JPH0414516B2 - - Google Patents

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JPH0414516B2
JPH0414516B2 JP21778084A JP21778084A JPH0414516B2 JP H0414516 B2 JPH0414516 B2 JP H0414516B2 JP 21778084 A JP21778084 A JP 21778084A JP 21778084 A JP21778084 A JP 21778084A JP H0414516 B2 JPH0414516 B2 JP H0414516B2
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JP
Japan
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organometallic compound
thin film
diketone
group
metals selected
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JP21778084A
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Japanese (ja)
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JPS6197159A (en
Inventor
Tsutomu Nanao
Tamyuki Eguchi
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は圧電体薄膜製造用溶液及び圧電体薄膜
の製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to a solution for producing a piezoelectric thin film and a method for producing a piezoelectric thin film.

「従来の技術」「発明が解決しようとする問題点」 圧電体材料、特にエレクトロセラミツクスとし
て着目されている鉛およびチタンの酸化物を主成
分とする焼結体は、既に着火素子、スピーカー、
超音波振動子、フイルターとして各種の電器製品
に現在多用されている。これらの圧電体材料は、
更に高周波への用途あるいは新規な機能を狙つ
て、形状の小型化あるいは薄膜化への検討が進め
られており、特に薄膜圧電体材料は表面波フイル
ターや光学異方性を利用した電気分光素子などへ
の応用が期待される素材である。
``Prior art'' ``Problems to be solved by the invention'' Piezoelectric materials, especially sintered bodies mainly composed of lead and titanium oxides, which are attracting attention as electroceramics, have already been used as ignition elements, speakers, etc.
It is currently widely used in various electrical appliances as ultrasonic transducers and filters. These piezoelectric materials are
Furthermore, with the aim of high frequency applications or new functions, studies are underway to make the shape smaller or thinner.In particular, thin film piezoelectric materials are being used for surface wave filters and electrical spectroscopy elements that utilize optical anisotropy. It is a material that is expected to be applied to

しかし乍ら、この圧電体薄膜材料は従来の焼結
技術を用いた方法では、成型体をスライス、研磨
加工しなければならず、従つて加工工程が煩雑と
なり高価となること、更に大型化が困難で膜厚に
限度があり、また一次粒子が大きいため強度が保
持できない、別の基体上への成膜が困難であるな
どの難点がある。
However, when using this piezoelectric thin film material using conventional sintering technology, the molded body must be sliced and polished, which makes the processing process complicated and expensive, as well as increasing the size. It is difficult to form a film, and there is a limit to the film thickness, and the primary particles are large, so it cannot maintain strength, and it is difficult to form a film on another substrate.

これに対して、蒸着、スパツタリング、イオン
プレーテイング等の真空技術を用いた方法では、
任意の膜厚および基板上への緻密な成膜が可能で
あり、エレクトロニクス関連材料形成の重要な技
術として注目され、圧電体薄膜もこの方法による
検討が盛んに進められている。しかし、この真空
技術による圧電体薄膜は、特に2種以上の金属組
成の場合、目的とする量論比の組成の薄膜を安定
して作るのはかなり困難であり、このためバルク
の素材と全く違う物性となることが良く知られて
いる。また複雑な形状あるいは大面積への成膜が
困難であること、設備費用及びバツチ方式となる
ため生産性が悪いことなどコスト高となることも
知られており、これらの方法以外の新規な圧電体
薄膜の製法が期待されている。
In contrast, methods using vacuum technology such as vapor deposition, sputtering, and ion plating
It is possible to form a film of any thickness and densely on a substrate, and it has attracted attention as an important technology for forming electronics-related materials, and this method is also being actively investigated for the production of piezoelectric thin films. However, piezoelectric thin films made using this vacuum technology are quite difficult to stably produce with the desired stoichiometric composition, especially when the composition consists of two or more metals, and for this reason, they are completely different from the bulk material. It is well known that the physical properties are different. It is also known that it is difficult to form a film on a complex shape or large area, and that it is expensive due to equipment costs and poor productivity due to the batch method. A method for producing body thin films is expected.

「問題点を解決するための手段」 本発明はかかる実情に鑑み、前述の薄膜形成方
法の難点を解決しうる新規な圧電体薄膜製造用溶
液及びその製法を提供するものである。
"Means for Solving the Problems" In view of the above circumstances, the present invention provides a novel piezoelectric thin film manufacturing solution and its manufacturing method that can solve the difficulties of the above-mentioned thin film forming methods.

即ち、本発明の第1は、鉛、ランタンから選ば
れる1種以上の金属及びチタン、ジルコニウムか
ら選ばれる1種以上の金属を含む有機金属化合物
溶液であつて、その有機金属化合物の官能基がア
ルコキシ基及びβ−ジケトン基からなることを特
徴とする圧電体薄膜製造用溶液、 本発明の第2は、リチウムとタンタル、ニオ
ブ、バナジウムから選ばれる1種以上の金属とを
含む有機金属化合物溶液であつて、その有機金属
化合物の官能基がアルコキシ基及びβ−ジケトン
基からなることを特徴とする圧電体薄膜製造用溶
液、 本発明の第3は、鉛、ランタンから選ばれる1
種以上の金属及びチタン、ジルコニウムから選ば
れる1種以上の金属を含む有機金属化合物溶液で
あつて、その有機金属化合物の官能基がアルコキ
シ基及びβ−ジケトン基からなる圧電体薄膜製造
用溶液中に、金属、ガラスまたはセラミツクス基
板を浸し湿気を含む大気中に一定の速度で引き出
した後乾燥し、さらに400℃以上1200℃以下の温
度で熱処理をすることを特徴とする圧電体薄膜の
製造方法、 本発明の第4はリチウムとタンタル、ニオブ、
バナジウムから選ばれる1種以上の金属とを含む
有機金属化合物溶液であつて、その有機金属化合
物の官能基がアルコキシ基及びβ−ジケトン基か
らなる圧電体薄膜製造用溶液中に、金属、ガラス
またはセラミツクス基板を浸し湿気を含む大気中
に一定の速度で引き出した後乾燥し、さらに400
℃以上1200℃以下の温度で熱処理をすることを特
徴とする圧電体薄膜の製造方法をそれぞれ内容と
するものである。
That is, the first aspect of the present invention is an organometallic compound solution containing one or more metals selected from lead and lanthanum and one or more metals selected from titanium and zirconium, wherein the functional group of the organometallic compound is A solution for manufacturing a piezoelectric thin film characterized by comprising an alkoxy group and a β-diketone group.The second aspect of the present invention is an organometallic compound solution containing lithium and one or more metals selected from tantalum, niobium, and vanadium. A third aspect of the present invention is a solution for producing a piezoelectric thin film, characterized in that the functional group of the organometallic compound consists of an alkoxy group and a β-diketone group.
An organometallic compound solution containing one or more metals and one or more metals selected from titanium and zirconium, the organometallic compound having a functional group consisting of an alkoxy group and a β-diketone group. A method for producing a piezoelectric thin film, which comprises immersing a metal, glass, or ceramic substrate into a humid atmosphere, pulling it out at a constant speed, drying it, and further heat-treating it at a temperature of 400°C or more and 1200°C or less. The fourth aspect of the present invention is lithium, tantalum, niobium,
An organometallic compound solution containing one or more metals selected from vanadium, in which the functional groups of the organometallic compound are an alkoxy group and a β-diketone group. The ceramic substrate is immersed, pulled out at a constant speed into a humid atmosphere, dried, and then heated for an additional 400
Each content is a method of manufacturing a piezoelectric thin film characterized by heat treatment at a temperature of 1200°C or higher.

本発明に用いられる有機金属化合物は加水分解
あるいは熱分解によつて容易に熱分解する金属ア
ルコキシドを主成分として用いることが重要であ
るが、金属アルコキシド系のみの組成だと湿気に
敏感で分解しやすく不安定で長期安定性に乏しい
ため、一部の官能基をアルコキシ基からβ−ジケ
トン基に置換した組成、或いは金属β−ジケトン
錯体を併用することが必要である。
It is important to use a metal alkoxide as the main component of the organometallic compound used in the present invention, which easily decomposes through hydrolysis or thermal decomposition, but if the composition consists only of a metal alkoxide, it is sensitive to moisture and decomposes. Since it is easily unstable and has poor long-term stability, it is necessary to use a composition in which some functional groups are replaced with β-diketone groups from alkoxy groups, or to use a metal β-diketone complex in combination.

また、それぞれの金属アルコキシド、或いはそ
れに金属β−ジケトン錯体を単に溶媒中に混合し
ただけでは、熱分解時に目的とする複合金属酸化
物の他の個々の金属酸化物が不純物として副生す
る場合が多く、この場合には予め混合溶液を十分
な時間の還流処理を施すことによつて、単一相の
複合酸化物が熱分解によつて得られる溶液とする
ことができる。更に安定化に用いられるβ−ジケ
トンの添加で不溶の沈澱を生じた場合、溶解性の
低いβ−ジケトン錯体を用いた場合は、β−ジケ
トンのモル数以下のアルデヒドを加えて還流処理
をすることによつて安定な溶液とすることができ
る。
In addition, if each metal alkoxide or metal β-diketone complex is simply mixed in a solvent, other individual metal oxides of the target composite metal oxide may be produced as impurities during thermal decomposition. In most cases, by previously subjecting the mixed solution to reflux treatment for a sufficient period of time, a single-phase composite oxide can be obtained by thermal decomposition. Furthermore, if the addition of β-diketone used for stabilization produces an insoluble precipitate, or if a β-diketone complex with low solubility is used, add an aldehyde in an amount equal to or less than the number of moles of β-diketone and perform reflux treatment. In particular, a stable solution can be obtained.

これらの理由によつて本発明の透明性圧電体薄
膜化溶液は、次の3通りの製法が挙げられる。
For these reasons, the transparent piezoelectric film forming solution of the present invention can be produced using the following three methods.

所望の組成比になる様に金属アルコキシドを
溶媒中に混合し、β−ジケトンを添加して安定
化させる。好ましくは溶媒中に金属アルコキシ
ドを混合し、十分な加熱還流を施した後、β−
ジケトンを加えて安定化させる。
A metal alkoxide is mixed in a solvent to obtain a desired composition ratio, and β-diketone is added to stabilize the mixture. Preferably, after mixing the metal alkoxide in a solvent and subjecting it to sufficient heating and reflux, β-
Add diketone to stabilize.

所望の組成比になる様に金属アルコキシドと
金属β−ジケトン錯体と溶媒中に混合し、好ま
しくは加熱還流を施す。
The metal alkoxide and metal β-diketone complex are mixed in a solvent so as to have a desired composition ratio, and preferably heated under reflux.

の方法において沈澱あるいはの方法にお
いて金属β−ジケトン錯体の溶解性が小さい場
合においては、β−ジケトンのモル数以下のア
ルデヒドを加えて、加熱還流を施して均一な安
定溶液とする。
When the solubility of the metal β-diketone complex is low in the precipitation method or the method described above, an aldehyde in an amount equal to or less than the number of moles of β-diketone is added and heated under reflux to obtain a uniform stable solution.

本発明に用いられる有機金属化合物は、圧電体
化合物に必要な金属である鉛、ランタン、チタ
ン、ジルコニウム、リチウム、タンタル、ニオ
ブ、バナジウムから選ばれる金属アルコキシド及
び金属β−ジケトン錯体が用いられ、金属アルコ
キシドとしてはこれらの金属と炭素数20以下の単
価及び多価アルコール、好ましくは炭素数5以下
のアルコールとの反応物、金属β−ジケトン錯体
としてはこれらの金属とアセチルアセトン、ベン
ゾイルアセトン、ジピバロイルメタン、ジイソブ
チリルメタン、3−メチルペンタン−2ジオンの
反応物、好ましくはアセチルアセトン錯体が用い
られる。
The organometallic compound used in the present invention is a metal alkoxide selected from lead, lanthanum, titanium, zirconium, lithium, tantalum, niobium, and vanadium, which are metals necessary for piezoelectric compounds, and a metal β-diketone complex. Alkoxides include reaction products of these metals with monohydric and polyhydric alcohols having 20 or less carbon atoms, preferably alcohols with 5 or less carbon atoms, and metal β-diketone complexes include reactants of these metals with acetylacetone, benzoylacetone, and dipivalo. A reactant of ylmethane, diisobutyrylmethane, 3-methylpentane-2dione, preferably an acetylacetone complex, is used.

金属アルコキシド及び金属β−ジケトン錯体の
使用の区別は金属アルコキシドの安定性及び製造
の難易によつて適宜選ぶことが可能であるが、塗
布時における基材上への密着性から、加えた有機
金属化合物の有機官能基の1/4以上がアルコキシ
基であることが望ましい。
The use of metal alkoxides and metal β-diketone complexes can be appropriately selected depending on the stability of the metal alkoxide and the difficulty of production, but depending on the adhesion to the substrate during application, the added organometallic It is desirable that 1/4 or more of the organic functional groups of the compound be alkoxy groups.

また、溶液の安定化のために加えられるβ−ジ
ケトンも前述したβ−ジケトンが用いられ、特に
アセチルアセトンが好ましく、同様に添加量はア
ルコキシ基が全有機官能基の1/4以上になる様に
加えるのが望ましい。
Furthermore, the β-diketones added to stabilize the solution are the aforementioned β-diketones, and acetylacetone is particularly preferred, and the amount added is adjusted so that the alkoxy groups account for 1/4 or more of the total organic functional groups. It is desirable to add.

β−ジケトン錯体及びβ−ジケトンを添加した
ときの溶媒中の溶解性向上に用いられるアルデヒ
ドとしてはホルムアルデヒド、パラホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒドが好
ましく、特にホルムアルデヒド、パラホルムアル
デヒドを用いることによつて良好な結果が得られ
る。
Formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, and benzaldehyde are preferable as the aldehyde used to improve solubility in the solvent when β-diketone complex and β-diketone are added. Particularly good results are obtained by using formaldehyde and paraformaldehyde. is obtained.

本発明に用いられる溶媒としては、例えば1価
または多価アルコール、カルボン酸エステル、ケ
トン、ベンゼン等の芳香族溶媒、エーテル等の1
種および2種以上の混合溶媒が挙げられ、とりわ
け低級アルコール、低級酢酸エステル、テトラヒ
ドロフラン等は汎用性があるが、金属アルコキシ
ドと金属β−ジケトン錯体の組合せに応じて適宜
選定すればよい。
Examples of the solvent used in the present invention include monohydric or polyhydric alcohols, carboxylic acid esters, ketones, aromatic solvents such as benzene, and monohydric alcohols such as ethers.
and mixed solvents of two or more types, and lower alcohols, lower acetic esters, tetrahydrofuran, etc. are particularly versatile, but may be appropriately selected depending on the combination of metal alkoxide and metal β-diketone complex.

本発明の圧電体薄膜化溶液中に基板を浸し、湿
気を含む大気中に一定の速度で引き出すことによ
り、溶液中に含まれるアルコキシ基が加水分解を
起し、基板上に密着した薄膜が得られ、この膜を
溶媒の沸点以下の温度で乾燥した後、酸化雰囲気
中400℃以上1200℃以下の温度に加熱することに
よつて基板上に透明な所望する組成の圧電体薄膜
が得られる。
By immersing a substrate in the piezoelectric film forming solution of the present invention and drawing it out into the humid atmosphere at a constant speed, the alkoxy groups contained in the solution are hydrolyzed, resulting in a thin film that adheres tightly to the substrate. After drying this film at a temperature below the boiling point of the solvent, it is heated in an oxidizing atmosphere to a temperature of 400° C. or more and 1200° C. or less, thereby obtaining a transparent piezoelectric thin film of the desired composition on the substrate.

薄膜を形成する基板材料としては熱処理の温度
に耐える耐熱性を有しておればよく、例えばガラ
ス、セラミツクス、金属、更にはポリイミド等の
耐熱ポリマーが挙げられる。
The substrate material for forming the thin film only needs to have heat resistance to withstand the temperature of the heat treatment, and examples include glass, ceramics, metals, and heat-resistant polymers such as polyimide.

圧電性を有する金属の組合せとしては、鉛、ラ
ンタンから選ばれる金属とチタン、ジルコニウム
から選ばれる金属の組合せによつて、例えばチタ
ン酸鉛(PbTiO3)、PZT(PbZrxTi1-xO3)PLZT
〔(Pbx・La1-x)(Zry・Ti1-y)O3〕といつた圧電
性酸化物が得られ、リチウムとタンタル、ニオ
ブ、バナジウムから選ばれる金属の組合せによつ
て、例えばタンタル酸リチウム(LiTaO3)、ニ
オブ酸リチウム(LiNbO3)、バナジン酸リチウ
ム(LiVO3)が得られる。
Combinations of piezoelectric metals include lead titanate (PbTiO 3 ), PZT (PbZr x Ti 1-x O 3 ), and combinations of metals selected from lead and lanthanum and titanium and zirconium. ) PLZT
A piezoelectric oxide such as [(Pb x・La 1-x ) (Zr y・Ti 1-y )O 3 ] is obtained, and by the combination of lithium and a metal selected from tantalum, niobium, and vanadium, For example, lithium tantalate (LiTaO 3 ), lithium niobate (LiNbO 3 ), and lithium vanadate (LiVO 3 ) can be obtained.

また、圧電特性などの改善に用いられる微量の
元素、例えば亜鉛、マンガン、アンチモン、ビス
マス、鉄、ガリウム、インジウム、クロム、コバ
ルト、ニツケル、アルミニウム、マグネシウム、
錫、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、セ
リウム、イツトリウム、タングステン等の添加は
金属アルコキシド或いは金属β−ジケトン錯体の
化合物の形であれば、当然のことであるが差支え
ない。
In addition, trace elements used to improve piezoelectric properties, such as zinc, manganese, antimony, bismuth, iron, gallium, indium, chromium, cobalt, nickel, aluminum, magnesium,
It goes without saying that tin, calcium, barium, strontium, cerium, yttrium, tungsten, etc. may be added as long as they are in the form of metal alkoxide or metal β-diketone complex compounds.

「発明の効果」 本発明によれば、 1 大面積および複雑な形状上への成膜が容易と
なる。
"Effects of the Invention" According to the present invention, 1. It becomes easy to form a film over a large area and a complicated shape.

2 表面の平滑な緻密な圧電体薄膜が得られる。2. A dense piezoelectric thin film with a smooth surface can be obtained.

3 焼結された成型体では困難な、極めて透明性
に優れた圧電体薄膜が得られる。
3. A piezoelectric thin film with extremely excellent transparency, which is difficult to obtain with a sintered molded body, can be obtained.

4 目的とする金属組成を予め基体上にのせて熱
分解するため、目的の量論化の薄膜が容易に得
られ、また組成比も自由に調節可能となる。
4. Since the desired metal composition is placed on the substrate in advance and thermally decomposed, a thin film with the desired stoichiometry can be easily obtained, and the composition ratio can also be freely adjusted.

5 従来の焼結プロセスに比べて、低温の熱処理
で目的の圧電性の化合物薄膜が得られる。
5. Compared to conventional sintering processes, the desired piezoelectric compound thin film can be obtained with low-temperature heat treatment.

6 連続工程での生産が可能であり、真空技術に
よるバツチ方式に比べて生産性がよく、成膜コ
ストが安価となる。
6. Production can be performed in a continuous process, resulting in better productivity and lower film-forming costs than the batch method using vacuum technology.

等の従来の技術では得られない数多くの利点が得
られる。
This provides many advantages that cannot be obtained with conventional techniques such as.

以下、実施例をもつて、本発明を更に詳しく設
明するが、当然のことながら本発明は実施例のみ
に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but it goes without saying that the present invention is not limited only to the Examples.

実施例 1 Pb:Zr:Tiが1:0.55:045になる様にジイソ
プロポキシ鉛25.0g、ジルコニウムテトラブトキ
シド16.2g、チタンテトライソプロポキシド9.8
gを十分に脱水処理を施したエチルアルコール
150g中に溶かし、更にエチルアルコールの沸点
で4時間還流処理を施した後、アセチルアセトン
5.0gを加え、圧電膜塗布液とした。この溶液は
約3ケ月間、密栓したガラス容器中に常温で放置
したところ、何の変化もなく安定であつた。
Example 1 25.0 g of diisopropoxy lead, 16.2 g of zirconium tetrabutoxide, and 9.8 g of titanium tetraisopropoxide so that Pb:Zr:Ti was 1:0.55:045.
Ethyl alcohol that has been thoroughly dehydrated
After dissolving in 150 g of ethyl alcohol and refluxing for 4 hours at the boiling point of ethyl alcohol, acetylacetone
5.0 g was added to prepare a piezoelectric film coating solution. When this solution was left in a tightly closed glass container at room temperature for about 3 months, it remained stable without any change.

この塗布液中に石英ガラスを浸し、15cm/分の
速度で大気中に引き上げた後、常温で30分間乾燥
し、更にマツフル炉中600℃1時間焼成したとこ
ろ、やや灰色がかつた透明な薄膜が得られ、段差
計により膜厚を測定したところ約1000Åであつ
た。この方法により更に2回塗布し膜厚約3000Å
としても膜の透明性は殆ど変化せず、X線マイク
ロアナライザーによる元素分析の結果、Pb:
Zr:Tiが1:0.59:0.41となり、ほぼ所望の組成
が薄膜となつていることが確認された。また、X
線回折の結果、600℃焼成の薄膜はPZTの結晶パ
ターンを示し、450℃焼成の薄膜はアモルフアス
であつた。
A piece of quartz glass was immersed in this coating solution, lifted into the atmosphere at a speed of 15 cm/min, dried at room temperature for 30 minutes, and then fired in a Matsufuru furnace at 600°C for 1 hour. As a result, a transparent thin film with a slightly gray color was formed. was obtained, and the film thickness was measured using a step meter and was approximately 1000 Å. Apply this method two more times to obtain a film thickness of approximately 3000Å.
However, the transparency of the film hardly changed, and as a result of elemental analysis using an X-ray microanalyzer, Pb:
It was confirmed that Zr:Ti was 1:0.59:0.41, and a thin film with almost the desired composition was formed. Also, X
As a result of line diffraction, the thin film fired at 600°C showed a PZT crystal pattern, and the thin film fired at 450°C was amorphous.

実施例 2 Pb:La:Zr:Tiの元素比が0.92:0.08:0.65:
0.35になる様に鉛ジアセチルアセトナート29.9
g、ランタントリアセチルアセトナート2.8g、
ジルコニウムテトラブトキシド20.0g、チタンテ
トライソプロポキシド8.0gを無水エチルアルコ
ール150gに加え撹拌したところ、完全に溶解せ
ず不溶の白沈を生じていた。そこで、更に1.0g
のパラホルムアルデヒドを加えたうえ、エチルア
ルコールの沸点において4時間還流をしたとこ
ろ、黄色味がかつた透明な溶液となり、この溶液
は3ケ月以上常温において安定であつた。
Example 2 Element ratio of Pb:La:Zr:Ti is 0.92:0.08:0.65:
Lead diacetylacetonate 29.9 to 0.35
g, lanthanum triacetylacetonate 2.8g,
When 20.0 g of zirconium tetrabutoxide and 8.0 g of titanium tetraisopropoxide were added to 150 g of absolute ethyl alcohol and stirred, they were not completely dissolved and an insoluble white precipitate was formed. Therefore, an additional 1.0g
When paraformaldehyde was added thereto and refluxed for 4 hours at the boiling point of ethyl alcohol, a clear yellowish solution was obtained, and this solution remained stable at room temperature for more than 3 months.

この溶液を実施例1と同様な条件で石英ガラス
上に塗布加熱し、厚さ約3000Åの透明な薄膜を得
た。エネルギー分散型走査電子顕微鏡を用いて薄
膜の元素組成を測定したところPb:La:Zr:Ti
=1:0.1:0.7:0.4となり、ほぼ溶液中での組成
と一致しており、更にX線回折による構造解析を
行なつたところ単一のペロブスカイト構造となつ
ていることから、PLZT薄膜が得られたものと断
定した。
This solution was applied and heated on quartz glass under the same conditions as in Example 1 to obtain a transparent thin film with a thickness of about 3000 Å. The elemental composition of the thin film was measured using an energy dispersive scanning electron microscope and found to be Pb:La:Zr:Ti
= 1:0.1:0.7:0.4, which is almost the same as the composition in solution, and further structural analysis by X-ray diffraction revealed a single perovskite structure, indicating that a PLZT thin film was obtained. It was determined that it had been done.

実施例 3 リチウムアセチルアセトナート10.6gとニオビ
ウムペンタイソプロポキシド38.8gを無水イソプ
ロピルアルコール100gに溶かし、イソプロピル
アルコールの沸点において2時間還流したところ
無色透明の溶液を得た。
Example 3 10.6 g of lithium acetylacetonate and 38.8 g of niobium pentaisopropoxide were dissolved in 100 g of anhydrous isopropyl alcohol and refluxed for 2 hours at the boiling point of isopropyl alcohol to obtain a colorless and transparent solution.

この溶液を実施例1と同様な方法で、石英基板
上に塗布したところ、500℃以下の焼成温度では
アモルフアス構造及び650℃以上の焼成温度では
結晶性の透明なニオブ酸リチウム薄膜が得られ
た。
When this solution was applied on a quartz substrate in the same manner as in Example 1, an amorphous structure was obtained at a firing temperature of 500°C or lower, and a crystalline transparent lithium niobate thin film was obtained at a firing temperature of 650°C or higher. .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 鉛、ランタンから選ばれる1種以上の金属及
びチタン、ジルコニウムから選ばれる1種以上の
金属を含む有機金属化合物溶液であつて、その有
機金属化合物の官能基がアルコキシ基及びβ−ジ
ケトン基からなることを特徴とする圧電体薄膜製
造用溶液。 2 リチウムとタンタル、ニオブ、バナジウムか
ら選ばれる1種以上の金属とを含む有機金属化合
物溶液であつて、その有機金属化合物の官能基が
アルコキシ基及びβ−ジケトン基からなることを
特徴とする圧電体薄膜製造用溶液。 3 鉛、ランタンから選ばれる1種以上の金属及
びチタン、ジルコニウムから選ばれる1種以上の
金属を含む有機金属化合物溶液であつて、その有
機金属化合物の官能基がアルコキシ基及びβ−ジ
ケトン基からなる圧電体薄膜製造用溶液中に、金
属、ガラスまたはセラミツクス基板を浸し湿気を
含む大気中に一定の速度で引き出した後乾燥し、
さらに400℃以上1200℃以下の温度で熱処理をす
ることを特徴とする圧電体薄膜の製造方法。 4 リチウムとタンタル、ニオブ、バナジウムか
ら選ばれる1種以上の金属とを含む有機金属化合
物溶液であつて、その有機金属化合物の官能基が
アルコキシ基及びβ−ジケトン基からなる圧電体
薄膜製造用溶液中に、金属、ガラスまたはセラミ
ツクス基板を浸し湿気を含む大気中に一定の速度
で引き出した後乾燥し、さらに400℃以上1200℃
以下の温度で熱処理をすることを特徴とする圧電
体薄膜の製造方法。
[Scope of Claims] 1. An organometallic compound solution containing one or more metals selected from lead and lanthanum and one or more metals selected from titanium and zirconium, wherein the organometallic compound has a functional group of an alkoxy group. and a β-diketone group. 2. A piezoelectric material, which is an organometallic compound solution containing lithium and one or more metals selected from tantalum, niobium, and vanadium, characterized in that the functional group of the organometallic compound consists of an alkoxy group and a β-diketone group. Solution for producing body thin films. 3. An organometallic compound solution containing one or more metals selected from lead and lanthanum and one or more metals selected from titanium and zirconium, where the functional group of the organometallic compound is an alkoxy group or a β-diketone group. A metal, glass, or ceramic substrate is immersed in a piezoelectric thin film manufacturing solution, pulled out at a constant speed into a humid atmosphere, and then dried.
A method for producing a piezoelectric thin film, further comprising performing heat treatment at a temperature of 400°C or higher and 1200°C or lower. 4. An organometallic compound solution containing lithium and one or more metals selected from tantalum, niobium, and vanadium, the solution for producing a piezoelectric thin film in which the functional groups of the organometallic compound are an alkoxy group and a β-diketone group. A metal, glass or ceramic substrate is immersed in the inside, pulled out at a constant speed into a humid atmosphere, dried, and then heated to a temperature of 400°C or higher to 1200°C.
A method for producing a piezoelectric thin film, characterized by carrying out heat treatment at a temperature below.
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