ／４ＦＭＡ共重合体より成るブロックをセル
より取り肖した後、表面をω＋ｍした。このブロックに
は直径が約４ｍの凸レンズか５ｘ５のマトリクス状に並
んでいた。
−ドリヒドロパーフルオロブロビルメタクリレート（Ｊ
ＦＭＡ）を重量で９：１の比率になる様に混合し、その
混合物に対して３重量％のベンゾイルパーオキサイド及
び４重量−のベンゾフェノンを添加した後、これをセル
内に封入した。フォト寸スクには第４Ｂ図に示すよりな
りが、４．０ｍｌのものを用いた。これにフォトマスク
を通して超高圧水銀ランプからの紫外線を２９時間照射
し、その後８０Ｃで１５時間放置した。重合の完結した
１）ＡＩＰ／４ＦＭＡ共重合体より成るブロックをセル
より取り肖した後、表面をω＋ｍした。このブロックに
は直径が約４ｍの凸レンズか５ｘ５のマトリクス状に並
んでいた。
実施例６
メタクリル酸メチル（ＭＭＡ ） 、アクリロニトリル
ＬＡＮ）、及びビニルベンゾニー）（ＶＢ）の６種類の
モノマーを重量で６：１ ：３の比率になる様に混合し
、その混合物に対して６重量％のベンゾイルパーオキサ
イドを添加した後、これをセル内に封入した。フォトマ
スクには第４Ｂ図に示すような几が２．０間のものを用
いた。これにフォトマスクを通して超高圧水銀ランプか
らの紫外線を６０時間照射し、その後８ＵＣで１５時間
放置した。重合の完結したＭＭＡ／ＡＮ／ＶＢ３元共重
合体より成るブロックをセルより取り出した後。
ＬＡＮ）、及びビニルベンゾニー）（ＶＢ）の６種類の
モノマーを重量で６：１ ：３の比率になる様に混合し
、その混合物に対して６重量％のベンゾイルパーオキサ
イドを添加した後、これをセル内に封入した。フォトマ
スクには第４Ｂ図に示すような几が２．０間のものを用
いた。これにフォトマスクを通して超高圧水銀ランプか
らの紫外線を６０時間照射し、その後８ＵＣで１５時間
放置した。重合の完結したＭＭＡ／ＡＮ／ＶＢ３元共重
合体より成るブロックをセルより取り出した後。
表面を研磨した。このブロックには直径が約２ＩＩ属の
凸レンズが５ｘ５のマトリクス状に並んでいた。
凸レンズが５ｘ５のマトリクス状に並んでいた。
実施例４
メチルメタクリレート（ＭＭＡ）、ビニルベンゾエート
（ＶＢ）、ビニルフェニルアセテート（ＶＰＡ）の３種
類のモノマーを重量で６：２：２の比率罠なる様に混合
し、その混合物に対して３ｉ！ｔ％のベンゾイルパーオ
キサイドを添加した。
（ＶＢ）、ビニルフェニルアセテート（ＶＰＡ）の３種
類のモノマーを重量で６：２：２の比率罠なる様に混合
し、その混合物に対して３ｉ！ｔ％のベンゾイルパーオ
キサイドを添加した。
これをセル内に封入し、第５図に示した様なフォトマス
クを被せた。このフォトマスクの透明部分の幅は２００
μｍ、遮光部分の幅は１順である。
クを被せた。このフォトマスクの透明部分の幅は２００
μｍ、遮光部分の幅は１順である。
これにフォトマスクを通して超高圧水銀ランプからの紫
外線を６５時間照射し、その後８０Ｃで１６時間放置し
友。重合の完結したＭＭＡ／ＶＢ／ＶＰＡ ３元共重
合木よシ成るブロックをセルよりンティキュラレンズ板
となっていた。
外線を６５時間照射し、その後８０Ｃで１６時間放置し
友。重合の完結したＭＭＡ／ＶＢ／ＶＰＡ ３元共重
合木よシ成るブロックをセルよりンティキュラレンズ板
となっていた。
第１図および第２図はそれぞれ合成樹脂光回路の製造方
法の従来例を示す断面図であシ、第６Ａ図からび第６Ｃ
図は本発明による合成樹脂光回路・・の製造方法を示す
一連の断面図であり、第４Ａ図。 第４Ｂ図および第５図はそれぞれ本発明に使用可能なフ
ォトマスクの平面図である。 なお図面に用いた符号罠おいて、 （イ）・・・・・・・・・・・・透明セル′Ｑυ・・・
・・・・・・・・・フォトマスク（ハ）・・・・・・・
・・・・・透明部分（ハ）・・・・・・・・・・・・遮
光部分（２）・・・・・・・・・・・・単量体混合物で
ある。 ′代理人 土星 勝 〃 常包芳男 〃 杉浦俊貴 第１図 第２図 ６
法の従来例を示す断面図であシ、第６Ａ図からび第６Ｃ
図は本発明による合成樹脂光回路・・の製造方法を示す
一連の断面図であり、第４Ａ図。 第４Ｂ図および第５図はそれぞれ本発明に使用可能なフ
ォトマスクの平面図である。 なお図面に用いた符号罠おいて、 （イ）・・・・・・・・・・・・透明セル′Ｑυ・・・
・・・・・・・・・フォトマスク（ハ）・・・・・・・
・・・・・透明部分（ハ）・・・・・・・・・・・・遮
光部分（２）・・・・・・・・・・・・単量体混合物で
ある。 ′代理人 土星 勝 〃 常包芳男 〃 杉浦俊貴 第１図 第２図 ６
Claims (2)
- （１）、合成樹脂からなる透明な基板中に、光軸方向に
次第に変化する屈折率分布と光軸を含む少くとも１つの
断面内で上記光軸から遠ざかるにつれて次第に変化する
屈折率分布とを夫々備えた単一のまたは複数の屈折率分
布型レンズ部分が設けられている合成樹脂平面レンズを
製造する方法において、その単独重合体の屈折率か互い
に異なる少くとも２種の単量体（単量本混合物を富む）
の混合物を所定形状に保１持し、その所定形状の混合物
体に対して場所的に不均一な共重合条件を付与すること
によって最初に前記混合物体のうちの所定部分のみが前
記混合比とは異なる単量体成分比の共重合＃−を局部的
に形成し次いでその部分から他の部分に向かって徐々に
共重合が進行するようにして、共重合体の内部において
、前記所定の部分から他の部分に向かって単量本成分の
含有比が次第に変化するような組成分布を持たせること
を特徴とする合成樹脂平面レンズの製造方法。 - （２）、２種以上の単量体の混合物がＸ橿の単量体から
なるものとし、この混合９Ｊを構成する任意の２種の単
量体Ｍｉとぬの共重合反応における単量体反応比をそれ
ぞれｒｉｊおよびｒｊｉ と表わし、単量体Ｍ＋と闇と
の混合モル比；ｌｊ：（Ｍｉ／Ｍ」）ｍ と表わすと
き、式； ％式％ ） の値が１．１より大きいかまたは告よシ小さいことを特
徴とする特許請求の範囲第１項５記載の合成樹脂平面レ
ンズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58095398A JPS59220333A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 合成樹脂平面レンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58095398A JPS59220333A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 合成樹脂平面レンズの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59220333A true JPS59220333A (ja) | 1984-12-11 |
| JPH0313975B2 JPH0313975B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=14136551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58095398A Granted JPS59220333A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 合成樹脂平面レンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59220333A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0728572A2 (fr) * | 1995-02-27 | 1996-08-28 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Procédé d'obtention d'un article transparent à gradient d'indice de réfraction |
| US8383328B2 (en) | 2009-04-22 | 2013-02-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing optical part |
-
1983
- 1983-05-30 JP JP58095398A patent/JPS59220333A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0728572A2 (fr) * | 1995-02-27 | 1996-08-28 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Procédé d'obtention d'un article transparent à gradient d'indice de réfraction |
| FR2731081A1 (fr) * | 1995-02-27 | 1996-08-30 | Essilor Int | Procede d'obtention d'un article transparent a gradient d'indice de refraction |
| EP0728572A3 (ja) * | 1995-02-27 | 1996-09-04 | Essilor Int | |
| US8383328B2 (en) | 2009-04-22 | 2013-02-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing optical part |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0313975B2 (ja) | 1991-02-25 |
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