JPS59213602A - Composite metallic solution - Google Patents

Composite metallic solution

Info

Publication number
JPS59213602A
JPS59213602A JP8479283A JP8479283A JPS59213602A JP S59213602 A JPS59213602 A JP S59213602A JP 8479283 A JP8479283 A JP 8479283A JP 8479283 A JP8479283 A JP 8479283A JP S59213602 A JPS59213602 A JP S59213602A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
composite
solution
chelating agent
alkoxides
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8479283A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0346402B2 (en
Inventor
Tsutomu Nanao
勉 七尾
Tamiyuki Eguchi
江口 民行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP8479283A priority Critical patent/JPS59213602A/en
Priority to CA000451908A priority patent/CA1217927A/en
Priority to DE8484104194T priority patent/DE3473437D1/en
Priority to EP84104194A priority patent/EP0125507B1/en
Priority to US06/600,278 priority patent/US4579594A/en
Publication of JPS59213602A publication Critical patent/JPS59213602A/en
Priority to US06/818,425 priority patent/US4668299A/en
Publication of JPH0346402B2 publication Critical patent/JPH0346402B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics

Abstract

PURPOSE:To obtain a composite metallic soln. which is used for manufacturing high-purity, ultrafine grain of ceramics by adding a chelating agent to a mixed system of >=2 kinds of metallic alkoxides. CONSTITUTION:A chelating agent having >=2 carbonyl groups is added to a mixed system of >=2 kinds of metallic alkoxides contg. Ba, Ti etc., and dissolved in the presence of aldehyde to obtain the composite metallic soln. The soln. is hydrolyzable and stable in preservation. By heating this soln., ultrafine grain or thin films of a composite material of composite oxides for manufacturing ceramics contg. operational metals can be manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は2種以上の金属アルコキシド中にキレート剤を
加えてなる複合金属溶液および該溶液を用いる複合材料
の製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a composite metal solution prepared by adding a chelating agent to two or more metal alkoxides, and a method for producing a composite material using the solution.

複合材料、とくに2種以上の金属が酸化物や窒化物など
の形で存在する均一な組成の薄膜や超微粒子(通常粒径
が約1μm以下であって、機械的には粉砕できないもの
りは、電磁気的、光学的、機械的にすぐれた機能を備え
、能動素子としても充分使用可能な機能性セラミックス
の材料として有用なものであってその研究開発が進めら
れている。これらの機能性セラミックスにおいては、用
いる材料によって目的とする製品の特性の殆んどが支配
されるといっても過言ではない。従来の機能性セラミッ
クスの製法としては、無機化合物同士の同相反応を利用
する方法があるが、その方法では充分な機能を発揮する
ものをうることができず、しかも純度の高い、粒子径の
小さい、化学量論性の高い材料がえ難い。そのほか金属
無機塩を水溶液に溶かしたのち、アルカリまたは多価カ
ルボン酸なとにより共沈させるか、これらを熱分解して
粒子をうる方法がある。
Composite materials, especially thin films and ultrafine particles with a uniform composition in which two or more metals exist in the form of oxides or nitrides (usually particles with a particle size of about 1 μm or less and which cannot be crushed mechanically) , have excellent electromagnetic, optical, and mechanical functions, and are useful as materials for functional ceramics that can be fully used as active elements, and research and development is progressing on these functional ceramics. It is no exaggeration to say that most of the properties of the desired product are controlled by the materials used. Conventional methods for producing functional ceramics include methods that utilize in-phase reactions between inorganic compounds. However, with this method, it is not possible to obtain materials that exhibit sufficient functionality, and it is also difficult to obtain materials with high purity, small particle size, and high stoichiometry.In addition, after dissolving metal inorganic salts in an aqueous solution, There are methods to obtain particles by co-precipitation with , alkali or polycarboxylic acid, or by thermally decomposing these.

しかしながらその方法に使用される出発原料は、水溶液
中でイオン的に活性となる無機の炭酸塩、塩化物、硫酸
塩、硝酸塩など殆んどであるため、熱処理しても内部に
不純物となるイオンが残る、粒成長して粒径が大きくな
りすぎる、目的物をうるた°めには高温での焼成処理か
必要となるなどの欠点がある。
However, most of the starting materials used in this method are inorganic carbonates, chlorides, sulfates, nitrates, etc. that become ionically active in aqueous solutions, so even when heat treated, ions become internal impurities. There are disadvantages such as the remaining grains, the grain size becoming too large due to grain growth, and the need for high-temperature firing treatment to obtain the desired product.

そこで、これらの欠点を解決する手法として有機金属化
合物である金属アルコキシドを加水分解あるいは直接熱
分解することにより、従来よりも低い熱処理温度で高純
度かつ超微粒子状のセラミックス原料をつる方法が検討
されている。
Therefore, as a method to solve these drawbacks, a method of producing highly pure and ultrafine ceramic raw materials at a lower heat treatment temperature than conventional methods has been investigated by hydrolyzing or directly thermally decomposing metal alkoxides, which are organometallic compounds. ing.

金属アルコキシドは化学的な手法によって高純度に精製
することができ、直接熱分解または加水分解後焼成する
ことにより、高純度で超微粒子状の機能性セラミックス
原料として理想的なものかえられることが知られている
It is known that metal alkoxides can be purified to high purity using chemical methods, and that by direct thermal decomposition or hydrolysis followed by firing, they can be converted into highly pure, ultrafine particles that are ideal as raw materials for functional ceramics. It is being

しかしながら機能性セラミックス材料はその機能を最大
限に発揮するために、単一の化合物のみで使用される例
はきわめて少なく、微量の他成分を添加したり複合化合
物としたりして用いられるばあいが多い。そのため単一
組成でいかに粒径が小さくても、目的とする組成にする
ためにはさらに熱処理を加え固相反応をさぜる必要があ
り、その際に粒成長を起したり化学部論性が不安定にな
ったりすることがある。
However, in order to maximize its functionality, functional ceramic materials are rarely used as a single compound, and are often used with trace amounts of other components added or as a composite compound. many. Therefore, no matter how small the particle size is with a single composition, in order to achieve the desired composition, it is necessary to perform further heat treatment and stir a solid phase reaction, which may cause grain growth or chemical stoichiometry. may become unstable.

そうした2種以上の金属を含む複合酸化物をうるため、
金属アルコキシドを混合した系を調製するかまたは複合
金属アルコキシドを合成しそれらを分解して目的の複合
酸化物を直接えようとする試みも進められているが、そ
の方法にはつぎのような欠点がある。
In order to obtain such a composite oxide containing two or more metals,
Attempts are being made to directly obtain the desired composite oxide by preparing a mixed metal alkoxide system or by synthesizing composite metal alkoxides and decomposing them, but these methods have the following drawbacks. be.

すなわち、金属アルコキシドは元素ごとおよびアルコキ
シ基の種類によって加水分解性が著るしく異なっており
、したがって2種以上の金属アルコキシドの混合系は不
安定であって、均一な組成にならないばあいがある。さ
らに複合金属アルコキシドにおいては目的物の単離が鄭
しく、不純物となる成分が含まれ、収率が低く、実用的
でない。とくに金属がニッケル、銅、コバルト、亜鉛な
どの遷移金属であるばあい、それらのアルコキシドは有
機溶媒に不溶のものが多く、そのため共通溶媒とした系
では加水分解ができす、均一な粉末かえられない。この
ように金属アルコキシドおよび複合金属アルコキシドの
みを用いる方法では、複合酸化物をつくる組合せに限度
があり、自由度か少ない。
In other words, the hydrolyzability of metal alkoxides differs significantly depending on the element and the type of alkoxy group, and therefore a mixed system of two or more metal alkoxides is unstable and may not have a uniform composition. . Furthermore, in the case of complex metal alkoxides, isolation of the target product is difficult, components that become impurities are included, yields are low, and they are not practical. In particular, when the metal is a transition metal such as nickel, copper, cobalt, or zinc, many of their alkoxides are insoluble in organic solvents, so they cannot be hydrolyzed in a common solvent system, and a uniform powder cannot be formed. do not have. In this way, in the method using only metal alkoxides and composite metal alkoxides, there are limits to the combinations that can be used to form composite oxides, and the degree of freedom is limited.

そのほか、アルコキシ基の炭素数を大きくして加水分解
速朋を遅くさせるなと、金属アルコキシドそれぞれの加
水分解性を調整する方法も検討されているか、金属こと
にアルコキシドの性質が変わるので、繁雑であり、しか
も安定性については殆んど改良されない。
In addition, methods are being considered to adjust the hydrolyzability of each metal alkoxide, such as increasing the number of carbon atoms in the alkoxy group to slow down the rate of hydrolysis. However, there is almost no improvement in stability.

金属アルコキシドは、超微粒子粉体を製造するために用
いられるほかに、金属酸化物の薄膜を形成するために用
いられつつある。この方法は金属アルコキシドの加水分
解性を利用するものであって、基根に金属アルコキシド
を塗布後学気中の水分で加水分解させたのち熱処理する
ことにより、#機酸化物薄膝が容易にえられる。
In addition to being used to produce ultrafine powders, metal alkoxides are being used to form thin films of metal oxides. This method utilizes the hydrolyzability of metal alkoxides, and by applying metal alkoxides to the roots, hydrolyzing them with moisture in the air, and then heat-treating them, #mechanical oxide thin knees can be easily formed. available.

この金属アルコキシドを用いる薄膜の形成の応用例とし
ては、たとえばテトラエチルシリケートを用いる絶縁膜
、アルカリ浸透防止膜、反射防止膜;テトライソプロピ
ルチタネートを用いる熱線反射膜、光学フィルター、有
機物との接着促進用下地膜などが知られているが、前記
の理由のため金属アルコキシドを用いる方法(こよる複
合酸化物の簿膜化技術はまた実用化されるに至っていな
い。
Application examples of thin film formation using this metal alkoxide include insulating films, alkali penetration prevention films, and antireflection films using tetraethyl silicate; heat ray reflective films using tetraisopropyl titanate, optical filters, and substrates for promoting adhesion with organic substances. However, for the above-mentioned reasons, methods using metal alkoxides have not yet been put to practical use.

薄膜化技術は現在の電子産業の基盤となっている重要な
技術であり、主として貫空技術を用いて種々の薄膜がつ
くられている。
Thin film technology is an important technology that forms the basis of the current electronic industry, and various thin films are produced mainly using air-through technology.

複合酸化物薄膜も光関連デバイス、記憶材料、圧電材料
、センサなどに幅広い用途が期待されており、一部実用
化もなされている。しかし具空技術を用いた薄膜化法は
設備コストが高くなる、ユーティリティが高くなる、大
面積化が困難である、高融点の酸化物は製膜が回前であ
る、結晶性および化学量論性のよい膜かえられにくい、
生産性が低いなどの短所があるため応用分野に制限があ
るのが現状である。
Composite oxide thin films are also expected to have a wide range of applications, including optical-related devices, memory materials, piezoelectric materials, and sensors, and some have even been put into practical use. However, thin film forming methods using hollow technology have high equipment costs, high utility costs, difficulty in forming large areas, high melting point oxides require multiple film formations, crystallinity and stoichiometry. A strong membrane that is difficult to change,
Currently, there are limitations to the fields of application due to disadvantages such as low productivity.

これ(こ対して金属アルコキシドを用いる酸化物薄膜の
製法は、簡単でしかも安価な設備で充分である、大面積
化が容易である、生産性が高くコストが安い、均質で化
学量論性のよい膜かえられるなどという鼻空技術を用い
るシW膜化法にない長所を有しており、この方法によっ
てさらに種々の複合酸化膜薄1模の製造が可能になれば
、複合醒゛化牲1の新しい用途機能が見出されることは
明らかである。
On the other hand, the manufacturing method of oxide thin film using metal alkoxide is simple and requires only inexpensive equipment, can be easily made into a large area, has high productivity and low cost, and has a uniform and stoichiometric property. This method has an advantage over the SiW film formation method that uses nasal air technology, such as good film change. If this method makes it possible to manufacture various thin composite oxide films, it will improve It is clear that one new application function will be found.

本発明者らは金属アルコキシドが容易にキレート剤と反
応して金属1キレートもしくは一部キレート化した部分
アルコキシドをつくることに着目し、鋭意検討を重ねた
結果、2種以上の金属アルコキシド混合系にキレート剤
を添加すると、安定性のわるい金属アルコキシドおよび
加水分角イ速度の速い金属アルコキシドが優先的にキレ
ート剤と反騰し安定化できること、有機溶媒に不溶であ
る遷移金属アルコキシドも、複合金属溶液とすることが
可能であること、加水分解により安定的に目的とする複
合金属成分かえられること、単一金属アルコキシドと同
様な取扱いにより、超微粒子薄膜かえられることを見出
し、本発明に到達した。
The present inventors focused on the fact that metal alkoxides easily react with chelating agents to produce metal chelates or partially chelated partial alkoxides, and as a result of extensive studies, they developed a mixed system of two or more metal alkoxides. When a chelating agent is added, metal alkoxides with poor stability and metal alkoxides with high angular rate of hydrolysis can preferentially rebound with the chelating agent and be stabilized, and transition metal alkoxides that are insoluble in organic solvents can also be stabilized with complex metal solutions. We have arrived at the present invention by discovering that the desired composite metal component can be stably converted by hydrolysis, and that an ultrafine particle thin film can be converted by handling in the same manner as a single metal alkoxide.

この反応の詳細な解明はまだなされていないが、キレー
ト剤の添加によって2種以上の金属アルコキシドの安定
性及び加水分解性を平均化して君り、金属間においても
何らかの配位もしくは複合金属キレート成分をつくって
いるものと考えられる。
Although the detailed explanation of this reaction has not yet been elucidated, the addition of a chelating agent averages out the stability and hydrolyzability of two or more metal alkoxides, and there is also some coordination between the metals or a complex metal chelate component. It is thought that it is creating.

本発明に用いられる金属アルコキシドは、加水分解性が
あるアルコキシ基をもっておれはとくζこ制限されず、
たとえば一般式M1(OR1,)ユ、Ml(X)a(O
R1)b 、   Ml(01’1勺a(OR3〕ゎ 
、Ml〔N(OR1)m]nで表わされる単一組成の金
属アルコキシド、部分金属アルコキシド、複合金属アル
コキシドまたはそれらの金属アルコキシドの多量体など
があげられる。
The metal alkoxide used in the present invention is not particularly limited in that it has a hydrolyzable alkoxy group,
For example, the general formula M1(OR1,)u, Ml(X)a(O
R1)b, Ml(01'1a(OR3)ゎ
, Ml[N(OR1)m]n, a single composition metal alkoxide, a partial metal alkoxide, a composite metal alkoxide, or a multimer of these metal alkoxides.

なお、前記一般式において、MおよびNは同じかまたは
異なる金属原子であって、たとえばリチウム、ナトリウ
ム、カリウム、ムビジウム、セシウム、ベリリウム、マ
グネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、
チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオ
ブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マ
ンガン、鉄、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛、カドミウ
ム、水銀、硼素、アルミニウム、ガリウム、インジウム
、タリウム、シリコン、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ累、
アンチモン、ビスマス、セレン、テルル、ランタノイド
系の金属などがあげられる。
In the above general formula, M and N are the same or different metal atoms, such as lithium, sodium, potassium, mubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium,
Titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, iron, nickel, cobalt, copper, zinc, cadmium, mercury, boron, aluminum, gallium, indium, thallium, silicon, germanium, tin, Lead, metal,
Examples include antimony, bismuth, selenium, tellurium, and lanthanoid metals.

R1、R2sよびR3は同じかまたは異なる有機官能基
であり、好ましくは炭素数1〜20個、とくに好ましく
は1〜8個のアルキル基、アリール基、アルケニル基、
アラルキル基またはそれらのヒドロキシル置換体やハロ
ゲン置換体である。
R1, R2s and R3 are the same or different organic functional groups, preferably alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms,
It is an aralkyl group or a hydroxyl-substituted product or a halogen-substituted product thereof.

nは金ルeAy’の価数であり、mは金属Nの価数に1
または2を加えた数となる正の整数である。
n is the valence of metal eAy', and m is 1 for the valence of metal N.
Or a positive integer that is the sum of 2.

Xはハロゲン原子、酸素原子、チッ素原子または種々の
有機官能基である。
X is a halogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or various organic functional groups.

前記金属M1のうちアルコキシドの生成が簡単でかつ安
価なものとしては、たとえばアルミニウム、ガリウム、
イツトリウム、インジウム、シリコン、チタン、ゲルマ
ニウム、ジルコニウム、錫、バナジウム、ニオブ、アン
チモン、タンタル、ビスマス、クロム、モリブデン、タ
ングステン、マンガン、鉄など、とくに鉄、チタン、ジ
ルコニウム、シリコン、アルミニウムかあげられる。
Among the metals M1, metals whose alkoxides can be easily produced and are inexpensive include, for example, aluminum, gallium,
Examples include yttrium, indium, silicon, titanium, germanium, zirconium, tin, vanadium, niobium, antimony, tantalum, bismuth, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, iron, and especially iron, titanium, zirconium, silicon, and aluminum.

金属Mとアルコキシドを形成する化合物としては一般式
HOR(Rは前記R1、R2またはR3と同じ〕で示さ
れるアルコール性水酸基を有する1価または多価アルコ
ールであればよい。好ましい具体例としては、たとえば
メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルア
ルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコ
ール、イソブチルアルコール、ペンチルアルコール、ヘ
キシルアルコール、2−エチルヘキシルアルコール、オ
クチルアルコール、t−ブチルアルコール、ラウリルア
ルコール、1.4−メタンジオール、グリセリン、エチ
レングリコール、オクチルアルコール、エチレングリコ
ールのモノアルキルエーテルなどがあげられる。
The compound that forms an alkoxide with the metal M may be any monohydric or polyhydric alcohol having an alcoholic hydroxyl group represented by the general formula HOR (R is the same as R1, R2 or R3 above). Preferred specific examples include: For example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, pentyl alcohol, hexyl alcohol, 2-ethylhexyl alcohol, octyl alcohol, t-butyl alcohol, lauryl alcohol, 1,4-methane Examples include diol, glycerin, ethylene glycol, octyl alcohol, and monoalkyl ether of ethylene glycol.

本発明に用いられる金属アルコキシドの具体例としては
、前記のほかディ・シー・ブラッドレイ(D、 O,B
radley)ら、メタル彎アルコキサイズ(Meta
l Alkoxides )、1978年、アカデミツ
ク・プレス(Academic Press )社に記
載されているものも使用できる。
Specific examples of metal alkoxides used in the present invention include those listed above, as well as those manufactured by DC Bradley (D, O, B
radley) et al., metal curvature alkoxycise (Meta
1 Alkoxides, 1978, Academic Press, Inc., may also be used.

また本発明に用いる金属アルコキシドは適度の加水分解
性と安定性を有しているものが好ましい。通常それらの
性質は反応させる金属およびアルコールの掠頻によって
決まり、一般に金属アルコキシドは用いるアルコールの
炭素数か大きくなる程加水分解速度が遅く、また金属と
してアルカリ金属またはアルカリ土類金属を用いるとき
は加水分解速度か速くなる。したがって所望の加水分解
速度や安定性に応じて、適宜用いる金属やアルコールを
決めることが重要である。
Further, the metal alkoxide used in the present invention preferably has appropriate hydrolyzability and stability. Usually, their properties are determined by the frequency of the metal and alcohol being reacted; in general, the higher the number of carbon atoms in the alcohol used, the slower the rate of hydrolysis of metal alkoxides; Decomposition speed increases. Therefore, it is important to appropriately determine the metal and alcohol to be used depending on the desired hydrolysis rate and stability.

本発明に用いられるキレート剤は、キレート剤として従
来知られている含酸素化合物、含窒素化合物、含イオウ
化合物などのうち金属アルコキシド混合系に溶解するも
のであればとくに制限されない。具体例としては、たと
えばEDTA(エチレンジアミン四酢酸)、NTA(、
:)IJD三酢酸)、UDA(ウラミルニ酢酸)、ジメ
チルグリオキシム、ジチゾン、オキシン、β−ジケトン
、グリシン、メチルアセトアセテート、エチルアセトア
セテート、メルカプタン類およびリルン酸、オレイン酸
、オクチル酸などの単価カルボン酸、シュウ酸、シトラ
コン酸、マレイン酸、フタル酸、ナフテン酸などの多価
カルボン酸の1Nまたは2種以上があげられる。とりわ
けβ−ジケトン、メチルアセトアセテート、エチルアセ
トアセテート、単価カルボン酸および多価カルボン酸が
有用である。
The chelating agent used in the present invention is not particularly limited, as long as it is soluble in the metal alkoxide mixed system among oxygen-containing compounds, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, etc. that are conventionally known as chelating agents. Specific examples include EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid), NTA (,
:) IJD triacetic acid), UDA (uramyl diacetic acid), dimethylglyoxime, dithizone, oxine, β-diketone, glycine, methylacetoacetate, ethyl acetoacetate, mercaptans, and monohydric carbones such as lylunic acid, oleic acid, octylic acid, etc. Examples include 1N or two or more types of polycarboxylic acids such as oxalic acid, citraconic acid, maleic acid, phthalic acid, and naphthenic acid. Particularly useful are β-diketones, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, monocarboxylic acids and polycarboxylic acids.

前記β−ジケトンとしては、たとえばアセチルアセトン
、ジイソブチリルメタン、ジピバロイルメタン、3−メ
チルペンタン−2,4−ジオン、2.2−ジメチルペン
タン−3,5−ジオンまたはそれらのフッ素化物があげ
られ、とりわけアセチルアセトンが好ましい。
Examples of the β-diketone include acetylacetone, diisobutyrylmethane, dipivaloylmethane, 3-methylpentane-2,4-dione, 2,2-dimethylpentane-3,5-dione, or fluorinated products thereof. Among them, acetylacetone is particularly preferred.

本発明の溶液は、用いられる2種以上の金属アルコキシ
ドがすべて液状であればとくに溶媒を必要としないが、
それらが相溶でないか、同相の状態であるときは共通溶
媒が必要となる。
The solution of the present invention does not particularly require a solvent as long as the two or more metal alkoxides used are all liquid.
A common solvent is required when they are incompatible or in phase.

共通溶奴としてはたとえば1価または多価アルコール;
カルボン酸エステル;ケトン;ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族溶媒;ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどのエーテルおよびN−メチル−2−ピロリドン
、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ピリ
ジンなどの窒素含有有機溶媒などの1種または2種以上
の混合溶媒があげられる。それらのうち1価または多価
の低級アルコール;低級カルボン酸エステル;ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなどのエーテルおよびN−メチ
ル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドなどの窒素含有有機溶媒は本発明において
広く用いることができるが、具体的な溶媒は、用いられ
る金属アルコキシドとキレート剤の組合せで適宜選定す
ればよい。
Common examples include monohydric or polyhydric alcohols;
Carboxylic acid esters; ketones; aromatic solvents such as benzene, toluene, and xylene; ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; and nitrogen-containing organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, and pyridine; A mixed solvent of two or more types may be mentioned. Among them, monohydric or polyhydric lower alcohols; lower carboxylic acid esters; ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; and nitrogen-containing organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, and dimethylacetamide can be widely used in the present invention. However, the specific solvent may be appropriately selected depending on the combination of metal alkoxide and chelating agent used.

なお、2種以上の金属アルコキシド共存下でキレート剤
を添加するとき、キレート剤が多量のばあいおよびキレ
ート剤のキレート能が強いばあいには沈澱を生じて相溶
しないときかある。
Note that when a chelating agent is added in the coexistence of two or more metal alkoxides, if a large amount of the chelating agent is used or if the chelating agent has a strong chelating ability, precipitation may occur and the two may not be compatible.

そのときはアルデヒドを加え、必要に応じて加熱処理す
ることで、均一な溶液とすることができる。加熱処理は
、通常溶媒の還流温度以下で行なうのが好ましい。この
作用はキレート剤がβ−ジケトンのときとくに顕著にあ
られれる。
At that time, by adding an aldehyde and performing a heat treatment if necessary, a uniform solution can be obtained. The heat treatment is usually preferably carried out at a temperature below the reflux temperature of the solvent. This effect is particularly noticeable when the chelating agent is a β-diketone.

アルデヒドの添加は前記の可溶化作用のはか(こ、キレ
ート化した金属錯体の昇華性をさらに抑制する作用をも
果たす。
The addition of aldehyde has the effect of not only the above-mentioned solubilizing effect but also the effect of further suppressing the sublimation of the chelated metal complex.

アルデヒドとしては、炭素数1〜8個のアルデヒド、と
くにホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ペンズアルデヒトなどが好ましい。
Preferred aldehydes include aldehydes having 1 to 8 carbon atoms, particularly formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, penzaldehyde, and the like.

アルデヒドの添加による可溶化効果は用いる金属アルコ
キシドが周期表第1族または第■族の金属アルコキシド
にキレート剤を加えて沈澱を生じたときにとくにすぐれ
ており、昇華性の抑制効果は金属アルコキシドが3〜5
価の遷移金属アルコキシドにキレート剤を加えたときに
すぐれている。
The solubilizing effect of adding aldehyde is particularly excellent when the metal alkoxide used is a metal alkoxide of Group 1 or Group II of the periodic table, and a chelating agent is added to form a precipitate. 3-5
Excellent when a chelating agent is added to a valent transition metal alkoxide.

アルデヒドの使用量は添加されるキレート剤1モルに対
して0.001モル以上、通常、0.iモル以上で前記
効果が奏される。
The amount of aldehyde used is 0.001 mol or more, usually 0.001 mol or more, per 1 mol of the chelating agent added. The above effect is exhibited at imol or more.

筐たキレート剤の添加量は金属アルコキシド本来の性質
を損わない溶液とするために、キレート剤の官能基の数
が金属アルコキシドのアルコキシ基の総数未満であるこ
とが必要であり、好ましくはアルコキシ基の総数の50
%以下になるように調整する。
The amount of the chelating agent added must be such that the number of functional groups in the chelating agent is less than the total number of alkoxy groups in the metal alkoxide, and preferably the number of functional groups in the chelating agent is less than the total number of alkoxy groups in the metal alkoxide. 50 of the total number of bases
Adjust so that it is below %.

本発明に8いて、前記共通溶媒のほかに熱分解を促迎す
るためまたは保存安定性を増すために、有機酸や酸化防
止剤を添加してもよいし、薄膜製造時に膜厚をコントロ
ールするために粘度調節効果をもつセルロース系高分子
、ポリ酢酸ヒニル、グリセリン、ポリエチレングリコー
ルなどの増粘剤を添加してもよいし、さらに金属成分を
補充するために金属有機酸などの他の有機金属化合物を
添加してもよい。たたし、これらの添加剤は共通溶媒に
溶解し、かつ熱分解時に超微粒子および薄膜生成に悪影
響を及ぼさないものであることが重要である。
In the present invention, in addition to the common solvent, an organic acid or an antioxidant may be added in order to promote thermal decomposition or increase storage stability, and the film thickness may be controlled during thin film production. Therefore, thickeners such as cellulose polymers, polyhinyl acetate, glycerin, and polyethylene glycol, which have a viscosity adjusting effect, may be added, and other organic metals such as metal organic acids may be added to further replenish the metal components. Compounds may also be added. However, it is important that these additives are soluble in the common solvent and do not adversely affect the formation of ultrafine particles and thin films during thermal decomposition.

本発明に用いられる溶液は金属アルコキシド単独と同様
に加水分解性があり、しかも保存安定性にすぐれており
、加熱することにより容易に任意の金属を含む複合酸化
物複合材料の超微粒子や薄膜を製造することができる。
The solution used in the present invention is hydrolyzable like metal alkoxide alone and has excellent storage stability, and can easily form ultrafine particles or thin films of complex oxide composite materials containing any metal by heating. can be manufactured.

本発明の複合金属溶液を用いるときは、金属アルコキシ
ド種々選定し組合せることにより、所望の組成の複合材
料かえられるが、本発明の複合金属溶液はとくに金属ア
ルコキシド単独使用ではえられない遷移金属や安定性の
乏しいアルカリ金属、アルカリ土類金属あるいは金属ア
ルコキシドを形成しえない金属を含む複合材料を目的と
するばあい、さらに微量成分が均一に混合された複合材
料を目的とするばあいにきわめて有用である。
When using the composite metal solution of the present invention, a composite material with a desired composition can be obtained by selecting and combining various metal alkoxides. If you are aiming for a composite material containing alkali metals, alkaline earth metals, or metals that cannot form metal alkoxides, which have poor stability, or if you are aiming for a composite material in which trace components are uniformly mixed, it is extremely Useful.

また加熱時の雰囲気を種々選定することにより、えられ
る複合材料の組成を変更することができる。たとえば大
気中で加熱するときは複合酸化物かえられ、水素や一酸
化炭素などを含む還元性雰囲気中で加熱処理するときは
複合金属(合金も含む)かえられる。またNH3やN2
を含む窒素雰囲気下で加熱処理すれば窒化物を含む複合
材料かえられる。
Furthermore, by selecting various atmospheres during heating, the composition of the resulting composite material can be changed. For example, when heated in the air, composite oxides are converted, and when heat treated in a reducing atmosphere containing hydrogen, carbon monoxide, etc., composite metals (including alloys) are converted. Also NH3 and N2
Composite materials containing nitrides can be changed by heat treatment in a nitrogen atmosphere containing nitrides.

超微粒子状の複合材料をつる方法としては、たとえば複
合金属溶液をそのまま加熱して熱分解する方法、微量の
水またはアンモニア水を加えて加水分解したのち加熱し
て熱分解する方法、溶液をガス状またはミスト状にした
状態で加熱し熱分解する方法、溶液をガス化したのちプ
ラズマまたはレーザー光によって分解する方法などがあ
る。カス状で熱分解する方法窓よびプラズマなどで分解
する方法によりえられる超微粒子はとくにすぐれた分散
性を示す。なお一般的に熱分解速度が速い程えられる超
微粒子の粒径が小さく、化学量論性がよい。
Methods for producing composite materials in the form of ultrafine particles include, for example, heating the composite metal solution as it is to pyrolyze it, adding a small amount of water or ammonia water to hydrolyze it, and then heating it to pyrolyze it. There are two methods: a method of thermally decomposing the solution by heating it in the form of a liquid or mist, and a method of gasifying the solution and then decomposing it with plasma or laser light. Ultrafine particles obtained by thermal decomposition in the form of dregs or plasma decomposition have particularly excellent dispersibility. Generally, the faster the thermal decomposition rate is, the smaller the particle size of the ultrafine particles and the better the stoichiometry.

複合金属酸化物薄膜を製造する方法としては、基板上に
本発明の複合金属溶液をスプレー、デツピング、スピン
コーティングなどにより塗布したのち加熱して熱分解す
る方法、分解温度(こ加熱された基板に溶液を噴霧して
基板上で熱分解させる方法、溶液をガス化したのち加熱
して熱分解するか、またはプラズマもしくはレーザー光
によって分解しながら分解物を基板上に堆積させる方法
、あるいは印刷法など、金属アルコキシドを単独で使用
するばあいと同様な方法が採用できる。とりわけ塗布法
と噴霧熱分解による薄膜の製法が安価な設備で生産性が
高く実用的である。
The composite metal oxide thin film can be produced by applying the composite metal solution of the present invention onto a substrate by spraying, dipping, spin coating, etc. and then heating it to thermally decompose it. Methods such as spraying a solution and thermally decomposing it on the substrate, gasifying the solution and then heating it to thermally decompose it, or depositing the decomposed product on the substrate while decomposing it with plasma or laser light, or printing method, etc. In the case of using a metal alkoxide alone, the same method can be adopted.In particular, the coating method and the method of producing a thin film by spray pyrolysis are highly productive and practical with inexpensive equipment.

塗布法で薄膜を製造するばあい、溶液中の金属成分含有
量を0.01〜20%(重量%、以下同様)、好ましく
は0.1〜10%とし、加熱温度を200°C以上にす
るとき一般に良質な薄膜かえられる。金属成分含有量が
0.01%よりも少ないと、基板上で塗布成分がはじけ
て塗布むらを形成するばあいかあり、20%よりも多い
と一回塗布時の膜厚が厚くなるため、熱処理時の熱的歪
や分解ガスのためクラックが入ったり、基板に密着せず
に熱分解して粒子化して濁りを生ずるばあいがある。
When manufacturing a thin film by a coating method, the metal component content in the solution is 0.01 to 20% (weight%, the same applies hereinafter), preferably 0.1 to 10%, and the heating temperature is 200 ° C or higher. Generally, a good quality thin film is replaced. If the metal component content is less than 0.01%, the coating components may burst on the substrate and cause coating unevenness, and if it is more than 20%, the film thickness after one coating will become thicker, so heat treatment is necessary. Cracks may occur due to thermal distortion and decomposition gas during the process, or the material may thermally decompose without adhering to the substrate and turn into particles, resulting in turbidity.

たたし、それらの条件は用いる金属アルコキシドとキレ
ート剤のわ1合せや共通溶媒の種類、塗布手段、塗布’
X、f Vt:1気によって前記条件が大きく痩動する
ことかあり、各組合せに応じて最適条件を決めることが
重要である。
However, these conditions depend on the combination of the metal alkoxide and chelating agent used, the type of common solvent, the application method, and the application method.
X, f Vt: 1 The above conditions may be greatly reduced depending on the qi, so it is important to determine the optimal conditions according to each combination.

なおディッピング法によるときは、引上げ速度を0.5
〜100 cm /分、好ましくは2〜200汀l/分
とすると均質性にすぐれた薄膜かえられる。
In addition, when using the dipping method, the pulling speed is 0.5
A thin film with excellent homogeneity can be obtained at a rate of ~100 cm2/min, preferably 2-200 l/min.

噴も熱分解法で薄膜を製造1−るばあいは、あらかじめ
基板の温度を200°C以上、好ましくは400°C以
上に加熱しておいて、溶液中の金属成分含有量を0.0
1〜20%、好ましくは0.05〜5%にして、空気ま
たは窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス、さら
にこれらに水蒸気を含有させたガスをキャリヤーガスと
して基板に吹きつけることによってえられる。安定な金
属ケトン錯体を用いるときは特にキャリヤーガス中に水
蒸気を含有させることにより、分解性がよくなり、膜質
および化学量論性にすぐれた薄膜かえられる。また膜質
をよくするには、噴霧するミストの粒子を均一で細かく
することが重要であり、好ましくは20μm以下の粒子
を吹きつけるとよい。そのためにはノズルおよびミスト
が飛散する空間を高周波もしくは超音波により振動させ
てミストを均一に細かくするか、さらにノズルと基板間
に電場をかけてミストを速やかに基板上に被着させるの
か好ましい。なお、溶液の処理量キャリヤーガスの流量
は装置により大きく異なり、適宜調整する必要がある。
If a thin film is manufactured by the pyrolysis method, the substrate is heated in advance to a temperature of 200°C or higher, preferably 400°C or higher, and the metal component content in the solution is reduced to 0.0°C.
It is obtained by blowing air or an inert gas such as nitrogen, argon, or helium, or a gas containing water vapor as a carrier gas onto the substrate at a concentration of 1 to 20%, preferably 0.05 to 5%. . When a stable metal ketone complex is used, especially by including water vapor in the carrier gas, decomposition is improved and a thin film with excellent film quality and stoichiometry can be obtained. In order to improve the film quality, it is important to make the particles of the sprayed mist uniform and fine, and it is preferable to spray particles of 20 μm or less. For this purpose, it is preferable to vibrate the nozzle and the space in which the mist is scattered using high frequency or ultrasonic waves to make the mist uniformly fine, or to apply an electric field between the nozzle and the substrate to quickly deposit the mist on the substrate. Note that the throughput of the solution and the flow rate of the carrier gas vary greatly depending on the apparatus, and need to be adjusted appropriately.

形成する薄膜の厚さは用いる複合金属溶液の金属成分含
有量、粘度、塗布昂などによって調節できるが、ディッ
ピング法においては通常1回の塗布で膜厚が100〜3
000 X、好ましくは100〜1500 Xに調節す
るのが好ましく、噴霧熱分解法においては1回に300
0 X以下になるようにし、3000 Xを超えるとき
は炭化物を除去するために、熱処理をしたのち再塗布す
ることが好ましい。才た同一または異なる組成の溶液を
繰り返し塗布して同−蓉たは異なる組成の薄膜の積層体
としてもよい。
The thickness of the thin film to be formed can be adjusted by adjusting the metal component content, viscosity, coating strength, etc. of the composite metal solution used, but in the dipping method, the film thickness is usually 100 to 30 mm thick with one coating.
000X, preferably 100 to 1500X, and in the spray pyrolysis method, 300
If it exceeds 3000X, it is preferable to perform a heat treatment and then reapply to remove the carbide. A laminate of thin films of the same or different compositions may be obtained by repeatedly applying solutions of the same or different compositions.

なお複合金属溶液の熱処理の条件を変えることにより結
晶状態の異なる複合材料を製造することができる。通常
加熱当初では結晶相のえられないアモルファス相となり
、さらに加熱すると徐々に結晶化が進む。したがって加
熱条件を適宜選定することにより任意の結晶状態の複合
材料の薄膜などかえられる。このような薄膜形成法は従
来にない方法であり、えられる結晶状態の異なる肋膜に
は新たな機能が期待できる。
Note that by changing the heat treatment conditions of the composite metal solution, composite materials with different crystal states can be manufactured. Normally, at the beginning of heating, the material becomes an amorphous phase with no crystalline phase, and as it is further heated, crystallization gradually progresses. Therefore, by appropriately selecting the heating conditions, it is possible to change the thin film of the composite material to any desired crystalline state. This thin film formation method is unprecedented, and the resulting membranes with different crystal states can be expected to have new functions.

アモルファス相は通常含有されている有機物の分解が完
了する600〜500°C付近でえられ、400°C以
上では71.11品化が進む。たたし、そうした温度は
目的とする複合材料の組成によって変化するので、その
つどその傾向を把握して調整する必要がある。
The amorphous phase is usually obtained at around 600 to 500°C, when the decomposition of the contained organic substances is completed, and at 400°C or higher, the formation of 71.11 products progresses. However, such temperature changes depending on the composition of the target composite material, so it is necessary to understand the tendency and adjust it each time.

基板材料としては、薄膜形成時に与えられる熱に耐えら
れる材料であればいかなる材料も使用可能であり、たと
えばガラス、アルミナ、シリカなどのセラミックス製の
板、ステンレスなどの金属板や金属箔、ポリイミドなど
の耐熱性樹脂フィルムなどがあげられるが、とくに表面
の平滑性にすぐれているものが好ましい。
Any material can be used as the substrate material as long as it can withstand the heat applied during thin film formation, such as glass, ceramic plates such as alumina and silica, metal plates such as stainless steel, metal foil, polyimide, etc. Examples include heat-resistant resin films, but those with excellent surface smoothness are particularly preferred.

本発明によってえられる複合金属酸化物微粒子や薄膜は
新しい機能性材料としてきわめて有望なものであり、た
とえば各種のセンサ材料、導電膜材料、光関連デバイス
用材料、磁気記録材料、圧電集子材料、誘電体材料など
としてすぐれた性能を有する。
The composite metal oxide fine particles and thin films obtained by the present invention are extremely promising as new functional materials, such as various sensor materials, conductive film materials, optical-related device materials, magnetic recording materials, piezoelectric collector materials, It has excellent performance as a dielectric material.

つぎに本発明を実施例および比較例に基づいて説明する
が、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
Next, the present invention will be explained based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited only to these Examples.

実施例1 Ba : Tiのモル比が1:1になるようにバリウム
トリインプロポキシド5’、177とチタンテトライソ
プロポキシド5.69.を100gの無水エチルアルコ
ール中に溶かし、等モル比のアセチルアセトン2.を添
加したところ自沈が生じた。さらに0.3y(モル比と
して0.5)のパラホルムアルデヒドを加えて10分間
還流を行なったところ、赤褐色の透明な均一溶液となり
、溶媒をテトラヒドロフランに変換したところ、1力月
以上も安定であった。この溶液は加水分解性があり、石
英ガラス(こ10 am /分の速度でディップコーテ
ィングすることにより、白濁のない透明な薄膜かでき、
これを800°01時間焼成することにより、透明なE
aTiO3薄膜がえられた。
Example 1 Barium triimpropoxide 5', 177 and titanium tetraisopropoxide 5.69. was dissolved in 100 g of absolute ethyl alcohol, and an equimolar ratio of 2. When this was added, scuttling occurred. Furthermore, when 0.3y (0.5 molar ratio) of paraformaldehyde was added and refluxed for 10 minutes, a reddish-brown transparent homogeneous solution was obtained, and when the solvent was converted to tetrahydrofuran, it was stable for more than 1 month. Ta. This solution is hydrolyzable and can be applied to quartz glass (dip coating at a rate of 10 am/min to form a transparent thin film without clouding).
By firing this for 800°01 hour, transparent E
A TiO3 thin film was obtained.

また、この溶液から溶媒を除去し、600°Oにて1時
間焼成することにより、粒径0.1μm以下のBaTi
O3超微粒子かえられた。加水分解後に焼成しても同様
にBaTiO3の超微粒子かえられた。
In addition, by removing the solvent from this solution and baking it at 600°O for 1 hour, BaTi with a particle size of 0.1 μm or less was produced.
O3 ultrafine particles have been changed. Even after hydrolysis and calcination, BaTiO3 ultrafine particles were changed in the same way.

実施例2 Fe : Srが12=1のモル比になるように鉄トリ
エトキシド15gおよびストロンチウムジイソプロポキ
シド1 、35.を無水エチルアルコール100gに溶
かし、これにアセチルアセトン0.5F!加えたところ
自沈が生じた。これに0.2gのホルマリンを加えて7
0°0にて10分間加熱したところ、自沈が溶解して均
一な溶液となった。
Example 2 15 g of iron triethoxide and 1,35 g of strontium diisopropoxide were used so that the molar ratio of Fe:Sr was 12=1. Dissolve in 100g of absolute ethyl alcohol and add 0.5F of acetylacetone! When added, scuttling occurred. Add 0.2g of formalin to this and
When the mixture was heated at 0°0 for 10 minutes, the scuttling dissolved and became a homogeneous solution.

この溶液を石英ガラス」二に100m /分の速度でデ
ィッピング後、800°Oにて1時間焼成したところ、
厚さ約1aoo Xの赤色透明なストロンチウムフェラ
イト(Sr0・6Fe 203 ) 薄illがえられ
た。
After dipping this solution into a quartz glass plate at a speed of 100 m/min, it was baked at 800°O for 1 hour.
A thin illumination of red transparent strontium ferrite (Sr0.6Fe 203 ) with a thickness of about 1 aoo× was obtained.

また、この溶液から溶媒除去し乾固後、8000cにて
1時間焼成したところ、−次粒径0.08μのストロン
チウムフェライト粒子かえられた。
Further, when the solvent was removed from this solution, the solution was dried and then fired at 8000c for 1 hour, strontium ferrite particles with a -order particle size of 0.08μ were obtained.

実施例6 Fe : Znのモル比が2;1になるように鉄トリイ
ソプロポキシド11.647と亜鉛ジェトキシド3.8
8  を加水エチルアルコール100gに添加したとこ
ろ、亜鉛ジェトキシドは溶解せず沈υした。
Example 6 Iron triisopropoxide 11.647 and zinc jetoxide 3.8 were mixed so that the molar ratio of Fe:Zn was 2:1.
When Zinc Jetoxide was added to 100 g of diluted ethyl alcohol, the zinc jetoxide did not dissolve but precipitated.

この系にシトラコン酸2yを攪拌しながら加えて還流し
たところ、均一な溶液となった。
When citraconic acid 2y was added to this system with stirring and refluxed, a homogeneous solution was obtained.

この溶液から溶媒を除去したのち600°0にて1時間
焼成したところ、粒径0.2μのZ nF e 204
スピネルフエライト粉末かえられた。
After removing the solvent from this solution, it was calcined at 600°0 for 1 hour, resulting in Z nF e 204 with a particle size of 0.2μ.
Spinel ferrite powder changed.

実施例4 Pb:Ti:Zr=2:iz (モル比〕になるように
鉛ジイソプロポキシド16.3y、チタンテトライソプ
ロポキシド7.12g、ジルコニウムテトラブトキシド
9 、60yを無水エチルアルコール100gに浴かし
、さらにオレイン酸10F!を加えたのち60分間加熱
還流を行ない、均一な溶液をえた。
Example 4 16.3y of lead diisopropoxide, 7.12g of titanium tetraisopropoxide, and 9,60y of zirconium tetrabutoxide were added to 100g of anhydrous ethyl alcohol so that the molar ratio was Pb:Ti:Zr=2:iz. After adding 10F! of oleic acid, the mixture was heated under reflux for 60 minutes to obtain a homogeneous solution.

この溶液は1力月以」二安定であり、溶媒除去後800
°Gにて1時間焼成することにより、粒径0.2μのp
b (z r o 、5 T 1o 、5 )03粉体
がえられた。
This solution is bistable for more than 1 month and after removal of the solvent
By calcining for 1 hour at °G, p
b (z r o , 5 T 1o , 5 )03 powder was obtained.

またこの溶液を石英ガラス板に10 am /分の速度
でディッピングして800°○にて1時間焼成したとこ
ろ、厚:1ooo X−の透明性のあるBb(Zr。、
5”Ti、、5)03薄膜かえられた。
When this solution was dipped onto a quartz glass plate at a rate of 10 am/min and fired at 800°○ for 1 hour, a transparent Bb (Zr.
5"Ti, 5)03 thin film was changed.

比較例1 実施例1と同様にBa : T−0モル比が1対1にな
るようにバリウムトリイソプロポキシド5.17  と
チタンテトライソプロポキシド5.691t全100y
無水エチルアルコールに俗かしたのち、10 am /
分の速度で石英ガラス板上にディッピングしたところ、
表面が粒子化し白満した薄膜となり、均一性に乏しい1
14%しかえられなかった。
Comparative Example 1 As in Example 1, 5.17 tons of barium triisopropoxide and 5.691 tons of titanium tetraisopropoxide were used for a total of 100 y so that the Ba:T-0 molar ratio was 1:1.
After mixing with absolute ethyl alcohol, 10 am /
When dipped onto a quartz glass plate at a speed of
The surface becomes particulate and becomes a whitish thin film with poor uniformity 1
I only gained 14%.

なお、この溶液を密閉して2日間於品したところ、多量
の沈澱物が生じ、安定性に乏しいことが判明した。
When this solution was stored in a sealed container for 2 days, a large amount of precipitate was formed and it was found that the solution was poor in stability.

比較例2 実施例2と同様にFe:sr= 12 : 1 (モル
比)になるように鉄トリエトキシドとストロンチウムイ
ソプロポキシドを加えた無水エタノール溶成を調力し、
この溶液を密閉して2日間放置したところ、多量の沈澱
物か生じ、安定性に乏しいことが判明した。
Comparative Example 2 As in Example 2, anhydrous ethanol was prepared by adding iron triethoxide and strontium isopropoxide so that Fe:sr=12:1 (molar ratio).
When this solution was left sealed for 2 days, a large amount of precipitate formed and it was found that the solution was poor in stability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 12種以上の金属アルコキシド中にキレート剤を加えて
なる複合金属溶液。 2 共通溶媒が含有されてなる特許請求の範囲第1項記
載の溶液。 6 キレート剤がカルボニル基を2個以上有すするケト
ンである特許請求第1項記載の溶液。 4 アルデヒドの存在下に溶解されてなる特許請求の範
囲第1項または第2項記載の溶液。 52種以上の金属アルコキシドにキレート剤を加えてな
る複合金属溶液を加熱することを特徴とする複合材料の
製造法。
[Claims] A composite metal solution comprising a chelating agent added to 12 or more metal alkoxides. 2. The solution according to claim 1, which contains a common solvent. 6. The solution according to claim 1, wherein the chelating agent is a ketone having two or more carbonyl groups. 4. The solution according to claim 1 or 2, which is dissolved in the presence of an aldehyde. A method for producing a composite material, which comprises heating a composite metal solution prepared by adding a chelating agent to 52 or more types of metal alkoxides.
JP8479283A 1983-04-15 1983-05-13 Composite metallic solution Granted JPS59213602A (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8479283A JPS59213602A (en) 1983-05-13 1983-05-13 Composite metallic solution
CA000451908A CA1217927A (en) 1983-04-15 1984-04-12 Inorganic composite material and process for preparing the same
DE8484104194T DE3473437D1 (en) 1983-04-15 1984-04-13 Inorganic composite material and process for preparing the same
EP84104194A EP0125507B1 (en) 1983-04-15 1984-04-13 Inorganic composite material and process for preparing the same
US06/600,278 US4579594A (en) 1983-04-15 1984-04-13 Inorganic composite material and process for preparing the same
US06/818,425 US4668299A (en) 1983-04-15 1986-01-13 Inorganic composite material and process for preparing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8479283A JPS59213602A (en) 1983-05-13 1983-05-13 Composite metallic solution

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21268190A Division JPH03115106A (en) 1990-08-10 1990-08-10 Production of composite material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59213602A true JPS59213602A (en) 1984-12-03
JPH0346402B2 JPH0346402B2 (en) 1991-07-16

Family

ID=13840548

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8479283A Granted JPS59213602A (en) 1983-04-15 1983-05-13 Composite metallic solution

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59213602A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6168314A (en) * 1984-09-07 1986-04-08 Agency Of Ind Science & Technol Production of porous silica, alumina, titania, and zirconia
JPS6183603A (en) * 1984-09-07 1986-04-28 Agency Of Ind Science & Technol Preparation of amorphous compound metal oxide
JPS61201604A (en) * 1985-03-05 1986-09-06 Hiroyoshi Inoue Preparation of spherical superfine particle of metal oxide
JPS6287242A (en) * 1985-05-29 1987-04-21 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd Stable metal oxide sol composition
JPS62153158A (en) * 1985-08-30 1987-07-08 東洋シーシーアイ株式会社 Heat resistant composition and manufacture
JPH0277580A (en) * 1988-09-12 1990-03-16 Sekisui Chem Co Ltd Production of ceramic coated body
JPH02153843A (en) * 1988-12-06 1990-06-13 Asahi Glass Co Ltd Phosphate-based glass having treated surface and method for treating surface thereof
JPH03199120A (en) * 1989-12-28 1991-08-30 Koroido Res:Kk Production of alumina-based porous gel
JP2001036030A (en) * 1999-06-28 2001-02-09 Hyundai Electronics Ind Co Ltd Semiconductor device and its manufacture
JP2003255522A (en) * 2002-02-27 2003-09-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd Method for forming positive metal oxide patterned thin film
KR100417530B1 (en) * 2001-04-09 2004-02-05 (주)케이.씨.텍 Method for preparation of cerium oxide nanoparticles having 50-100㎚ in diameter
KR100483168B1 (en) * 2001-04-09 2005-04-14 삼성코닝 주식회사 Method for the preparation of oxide powders
JP2007521355A (en) * 2003-01-21 2007-08-02 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. Organic / inorganic hybrid polymer coating with high refractive index
JP2016180158A (en) * 2015-03-24 2016-10-13 一般財団法人ファインセラミックスセンター Film formation method

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0233644B2 (en) * 1984-09-07 1990-07-30 Kogyo Gijutsuin
JPS6183603A (en) * 1984-09-07 1986-04-28 Agency Of Ind Science & Technol Preparation of amorphous compound metal oxide
JPH0159965B2 (en) * 1984-09-07 1989-12-20 Kogyo Gijutsuin
JPS6168314A (en) * 1984-09-07 1986-04-08 Agency Of Ind Science & Technol Production of porous silica, alumina, titania, and zirconia
JPS61201604A (en) * 1985-03-05 1986-09-06 Hiroyoshi Inoue Preparation of spherical superfine particle of metal oxide
JPH0457602B2 (en) * 1985-03-05 1992-09-14 Hiroyoshi Inoe
JPS6287242A (en) * 1985-05-29 1987-04-21 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd Stable metal oxide sol composition
JPH0417910B2 (en) * 1985-08-30 1992-03-26 Toyo Shii Shii Ai Kk
JPS62153158A (en) * 1985-08-30 1987-07-08 東洋シーシーアイ株式会社 Heat resistant composition and manufacture
JPH0277580A (en) * 1988-09-12 1990-03-16 Sekisui Chem Co Ltd Production of ceramic coated body
JPH02153843A (en) * 1988-12-06 1990-06-13 Asahi Glass Co Ltd Phosphate-based glass having treated surface and method for treating surface thereof
JPH03199120A (en) * 1989-12-28 1991-08-30 Koroido Res:Kk Production of alumina-based porous gel
JPH0818824B2 (en) * 1989-12-28 1996-02-28 株式会社コロイドリサーチ Method for producing alumina-based porous gel
JP2001036030A (en) * 1999-06-28 2001-02-09 Hyundai Electronics Ind Co Ltd Semiconductor device and its manufacture
KR100417530B1 (en) * 2001-04-09 2004-02-05 (주)케이.씨.텍 Method for preparation of cerium oxide nanoparticles having 50-100㎚ in diameter
KR100483168B1 (en) * 2001-04-09 2005-04-14 삼성코닝 주식회사 Method for the preparation of oxide powders
JP2003255522A (en) * 2002-02-27 2003-09-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd Method for forming positive metal oxide patterned thin film
JP2007521355A (en) * 2003-01-21 2007-08-02 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. Organic / inorganic hybrid polymer coating with high refractive index
JP4768596B2 (en) * 2003-01-21 2011-09-07 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. Organic / inorganic hybrid polymer coating with high refractive index
JP2016180158A (en) * 2015-03-24 2016-10-13 一般財団法人ファインセラミックスセンター Film formation method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0346402B2 (en) 1991-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4668299A (en) Inorganic composite material and process for preparing the same
JPS59213602A (en) Composite metallic solution
JPS59213660A (en) Porous ceramic thin film and manufacture
JPH0375483B2 (en)
JP2003002647A (en) Plzt ferroelectric thin film, composition for forming the same, and producing method for the same
US5073410A (en) Thin films of metal phosphates and the method of their formation
JP2000256862A (en) Production of composite oxidized film
JPH0346401B2 (en)
US6086957A (en) Method of producing solution-derived metal oxide thin films
JP2012136487A (en) Method for producing composition for forming ceramic film, piezoelectric ceramic film, and method for producing bismuth 2-ethylhexanoate
JP4384419B2 (en) Oxide ceramic nanosheet and method for producing the same
WO2005054134A1 (en) Method for producing composition for forming dielectric film, composition for forming dielectric film, dielectric film and method for producing same
JP4257518B2 (en) Method for producing perovskite type crystal particles, method for producing perovskite type crystal particle dispersion, and dielectric film
US5202175A (en) Thin films of metal phosphates and the method of their formation
JPS6197159A (en) Solution for manufacturing piezoelectric thin film and manufacture of film
JPS61136683A (en) Production of thin hexagonal ferrite film
JP4329288B2 (en) BLT or BT ferroelectric thin film, composition for forming the same and method for forming the same
JPH0375482B2 (en)
Hirano et al. Chemical processing of the high-temperature superconductor Ba2YCu3O7− δ through solution routes and thermal behaviour on pyrolysis
JPS59213603A (en) Manufacture of thin film of composite material
JPH0987039A (en) Production of powdery ceramic material
JPS59209212A (en) Transparent ferrodielectric thin film and method of producing same
Apblett et al. Liquid metal carboxylates as precursors for aluminum-containing ceramics
JPH0383816A (en) Production of solution for producing compound oxide thin film
JP2005247660A (en) Composition for forming dielectric film, method for manufacturing composition for forming dielectric film, dielectric film and capacitor including dielectric film