JPS6197159A - Solution for manufacturing piezoelectric thin film and manufacture of film - Google Patents

Solution for manufacturing piezoelectric thin film and manufacture of film

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JPS6197159A
JPS6197159A JP59217780A JP21778084A JPS6197159A JP S6197159 A JPS6197159 A JP S6197159A JP 59217780 A JP59217780 A JP 59217780A JP 21778084 A JP21778084 A JP 21778084A JP S6197159 A JPS6197159 A JP S6197159A
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thin film
solution
organometallic compound
piezoelectric thin
metals selected
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勉 七尾
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は圧電体薄膜製造用溶液及び圧電体薄膜の製造方
法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a solution for producing a piezoelectric thin film and a method for producing a piezoelectric thin film.

「従来の技術」 「発明が解決しようとする問題点」圧
電体材料、特にエレクトロセラミックスとし、て着目さ
れている鉛およびチタンの酸化物を生成分とする焼結体
は、既に着火素子、スピーカー、超音波振動子、フィル
ターとして各種の電器製品に現在多用されている。これ
らの圧電体材料は、更に高周波への用途あるいは新規な
機能を狙って、形状の小型化あるいは薄膜化への検討が
進められており、特に薄膜圧電体材料は表面波フィルタ
ーや光学異方性を利用した電気分光素子などへの応用が
期待される素材である。
``Prior art'' ``Problems to be solved by the invention'' Sintered bodies containing lead and titanium oxides, which are attracting attention as piezoelectric materials, especially electroceramics, have already been used as ignition elements and speakers. Currently, they are widely used in various electrical appliances as ultrasonic transducers and filters. For these piezoelectric materials, efforts are being made to make them smaller in size or thinner, aiming for higher frequency applications or new functions.In particular, thin film piezoelectric materials are being used for surface wave filters and optical anisotropy. It is a material that is expected to be applied to electrical spectroscopic devices that utilize .

しかし乍ら、この圧電体薄膜材料は従来の焼結技術を用
いた方法では、成型体をスライス、研磨加工しなければ
ならず、従って加工工程が煩雑となり高価となること、
更に大型化が困難で膜厚に限度があり、また−大粒子が
大きいため強度が保持できない、別の基体上への成績が
困難であるなどの難点がある。
However, when using this piezoelectric thin film material using conventional sintering technology, the molded body must be sliced and polished, which makes the processing process complicated and expensive.
Furthermore, it is difficult to increase the size, there is a limit to the film thickness, and since the large particles are large, it is difficult to maintain strength, and it is difficult to apply them to other substrates.

これに対して、蒸着、スパッタリング、イオンブレーテ
ィング等の真空技術を用いた方法では、任意の膜厚およ
び基板上への緻密な成績が可能であり、エレクトロニク
ス関連材料形成の重要な技術として注目され、圧電体薄
膜もこの方法による検討が盛んに進められている。しか
し、この真空技術による圧電体薄膜は、特にHt以上の
金属組成の場合、目的とする量論比の組成のaWN9を
安定して作るのはかなり困難であり、このためバルクの
素材と全く違う物性となることが良く知られている。ま
た複雑な形状あるいは大面積への成績が困難であること
、設備費用及びバッチ方式となるため生産性が悪いこと
などコスト高となることも知られており、これらの方法
以外の新規な圧電体薄膜の製法が期待されている。
On the other hand, methods using vacuum techniques such as evaporation, sputtering, and ion blating allow for arbitrary film thickness and precise formation on substrates, and are attracting attention as important technologies for forming electronics-related materials. , piezoelectric thin films are also being actively investigated using this method. However, piezoelectric thin films made using this vacuum technology are quite difficult to stably produce aWN9 with the desired stoichiometric composition, especially in the case of metal compositions higher than Ht, and for this reason they are completely different from bulk materials. It is well known that this is a physical property. It is also known that it is difficult to produce results for complex shapes or large areas, and that it is expensive due to equipment costs and poor productivity due to the batch method. A method for producing thin films is expected.

「問題点を解決するための手段」 本発明はかかる実情に鑑み、前述の薄膜形成方法の難点
を解決しうる新規な圧電体厚1臭製造用溶液及びその製
法を提供するものである。
"Means for Solving the Problems" In view of the above circumstances, the present invention provides a novel solution for manufacturing a piezoelectric body with a thickness of 1 odor and a method for manufacturing the same, which can solve the problems of the above-mentioned thin film forming method.

即ち、本発明の第1は、鉛、ランタンから選ばれるLl
ffi以上の金属及びチタン、ジルコニウムから選ばれ
る1種以上の金属を含む有機金属化合物溶液であって、
その有機金属化合物の官能基がアルコキシ基及びβ−ジ
ケトン基からなることを特徴とする圧電体厚Jli製造
用溶液、 本発明の第2は、リチウムとタンタル、ニオブ、バ九ジ
ウムから選ばれるl lft以上の金属とを含むを機金
属化合物溶液であって、その有機金属化合物の官能基が
アルコキシ基及びβ−ジケトン基からなることを特徴と
する圧電体薄膜製造用溶液、本発明の第3は、鉛、ラン
タンから選ばれる1種以上の金属及びチタン、ジルコニ
ウムから選ばれる1種以上の金属を含む有機金属化合物
溶液であって、その有機金属化合物の官能基がアルコキ
シ基及びβ−ジケトン基からなる圧電体i1j!製造用
溶液中に、 金属、ガラスまたはセラミックス基板を浸
し湿気を含む大気中に一定の速度で引き出した後乾燥し
、さらに400℃以上1200℃以下の温度で熱処理を
することを特徴とする圧電体薄膜の製造方法、 本発明の第4はリチウムとタンタル、ニオブ、バナジウ
ムから選ばれる1種以上の金属とを含む有機金属化合物
溶液であって、その有機金属化合物の官能基がアルコキ
シ基及びβ−ジケトン基からなる圧電体′RIIj!製
造用f6液中に、金属、ガラスまたはセラミックス基板
を浸し湿気を含む大気中に一定の速度で引き出した後乾
燥し、さらに400℃以上1200℃以下の温度で熱処
理をすることを特徴とする圧電体薄膜の製造方法をそれ
ぞれ内容とするものである。
That is, the first aspect of the present invention is Ll selected from lead and lanthanum.
An organometallic compound solution containing a metal with ffi or higher and one or more metals selected from titanium and zirconium,
The second aspect of the present invention is a piezoelectric material thickness Jli manufacturing solution characterized in that the functional group of the organometallic compound consists of an alkoxy group and a β-diketone group. A solution for producing a piezoelectric thin film, characterized in that the functional group of the organometallic compound consists of an alkoxy group and a β-diketone group, the third aspect of the present invention is an organometallic compound solution containing one or more metals selected from lead and lanthanum and one or more metals selected from titanium and zirconium, the organometallic compound having functional groups such as an alkoxy group and a β-diketone group. A piezoelectric body i1j! A piezoelectric body characterized by immersing a metal, glass, or ceramic substrate in a manufacturing solution, pulling it out at a constant speed into a humid atmosphere, drying it, and then heat-treating it at a temperature of 400°C or higher and 1200°C or lower. A method for producing a thin film, the fourth aspect of the present invention is an organometallic compound solution containing lithium and one or more metals selected from tantalum, niobium, and vanadium, the organometallic compound having functional groups such as an alkoxy group and a β- A piezoelectric material composed of diketone groups 'RIIj! A piezoelectric device characterized in that a metal, glass, or ceramic substrate is immersed in F6 manufacturing liquid, pulled out at a constant speed into a humid atmosphere, dried, and then heat-treated at a temperature of 400°C or higher and 1200°C or lower. Each content is a method for manufacturing body thin films.

本発明に用いられる有機金属化合物は加水分解あるいは
熱分解によって容易に熱分解する金属アルコキシドを主
成分として用いることが重要であるが、金泥アルコキシ
ド系のみの組成だと湿気に敏感で分解しやすく不安定で
長期安定性に乏しいため、一部の官能基をアルコキシ基
からβ−ジケトン基に置換した組成、或いは金属β−ジ
ケトン錯体を併用することが必要である。
It is important that the main component of the organometallic compound used in the present invention is a metal alkoxide that easily decomposes through hydrolysis or thermal decomposition, but if it is composed only of gold mud alkoxide, it is sensitive to moisture and easily decomposes. Since it is stable and has poor long-term stability, it is necessary to have a composition in which some functional groups are replaced with β-diketone groups from alkoxy groups, or to use a metal β-diketone complex in combination.

また、それぞれの金属アルコキシド、或いはそれに金属
β−ジケトン錯体を単に溶媒中に混合しただけでは、熱
分解時に目的とする複合金属酸化物の他に個々の金N酸
化物が不純物として副生ずる場合が多く、この場合には
予め混合溶液を十分な時間の還流処理を施すことによっ
て、単−相の複合酸化物が熱分解によって得られるfs
液とすることができる、更に安定化に用いられるβ−ジ
ケトンの添加で不溶の沈澱を生じた場合、熔解性の低い
β−ジケトン錯体を用いた場合は、β−ジケトンのモル
数以下のアルデヒドを加えて還流処理をすることによっ
て安定な溶液とすることができる。
Furthermore, if each metal alkoxide or metal β-diketone complex is simply mixed in a solvent, individual gold-N oxides may be produced as impurities during thermal decomposition in addition to the desired composite metal oxide. In many cases, by subjecting the mixed solution to reflux treatment for a sufficient period of time, a single-phase composite oxide can be obtained by thermal decomposition.
If a β-diketone used for stabilization causes an insoluble precipitate, or if a β-diketone complex with low solubility is used, an aldehyde of less than the number of moles of β-diketone may be added. A stable solution can be obtained by adding and refluxing.

これらの理由によって本発明の透明性圧電体薄検化溶液
は、次の3通りの製法が挙げられる。
For these reasons, the transparent piezoelectric material thinning solution of the present invention can be produced using the following three methods.

゛r、所望の組成比になる様に金属アルコキシドを溶媒
中に混合し、β−ジケトンを添加して安定化させる。好
ましくは溶媒中に金属アルコキシドを混合し、十分な加
熱還流を施した後、β−ジケトンを加えて安定化させる
A metal alkoxide is mixed in a solvent to obtain a desired composition ratio, and β-diketone is added to stabilize the mixture. Preferably, the metal alkoxide is mixed in a solvent, heated to reflux sufficiently, and then β-diketone is added to stabilize the mixture.

■、所望の組成比になる様に金属アルコキシドと金属β
−ジケトン錯体と溶媒中に混合し、好ましくは加熱還流
を施す。
■, Metal alkoxide and metal β to achieve the desired composition ratio.
- The diketone complex is mixed in a solvent and preferably heated to reflux.

1[[、Iの方法において沈澱あるいは■の方法におい
て金属β−ジケトン錯体の溶解性が小さい場合において
は、β−ジケトンのモル数以下のアルデヒドを加えて、
加熱還流を施して均一な安定溶液とする。
1 [[, If the solubility of the metal β-diketone complex is low in the precipitation in method I or in the method
Heat to reflux to make a homogeneous and stable solution.

本発明に用いられる有機金属化合物は、圧電体化合物に
必要な金属である鉛、ランタン、チタン、ジルコニウム
、リチウム、クンタル、ニオブ、バナジウムから選ばれ
る金属アルコキシド及び金属β−ジケトン錯体が用いら
れ、金属アルコキシドとしてはこれらの金属と炭素数2
0以下の単価及び多価アルコール、好ましくは炭素数5
以下のアルコールとの反応物、金属β−ジケトン錯体と
してはこれらの金属とアセチルアセトン、ベンゾイルア
セトン、ジピバロイルメタン、ジイソブチリルメタン、
3−メチルペンタン−2ジオンの反応物、好ましくはア
セチルアセトン錯体が用いられる。
The organometallic compound used in the present invention is a metal alkoxide selected from lead, lanthanum, titanium, zirconium, lithium, quantal, niobium, and vanadium, which are metals necessary for piezoelectric compounds, and a metal β-diketone complex. As alkoxides, these metals have a carbon number of 2
0 or less monovalent and polyhydric alcohol, preferably carbon number 5
The following reaction products with alcohols and metal β-diketone complexes include acetylacetone, benzoylacetone, dipivaloylmethane, diisobutyrylmethane,
A reactant of 3-methylpentane-2 dione is used, preferably an acetylacetone complex.

金属アルコキシド及び金属β−ジケトン錯体の使用の区
別は金属アルコキシドの安定性及び製造の難易によって
適宜選ぶことが可能であるが、塗布時における基材上へ
の密着性から、加えたを板金属化合物の有機官能基の1
74以上がアルコキシ基であることが望ましい。
The use of metal alkoxides and metal β-diketone complexes can be selected depending on the stability of the metal alkoxide and the difficulty of production. 1 of the organic functional groups of
It is desirable that 74 or more are alkoxy groups.

また、溶液の安定化のために加えられるβ−ジケトンも
前述したβ−ジケトンが用いられ、特にアセチルアセト
ンが好ましく、同様に添加量はアルコキシ基が全有機官
能基の1/4以上になる様に加えるのが望ましい。
In addition, the β-diketones added to stabilize the solution are the aforementioned β-diketones, and acetylacetone is particularly preferred. Similarly, the amount added is such that the alkoxy group accounts for 1/4 or more of the total organic functional groups. It is desirable to add.

β−ジケトン錯体及びβ−ジケトンを添加したときの溶
媒中の熔解性向上に用いられるアルデヒドとしてはホル
ムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒドが好ましく、特にホルムアルデヒ
ド、バラホルムアルデヒドを用いることによって良好な
結果が得られる。
Formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, and benzaldehyde are preferable as aldehydes used to improve solubility in the solvent when β-diketone complexes and β-diketones are added. Particularly good results are obtained by using formaldehyde and paraformaldehyde. It will be done.

本発明に用いられる溶媒としては、例えばlfiまたは
多価アルコール、カルボン酸エステル、ケトン、ヘンゼ
ン等の芳香族溶媒、エーテル等の1種および2種以上の
混合溶媒が挙げられ、とりわけ低級アルコール、低級酢
酸エステル、テトラヒドロフラン等は汎用性があるが、
金属アルコキシドと金属β−ジケトン錯体の組合せに応
じて適宜選定すればよい。
Examples of the solvent used in the present invention include aromatic solvents such as lfi or polyhydric alcohols, carboxylic acid esters, ketones, and Hensen, and one type or a mixed solvent of two or more types of ethers. In particular, lower alcohols, lower Acetate ester, tetrahydrofuran, etc. are versatile, but
It may be selected as appropriate depending on the combination of metal alkoxide and metal β-diketone complex.

本発明の圧電体薄膜化f6液中に基板を浸し、湿気を含
む大気中に一定の速度で引き出すことにより、溶液中に
含まれるアルコキシ基が加水分解を起し、基板上に密着
した薄膜が得られ、この膜を溶媒の沸点以下の温度で乾
燥した後、酸化雰囲気中400℃以上1200℃以下の
温度に加熱することによって基板上に透明な所望する組
成の圧電体薄膜が得られる。
By immersing a substrate in the F6 piezoelectric film forming solution of the present invention and drawing it out into the humid atmosphere at a constant speed, the alkoxy groups contained in the solution are hydrolyzed and the thin film adhered to the substrate is formed. After drying this film at a temperature below the boiling point of the solvent, it is heated in an oxidizing atmosphere to a temperature of 400° C. or higher and 1200° C. or lower, thereby obtaining a transparent piezoelectric thin film having the desired composition on the substrate.

薄膜を形成する基板材料としては熱処理の温度に耐える
rI4熱性を有しておればよく、例えばガラス、セラミ
ックス、金属、更にはポリイミド等の耐熱ポリマーが挙
げられる。
The substrate material for forming the thin film only needs to have rI4 thermal properties that can withstand the temperature of heat treatment, and examples include glass, ceramics, metals, and even heat-resistant polymers such as polyimide.

圧電性を存する金属の組合せとしては、鉛、ランタンか
ら選ばれる金属とチタン、ジルコニウムから選ばれる金
属の組合せによって、例えばチタン酸鉛(PbTj03
) 、PZT  (PbZrxTil−x03) PL
ZT((Ph、−し” 1−x )  (zry T 
i i−y ) 03 )といった圧電性酸化物が得ら
れ、リチウムとタンタル、ニオブ、バナジウムから選ば
れる金属の組合せによって、例えばタンタル酸リチウム
(1−+Ta03) 、ニオブ酸リチウム(L+Nb0
3)−バナジン酸リチウム(LiVO3)が得られる。
As a combination of metals exhibiting piezoelectricity, for example, lead titanate (PbTj03
), PZT (PbZrxTil-x03) PL
ZT ((Ph, -shi" 1-x) (zry T
Piezoelectric oxides such as ii-y) 03) are obtained, and by combining lithium with a metal selected from tantalum, niobium, and vanadium, piezoelectric oxides such as lithium tantalate (1-+Ta03) and lithium niobate (L+Nb0) are obtained.
3)-Lithium vanadate (LiVO3) is obtained.

また、圧電特性などの改善に用いられる微量の元素、例
えば亜鉛、マンガン、アンチモン、ビスマス、鉄、ガリ
ウム、インジウム、クロム、コバルト、ニッケル、アル
ミニウム、マグネシウム、錫、カルシウム、バリウム、
ストロンチウム、セリウム、イツトリウム、タングステ
ン等の添加は金属アルコキシド或いは金属β−ジケトン
錯体の化合物の形であれば、当然のことであるが差支え
ない。
In addition, trace elements used to improve piezoelectric properties, such as zinc, manganese, antimony, bismuth, iron, gallium, indium, chromium, cobalt, nickel, aluminum, magnesium, tin, calcium, barium,
It goes without saying that strontium, cerium, yttrium, tungsten, etc. may be added as long as they are in the form of metal alkoxide or metal β-diketone complex compounds.

「発明の効果」 本発明によれば、 l)大面積および複雑な形状上への成膜が容易となる。"Effect of the invention" According to the invention, l) It becomes easy to form a film over a large area and a complicated shape.

2)表面の平滑な緻密な圧電体薄膜が得られる。2) A dense piezoelectric thin film with a smooth surface can be obtained.

3)焼結された成型体では困難な、極めて透明性に優れ
た圧電体薄膜が得られる。
3) A piezoelectric thin film with extremely excellent transparency, which is difficult to obtain with a sintered molded body, can be obtained.

4)目的とする金属組成を予め基体上にのせて熱分解す
るため、目的のf!に論比の薄膜が容易に得られ、また
組成比も自由に調節可能となる。
4) Since the desired metal composition is placed on the substrate in advance and thermally decomposed, the desired f! A thin film having a stoichiometric ratio can be easily obtained, and the composition ratio can be freely adjusted.

5)従来の焼結プロセスに比べて、低温の熱処理で目的
の圧電性の化合物薄膜が得られる。
5) Compared to conventional sintering processes, the desired piezoelectric compound thin film can be obtained with low-temperature heat treatment.

6)連続工程での生産が可能であり、真空技術によるバ
ッチ方式に比べて生産性がよく、成膜コストが安価とな
る。
6) Production can be performed in a continuous process, resulting in better productivity and lower film-forming costs than batch systems using vacuum technology.

等の従来の技術では得られない数多くの利点が得られる
This provides many advantages that cannot be obtained with conventional techniques such as.

以下、実alP11をもって、本発明を更に詳しく説明
するが、当然のことながら本発明は実施例のみに限定さ
れるものではない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail using the actual alP11, but it goes without saying that the present invention is not limited to the examples.

実施例1 pb : Zr :Tiが11.55:0.45になる
様にジイソプロポキシ鉛25.0g、ジルコニウムテト
ラブトキシド16.2g、チタンテトライソプロポキシ
ド9.8gを十分に脱水処理を施したエチルアルコール
150g中に熔かし、更にエチルアルコールの沸点で4
時間還流処理を施した後、アセチルアセトン5.0gを
加え、圧11151塗布液とした。この溶液は約3ケ月
間、密栓したガラス容器中に常温で放置したところ、何
の変化もな(安定であった。
Example 1 25.0 g of diisopropoxy lead, 16.2 g of zirconium tetrabutoxide, and 9.8 g of titanium tetraisopropoxide were sufficiently dehydrated so that the ratio of pb:Zr:Ti was 11.55:0.45. Melt it in 150g of ethyl alcohol, and further dissolve it at the boiling point of ethyl alcohol.
After refluxing for a period of time, 5.0 g of acetylacetone was added to obtain a pressure 11151 coating solution. When this solution was left in a tightly closed glass container at room temperature for about 3 months, no change occurred (it was stable).

この塗布液中に石英ガラスを浸し、15cm/分の速度
で大気中に引き上げた後、常温で30分間乾燥し、更に
マツフル炉中600℃1時間焼成したところ、やや灰色
がかった透明な薄膜が得られ、段差針により膜厚を測定
したところ約100OAであった。この方法により更に
2回塗布し護厚約3oooAとしても膜の透明性は殆ど
変化せず、X線マイクロアナライザーによる元素分析の
結果、Pb : Zr :Tiが1:0.591.41
となり、はぼ所望の組成が薄膜となっていることが確認
された。また、X線回折の結果、600℃焼成の薄膜は
PZTの結晶パターンを示し、450℃焼成の薄膜はア
モルファスであった。
A piece of quartz glass was immersed in this coating solution, lifted into the atmosphere at a rate of 15 cm/min, dried at room temperature for 30 minutes, and then fired in a Matsufuru furnace at 600°C for 1 hour, resulting in a slightly grayish transparent thin film. The resulting film thickness was measured using a step needle and found to be about 100 OA. Even after applying this method two more times and increasing the thickness to about 3oooA, the transparency of the film hardly changed, and as a result of elemental analysis using an X-ray microanalyzer, the ratio of Pb:Zr:Ti was 1:0.591.41.
It was confirmed that the desired composition was obtained as a thin film. Further, as a result of X-ray diffraction, the thin film fired at 600°C showed a PZT crystal pattern, and the thin film fired at 450°C was amorphous.

実施例2 Pb + La : Zr :Tiの元素比が0.92
 : O。
Example 2 Element ratio of Pb + La: Zr: Ti is 0.92
:O.

os:o、ss:o、3sになる様に鉛ジアセチルアセ
トナ−) 29.9 g 、ランタントリアセチルアセ
トナート2.8g、ジルコニウムテトラブトキシド20
.0g、チタンテトライソプロポキシド8.0gを無水
エチルアルコール150gに加え攪拌したところ、完全
に溶解せず不溶の自沈を生じていた。
os:o, ss:o, 3s (lead diacetylacetonate) 29.9 g, lanthanum triacetylacetonate 2.8g, zirconium tetrabutoxide 20
.. When 0 g of titanium tetraisopropoxide and 8.0 g of titanium tetraisopropoxide were added to 150 g of anhydrous ethyl alcohol and stirred, it was not completely dissolved and the insoluble scuttling occurred.

そこで、更に1.0gのパラホルムアルデヒドを加えた
うえ、エチルアルコールの沸点において4時間還流をし
たところ、黄色味がかった透明な溶液となり、この溶液
は3ケ月以上常温において安定であった。
Then, 1.0 g of paraformaldehyde was added and refluxed for 4 hours at the boiling point of ethyl alcohol, resulting in a yellowish transparent solution, which was stable at room temperature for more than 3 months.

この溶液を実施例1と同様な条件で石英ガラス上に塗布
加熱し、厚さ約3000Aの透明な薄膜を得た。エネル
ギー分散型走査電子顕微鏡を用いてSOtの元素組成を
測定したところPb : La :Zr:Ti−1:0
.1:0.7=0.4となり、はぼ溶液中での組成と一
致しており、更にX線回折による構造解析を行なったと
ころ単一のペロプスカイト構造となっていることから、
PLZTaN膜が得られたものと断定した。
This solution was applied and heated on quartz glass under the same conditions as in Example 1 to obtain a transparent thin film with a thickness of about 3000 Å. When the elemental composition of SOt was measured using an energy dispersive scanning electron microscope, it was found to be Pb:La:Zr:Ti-1:0
.. 1:0.7=0.4, which is consistent with the composition in the Habo solution, and further structural analysis by X-ray diffraction revealed a single perovskite structure.
It was concluded that a PLZTaN film was obtained.

実施例3 リチウムアセチルアセトナート10.6gとニオビウム
ベンタイツプロポキシド38.8 gを無水イソプロビ
ルアルコール100gに溶かし、イソプロピルアルコー
ルの沸点において2時間還流したところ無色透明の溶液
を得た。
Example 3 10.6 g of lithium acetylacetonate and 38.8 g of niobium bentite propoxide were dissolved in 100 g of anhydrous isopropyl alcohol and refluxed for 2 hours at the boiling point of isopropyl alcohol to obtain a colorless and transparent solution.

この溶液を実施例1と同様な方法で、石英基板上に塗布
したとみろ、500℃以下の焼成温度ではアモルファス
構造及び650℃以上の焼成温度では結晶性の透明なニ
オブ酸リチウム薄膜が得られた。
When this solution was applied on a quartz substrate in the same manner as in Example 1, an amorphous structure was obtained at a firing temperature of 500°C or lower, and a crystalline transparent lithium niobate thin film was obtained at a firing temperature of 650°C or higher. Ta.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、鉛、ランタンから選ばれる1種以上の金属及びチタ
ン、ジルコニウムから選ばれる1種以上の金属を含む有
機金属化合物溶液であつて、その有機金属化合物の官能
基がアルコキシ基及びβ−ジケトン基からなることを特
徴とする圧電体薄膜製造用溶液。 2、リチウムとタンタル、ニオブ、バナジウムから選ば
れる1種以上の金属とを含む有機金属化合物溶液であつ
て、その有機金属化合物の官能基がアルコキシ基及びβ
−ジケトン基からなることを特徴とする圧電体薄膜製造
用溶液。 3、鉛、ランタンから選ばれる1種以上の金属及びチタ
ン、ジルコニウムから選ばれる1種以上の金属を含む有
機金属化合物溶液であつて、その有機金属化合物の官能
基がアルコキシ基及びβ−ジケトン基からなる圧電体薄
膜製造用溶液中に、金属、ガラスまたはセラミックス基
板を浸し湿気を含む大気中に一定の速度で引き出した後
乾燥し、さらに400℃以上1200℃以下の温度で熱
処理をすることを特徴とする圧電体薄膜の製造方法。 4、リチウムとタンタル、ニオブ、バナジウムから選ば
れる1種以上の金属とを含む有機金属化合物溶液であつ
て、その有機金属化合物の官能基がアルコキシ基及びβ
−ジケトン基からなる圧電体薄膜製造用溶液中に、金属
、ガラスまたはセラミックス基板を浸し湿気を含む大気
中に一定の速度で引き出した後乾燥し、さらに400℃
以上1200℃以下の温度で熱処理をすることを特徴と
する圧電体薄膜の製造方法。
[Scope of Claims] 1. An organometallic compound solution containing one or more metals selected from lead and lanthanum and one or more metals selected from titanium and zirconium, wherein the organometallic compound has an alkoxy functional group. A solution for producing a piezoelectric thin film characterized by comprising a group and a β-diketone group. 2. An organometallic compound solution containing lithium and one or more metals selected from tantalum, niobium, and vanadium, the organometallic compound having functional groups such as alkoxy groups and β
- A solution for producing a piezoelectric thin film characterized by comprising a diketone group. 3. An organometallic compound solution containing one or more metals selected from lead and lanthanum and one or more metals selected from titanium and zirconium, the organometallic compound having functional groups such as an alkoxy group and a β-diketone group. A metal, glass or ceramic substrate is immersed in a piezoelectric thin film production solution consisting of a solution, pulled out at a constant speed into a humid atmosphere, dried, and then heat-treated at a temperature of 400°C or higher and 1200°C or lower. A method for producing a characteristic piezoelectric thin film. 4. An organometallic compound solution containing lithium and one or more metals selected from tantalum, niobium, and vanadium, the organometallic compound having functional groups such as alkoxy groups and β
- A metal, glass or ceramic substrate is immersed in a solution for producing a piezoelectric thin film consisting of a diketone group, pulled out at a constant speed into a humid atmosphere, and then dried at 400°C.
A method for producing a piezoelectric thin film, characterized in that heat treatment is performed at a temperature of 1200° C. or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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