JPS5921769A - 布への液体付与装置 - Google Patents

布への液体付与装置

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JPS5921769A
JPS5921769A JP12779082A JP12779082A JPS5921769A JP S5921769 A JPS5921769 A JP S5921769A JP 12779082 A JP12779082 A JP 12779082A JP 12779082 A JP12779082 A JP 12779082A JP S5921769 A JPS5921769 A JP S5921769A
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JP
Japan
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liquid
rotating disk
cloth
partition plate
fabric
Prior art date
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Pending
Application number
JP12779082A
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English (en)
Inventor
デビツド・エドワ−ド・ペプラ−・ノ−トン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sir James Farmer Norton and Co Ltd
Original Assignee
Sir James Farmer Norton and Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は布に液体を付与するだめの装置に関する。
面仕上およびそれに類する工程において、例えば合成樹
脂等の仕上剤を布に浸透させる際に、乾燥コストと消費
エネルギを節減するという観点から、布に付与される液
体の量を可能な限p少い爪に限定することが望まれると
いうことが良く知らノtている。
付与される液体のはを減少するために多くの試みが行わ
れているが、それを実現する際に直面する困雛の1つは
少ない量の液体を布の全幅にわたって均一に分配するこ
とである3、液滴の大きさはその液の表面張力によって
特定の値が刀えられる。
そして゛液滴に接触する布の一部分が液滴中の液体のす
べてを吸収し、その部分の周囲の区域には少しも液体が
分光られることがない。そして布VJ−多くの場合液体
中においてイ11自体の重量に相当する液体を吸収する
ものであり、一方イ」与される゛液体として必要とする
量は通常布重1社の30%又はそれ以下で足υるもので
ある。
希望する限界値での液体吸収を行わしめる一方法は液体
の有する表面張力に打勝つことであ−9て、それによっ
て液滴の大きさを小さくして、布の全幅にわたって液体
のより広い且つ均一な分配を達成することである。不発
ヴ1はこの方法をソこ施するための装置を提供する。
本発明による走行中の布に液体を付与する装置は少くと
も1個の回転可能な回転円盤とその回転円盤の表面に液
体を排出するための液体供給装置とを含んで構成され、
布が回転円盤の側を通越して移動し、それによって回転
日帰が液体を遠心力によって微小な霧状の飛沫にして布
の全幅にわたって液体を均一に分配させる」4’−fj
?1″である。
本発明の一実施例を添伺図面を参照してn)・述する。
本発明の装置は端部に出入用ドアー(図示せず)を有し
、且つ上部に開口部を有する処理室10に設けられる。
第1図に示すように、布の走行通路12を定める複数の
自由回転案内ローラ11が処理室10内で幅方向に延び
ている。処理室10の布走行方向から見て手前の外側I
Vこ案内ローラ13が設けられ、布12は外側案内ロー
ラ13から処理室10の底部のシール部14を経て最初
の内側案内ローラ11に通される。処理室10の底部は
中央の液体溜め15に向けて下向きに傾斜し、その液体
溜め15から1本以上のドレン・ヤイプ16(第1図で
は1本のみ示す)が延び、液体溜め15に集められた液
体はドレンパイゾ16を通って比例7]?ンプ18によ
って液体供給槽17に送返兄される。比例ポンプ18に
は比例yleンプ18の脈動流を均整化するのに役立つ
第1次空気アキームレータ19Aおよび第2次空気アr
V1ムレーク19Bが組合されている(第2図)。液体
止め15からの液体は単純にドレン・ぐイブに通されれ
ばよく、液体供給槽の上面高さを維持する/Cめの装置
が設けられている。
ポンプ18は布を処理室10を酌して引張るのに役立つ
装置と連携して駆動さJする。これらの装置は図示して
いないが、例えば布の進行方向で処理室10の下流に配
置された乾j・V3装置、マングル装置あるいは巻取装
置である。この方法によって、布への液体の供給割合は
処理室10を通過する布速度によって制御される。すな
わち布の進行が早ければそれに応じて式ンプ18のIJ
l、高速度が早くなシ、あるいはその逆の関係になる。
布への液体の伺与は回転円盤を含んで+14成さRた2
個の堤防状散布装置20を用い、それら2佃の堤防状散
布装置の間を布が通過するように配f4することによっ
て行われ、その結果布の両面が同時に個らされることに
なる(第1図参照)。第1図から明らかなように、布が
布の通路の最初の垂直部分を上方に動くときに布の片面
が濡らされ、一方布が布の通路の最後の垂直部分を上方
に動くときに布の反対側の面が濡らされる。このように
して布の両側に液体が付与さ11.ることになる。
複数の回転円盤を含んで構成された2個の堤防上散布装
置は同一なものであるので説明の便宜上一方のみを説明
する。
第3図に示すように回転円盤組立体21は処理室10内
に幅方向、すなわち導入される布の幅方向に延びている
共通のハウジング22内に配置され、第5図及び第6図
に示すようにハウジング22は処理室10内を幅方向に
延びている構造部材23によって支えられている。構造
部材23は処理室10の側壁25、すガわぢ導入される
布の進行方向に平行な側壁25に?l゛)って延びてい
るビーム24に支えられている。
夫々の回転円盤組立体21は回転円盤26を含んで構成
され、回転円盤26は回転円盤26の下方に配置された
電気モータ29の軸28に第5図で27で示した位置で
固定さizでいる。これらの回転円盤26は独立して駆
動される訳であるが、複数の回転円盤26の回転速度を
均一に保つようにまとめて制御されている。
第5図に示すように、ノ・ウノング22は夫々のモータ
29の出入口用開口部30’i有し、この開口部30は
32で示した位置、でデルト付けさitだカバープレー
ト31で閉じられている。ノ・ウジング22の内部に液
体が入らないようにするために、カバープレート31の
内側と外側の33と34で示した位置でモータの軸28
の周囲にシール用リングが取付けられている。
隣接した回転円盤26からの飛沫の散布1え(或が衝突
しないように隣接した複数の回転円盤26は垂直方向に
ずれて配置されている。その結果布の全幅にわたって均
一な液体伺与が行われることになる。
この垂直方向にずれた配置によって本発明の布処理装置
においては2種類の高さで液体イ」島が行われることに
なる。
第3図および第4図に示すように、夫々の回転円盤26
に対して逆向きのV Jl′’状部分全部分る支持スト
ラップ35が回転円盤26の上方を処理室10の幅方向
に延びている。回転円ffi+ 26の中絶・の直上に
あるV形状部分の頂点の位f?fで支持ストラップ35
に回転円盤26に制御さil、た速度で液体を排出する
噴射管36が数個りられている。1ゾヱ射管36は入口
用管部36Aをイ]°シ、入口用管部36Aは可撓性パ
イプ37によっ°C複数のアダプタ38の中の1個に連
結されている。複数のアダプタ38の他端は夫々可撓性
パイプ39に連結され、この可撓性パイプ39はアキュ
ムレータ19A、19Bおよびポンプ18を経て液体供
給槽17につながっている(第2図)。
ハウジング22の壁の近くで可撓性ノ!イブ39を保つ
ために、複数の止め具40がハウジング22上に設けら
れ、その結果nJ撓性パイプ39が布に接触することが
mけられる。
仕切板41が隣接した回転円盤26の間に設けられる。
第5図に示すように、夫々の仕切板41け回転円盤組立
体21の外側の卸直板41Aと、垂直板4.1 Aの上
部につながって上方への液体の飛散を防ぐ上部張出部4
1Bと、同様に垂[4ii41Aの下部につながって(
,1すj板41に衝久した液体を下方−目つ内側1に向
けるだめの内側[傾斜部41Cを含んで構成されていZ
)。垂直板4】Δ、上部張出部4113および内側f1
.l’i斜部41 Cfz、i:回転円盤組立体の3に
延びている断面り形の平板4.1Dにスロットと7ビル
トの糺合せ結合部42によって位置調節可能に固定され
る。逆に断面■、形平板41Dは同様にスロットとボル
トの川合せ結合部42によって上部と下部とが内側に曲
がったY板41Fに連結されている。第3Mに示すよう
に、短い支持ピラー43が平板41Fの上部と下部の内
側に曲がった部分の間に挿入哀れ、支持ストラップ35
の突出部44が支揚ピラー43を介してハウジング22
に第4図で・15で示した位置で+1−″ルト付けされ
る。その結果傾斜板41が支持ストラップ35に固定さ
れ、その上で支持ラップ35がハウジング22に固定さ
れることになる。夫々の仕切板41は又隣接する回転円
盤26の接線方向に平行に配置された平板411i”を
有する(第7図)。この平板41Fは変向板として働き
、仕切板41にぶつかった液体が布の方に向って大きな
液滴1となって仕切板41の端縁部から飛散ることを防
ぐ。もしこのような平板41Fを設けなければ、布12
上に大きな液滴によるスフパットを生じがちである。
液体の通路を抛7図における一点破線で示す。
回転円盤26に対する仕切板41の配置を第1図および
第7図に示す。
仕切板4工は@5図で矢印B1で示したように回転円盤
26に対して側壁25と平行な方向で近づけたシ遠ざけ
たシすることができ、又第3図で矢印B2で示したよう
に処理室100幅方向にその位置を調節することができ
る。
仕切板41は隣接した散布区域間での過度のオーパラッ
ゾが生じないように、隣接した散布区域間のオーバーラ
ツプの程度を制御し、それによって布の均一な濡れが達
成さi′することになる。
第1図で判るように、トラフ4Gが回転円盤組立体21
の堤防状散布装置20の下方に配置さノt1そしてトラ
フ46は処理室1()め側壁の一方に向けて傾斜してお
シ、その結果例えば仕切板41から落ちてトラフ46の
中に集めら」tた/Ik体は(lll+壁に向い、側壁
をったって下へ降υて中央の液体?へ“(め15にたま
ることになる。
処理室10の側壁において、共通のハウジング22の開
放端に液体が屈s体に洩れないようにするために、この
開放端を周囲から囲んだシール桿j造47が設けられて
いる。
本発明の液体付与装置を使用する際に、ウェット処理さ
iする例えば樹脂又は他の仕上剤が伺寿される布が処理
室10に引通され、一方樹脂又Cま仕上剤を含有した液
体が液体供給・!イブ36に、H5ンプて送らitて、
ハ体供給バイア’ 36から回ル1−円FliF26上
に排出される。回転円盤26は例えば2ρ00から3.
ooo r、p−mの速度で回転する。回転円盤26は
遠心力で液体を布に向けて外方に投げる。
その遠心力は液滴の大きさを微小な霧状の飛沫に分散す
るのに充分である。
遠心力によって走行中の布に向けて液体を強制的に投げ
る作用の結果として、液体の表面張力が負かされて液滴
は微小な霧状に分散されて布の可能な限り広い範囲をお
おうことになる。又゛液滴に霧状形状を与える速度が布
による液体の吸収を助ける。その結果+tJされるに必
要とする液体の」i−が実質的に減少される。試験の結
北によれば、布重n、020〜30%程度の少量の11
ν体の使用で目的を達成することが可能である。
液体付与の均一性は第1には仕切板41を設けたことに
よって達成され、第2には隣接した回転円盤を垂直方向
にずらして配置することによって達成される。
明らかに理解されるように、もし布の片面だけを湿らす
ことが必要であれば、該当する堤防状散布装置20だけ
を用いればよい。実際には、希望するならば、複数の回
転円盤組立体21から成る1個の堤防状散布装置20が
本発明の装置に設けられていてもよい。又布の幅に応じ
て夫々の堤防状散布装置20における複数の回転装置の
全であるいはその中のいくつを使用するかが定められる
第8図に示した変形実施例において、夫々の回転円盤2
6は布表面に接触している移しローラ48に液体を4=
J与し、それによって液体の浸透を改良している。
【図面の簡単な説明】
第1図かま本発明の布に′M、セトを伺−t5する装置
の端面図、第2図は第1図の装置の平面図、第3図は隣
接した1対の回転円盤の配偶−秋1川を示す正面図、第
4図は第3図に対応する隣接した1対の回転円盤の配置
状態を示す平面図、第5図は回転円盤の横断面図、第6
図は回転円盤の正面図、第7し]は本発明の装置に用い
られた仕切板の形状を示す平面図、第8図は本発明の装
置の変形実施例を示す正面図を夫々示す。 10・・・処理室、12・・・布の走行通路、11.1
3・・・案内ローラ、17・・・液体供給槽、18・・
・ポンプ、20・・・堤防状散布装(ヒ(3,22・・
・ハウジング、26・・・回転円盤、29・・・モータ
、36・・・噴射管、41・・・仕切板、41A・・・
垂直板、41B・・・上部張出部、41C・・・下部傾
斜部、41F・・・変向板。 特許出願人 ツ′−ジエイムビ ファーマー ツートンアンド ノア
7、= ト(インタープツヨナル) リミテッド 特許出願代理人 弁理士  宵 木   朗 弁理士  西 舘 和 之 弁理士  山 口 昭 之 手続補正書(方式) 昭和57年11月13日 特許庁長官若杉和夫殿 1、事件の表示 昭和57年 特許願  第127790・号2、発明の
名称 布への液体付与装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 4、代理人 5、補正命令の日付 昭和57年10月26日(発送日し6万τ[品)、6、
補正の対象 図   面 7、補正の内容 図面の浄書(内容に変更なし) 8、添付書類の目録 浄書図面     1通

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、走行する布に液体を付方する装置であって、該装置
    が少くとも1個の回転円盤と、該回転円盤の表面に液体
    を排出するだめの液体供給装置とを含んで構成され、布
    が回転円盤の側を通越して移動し、それによって回転円
    盤が液体を遠心力によって微小な霧状の飛沫にして、布
    の全幅にわたって液体を均一に分配するように構成され
    ている布への液体付方装置。 2、走行する布の両側に、前記液体供給装置を具備した
    少くとも1個の回転円盤が夫々設けられている特許請求
    の範囲第1項記載の布への液体付与装置。 3 隣接して並んで配置された複数の前記回転円盤を含
    んで構成され、複数の隣接する回転円盤によって生ずる
    液体散布区域間に過剰なオーバラップが生じないように
    散布区域を保つために、隣接する回転円盤間に仕切板が
    設けられている特許請求の範囲第2項記載の布への液体
    供給装置。 4、前記仕切板が対応する前記回転円盤の外側且つ回転
    円盤と前記布との間に配置さitている特許請求の範囲
    第3項記載の布への液体供給装置。 5、前記仕切板が仕切板に衝突した液体の上刃へのはね
    かえυを防ぐだめの上部張出部を有する特許1tFt求
    の範囲第3項せたは第4項記載の布への液体イ」与装置
    。 6、前記仕切板が過剰な液体を下方旧つ内fll11に
    向けるために対応する回転円盤に向けて内g1.lIに
    傾斜した下部部分を有するiR許請求の範囲第3項から
    第5項の何れか1項に記載の布への液体性力処置0 7i!itJ記仕切板が隣接する回転円盤の接線方向に
    平行に配置された変向板を有する特許請求の範囲第3項
    から第6項の何れか1項に記載の布への液体付方装置。 8、前記仕切板の隣接する回転円盤に対する位簡、が処
    理室の幅方向とそれに直角方向に調節司能である特許請
    求の範囲第3項から第7項の倒れか1項に記載の布への
    液体付与装置。 9、隣接する複数の前記回転円盤が垂直方向にずれて配
    置されておシ、隣接する散布区域間の衝突′5f、mけ
    るように構成されている特許請求の範囲第3項から第8
    項の何れか1項に記載の布への液体付与装置。 10、前記液体供給装置が回転円盤の水平表面の中央部
    に液体を排出する噴射管である特許請求の範囲第1項か
    ら第9項の何れか1項に記載の布への液体付与装置。
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JPS5921769A true JPS5921769A (ja) 1984-02-03

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4746386A (en) * 1985-10-19 1988-05-24 Nitto Boseki Co., Ltd. Method of producing continuous fiber reinforced bent resin pipe
JP2004512174A (ja) * 2000-10-27 2004-04-22 ヴァイトマン ウント コンラート ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディトゲゼルシャフト 回転する噴霧皿を備えた液体塗布装置

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