JPS59197529A - 焼結原料の層厚分布制御方法 - Google Patents
焼結原料の層厚分布制御方法Info
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- JPS59197529A JPS59197529A JP6955283A JP6955283A JPS59197529A JP S59197529 A JPS59197529 A JP S59197529A JP 6955283 A JP6955283 A JP 6955283A JP 6955283 A JP6955283 A JP 6955283A JP S59197529 A JPS59197529 A JP S59197529A
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- Japan
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- layer thickness
- thickness distribution
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本光明は、焼結例における焼結原料のパレットへの装入
の際に使用して便なる層厚分布制御方法に関する。
の際に使用して便なる層厚分布制御方法に関する。
焼結操業において、パＧレット上の焼結原料のパレット
幅方向の層厚分布を適正に制御することは、焼結操業の
安定化のために基本的に要求されることである。従来、
その方法として、パレット幅方向の層厚分布を測定し、
これが設定されたパレット幅方向の層厚分布と一致する
ように、幅方向に多数設けられた小容量の給鉱ドラムゲ
ートを制御するものが知られている。
幅方向の層厚分布を適正に制御することは、焼結操業の
安定化のために基本的に要求されることである。従来、
その方法として、パレット幅方向の層厚分布を測定し、
これが設定されたパレット幅方向の層厚分布と一致する
ように、幅方向に多数設けられた小容量の給鉱ドラムゲ
ートを制御するものが知られている。
しかしながら、このような従来の層厚分布制御方法にあ
っては、焼結原料の層厚分布の平均値が大幅に変化した
時、給鉱ドラムゲートでの制御範囲が狭いため、応答が
間に合わず、制御できなくなるという問題点があった。
っては、焼結原料の層厚分布の平均値が大幅に変化した
時、給鉱ドラムゲートでの制御範囲が狭いため、応答が
間に合わず、制御できなくなるという問題点があった。
この問題点に関しては、給鉱ドラムゲートでの制御範囲
を大きくするという対処が考えられるが、制御範囲の増
大は微小且つ正確な調整ができなくなるという別途の問
題点を生じる。
を大きくするという対処が考えられるが、制御範囲の増
大は微小且つ正確な調整ができなくなるという別途の問
題点を生じる。
本発明は、このような従来の問題点に着目して為された
ものであって、早い応答性とパレット幅方向の高精度な
制御性という相反する要求を合理的に両立させ、焼結操
業の高速性、高安定性を図ることができる焼結原料の層
厚分布制御方法を提供することをその目的としている。
ものであって、早い応答性とパレット幅方向の高精度な
制御性という相反する要求を合理的に両立させ、焼結操
業の高速性、高安定性を図ることができる焼結原料の層
厚分布制御方法を提供することをその目的としている。
本発明は、焼結原料の層厚分布制御方法において、パレ
ット上の焼結原料のパレット幅方向に於ける層厚分布を
測定する手順と、 測定した層厚分布を、平均値成分と該平均値からの偏差
成分とに分ける手順と、 分けて得られた夫々の成分を設定成分と比較する手順と
、 平均値成分の比較に応じてパレット幅方向で一括して作
動する給鉱ドラムフィーダの回転速度を制御すると共に
、―差成分の比較に応じてパレット幅方向で分割して作
動する小容量ゲートを開閉制御する手順と、 を含むものとして、上記目的を達成したものである。
ット上の焼結原料のパレット幅方向に於ける層厚分布を
測定する手順と、 測定した層厚分布を、平均値成分と該平均値からの偏差
成分とに分ける手順と、 分けて得られた夫々の成分を設定成分と比較する手順と
、 平均値成分の比較に応じてパレット幅方向で一括して作
動する給鉱ドラムフィーダの回転速度を制御すると共に
、―差成分の比較に応じてパレット幅方向で分割して作
動する小容量ゲートを開閉制御する手順と、 を含むものとして、上記目的を達成したものである。
以下、図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明に係る方法の実施例に採用された、連
続焼結機の層厚分布制御装置の一例を示している。この
制御装置は、パレット５３上の焼結原料５５のパレット
幅方向における目標層厚分布を設定するための層厚分布
設定器１０ａ〜１０ｃと、同じく層厚分布を測定するた
めの層厚分布測定器２０ａ〜２０ｃと、前記層厚分布設
定器１０ａ〜１０Ｃで設定された目標層厚分布のパレッ
ト幅方向における平均値成分を演算するための設定側平
均値演算器１２と、同じく測定側の平均値成分を演算す
るための測定側平均値演算器２２と、前記層厚分布設定
器’ｌＱａ〜１０ｃで設定された目標層厚分布の、前記
設定側平均値演算器１２で演算された平均値からの偏差
成分を演算するための設定側偏差演算器１４８〜１４ｃ
と、同じく測定側の偏差成分を演算する測定側偏差演算
器２４ａ〜２４ｃと、前記設定側平均値演算器１２及び
測定側平均値演算器２２で夫々求められた平均値成分を
比較の下調節する平均値調節器３２と、同じく前記設定
側偏差演算器１４ａ〜１４Ｃ及び測定側偏差演算器２４
ａ〜２４ｃで夫々求められた偏差成分を比較の下調節す
る偏差調節器３４ａ〜３４Ｃと、前記平均値調節器３２
からの制■［信号にてパレット幅方向で一括して作動す
る大容量ゲートたる給鉱ドラムフィーダ４２と、前記偏
差調節器３４ａ〜３４ａからの制御信号にてパレット幅
方向で分割して作動する小容量ゲートたる給鉱ドラムゲ
ート４４ａ〜４４０と、から主に構成される。
続焼結機の層厚分布制御装置の一例を示している。この
制御装置は、パレット５３上の焼結原料５５のパレット
幅方向における目標層厚分布を設定するための層厚分布
設定器１０ａ〜１０ｃと、同じく層厚分布を測定するた
めの層厚分布測定器２０ａ〜２０ｃと、前記層厚分布設
定器１０ａ〜１０Ｃで設定された目標層厚分布のパレッ
ト幅方向における平均値成分を演算するための設定側平
均値演算器１２と、同じく測定側の平均値成分を演算す
るための測定側平均値演算器２２と、前記層厚分布設定
器’ｌＱａ〜１０ｃで設定された目標層厚分布の、前記
設定側平均値演算器１２で演算された平均値からの偏差
成分を演算するための設定側偏差演算器１４８〜１４ｃ
と、同じく測定側の偏差成分を演算する測定側偏差演算
器２４ａ〜２４ｃと、前記設定側平均値演算器１２及び
測定側平均値演算器２２で夫々求められた平均値成分を
比較の下調節する平均値調節器３２と、同じく前記設定
側偏差演算器１４ａ〜１４Ｃ及び測定側偏差演算器２４
ａ〜２４ｃで夫々求められた偏差成分を比較の下調節す
る偏差調節器３４ａ〜３４Ｃと、前記平均値調節器３２
からの制■［信号にてパレット幅方向で一括して作動す
る大容量ゲートたる給鉱ドラムフィーダ４２と、前記偏
差調節器３４ａ〜３４ａからの制御信号にてパレット幅
方向で分割して作動する小容量ゲートたる給鉱ドラムゲ
ート４４ａ〜４４０と、から主に構成される。
前記層厚分布測定器２０ａ〜２０ｃは、給鉱ドラムフィ
ーダ４２とカットオフプレート５１０間で、パレット５
３の幅方向（第１図紙面と垂直な方向）の、夫々前記給
鉱ドラムゲート４４ａ〜４４ｃと対応する位置に間隔を
置いて数個所設置されている。この層厚分布測定器２０
ａ〜２０ｃとしては、超音波レベル計等が適当であるが
、特に限定されない。尚、図に於いて、５５は焼結原料
、５７は点火炉、５９は給鉱ホッパである。
ーダ４２とカットオフプレート５１０間で、パレット５
３の幅方向（第１図紙面と垂直な方向）の、夫々前記給
鉱ドラムゲート４４ａ〜４４ｃと対応する位置に間隔を
置いて数個所設置されている。この層厚分布測定器２０
ａ〜２０ｃとしては、超音波レベル計等が適当であるが
、特に限定されない。尚、図に於いて、５５は焼結原料
、５７は点火炉、５９は給鉱ホッパである。
以下この制御装置を参照じつつ本発明を説明する。
先ず、設定側にあっては、層厚分布設定器１０ａ 〜１
０ｃに設定１ｉｓａ−８Ｃを設定し、設定側平均値演算
器１２でその設定平均値成分Ａｓを求める。又、この設
定値３ａ〜ＳＣと設定平均値成分ＡＳとを設定側偏差演
算器１４ａ〜１４Ｃに入力して設定偏差成分△Ｓａ〜△
Ｓｃを求める。
０ｃに設定１ｉｓａ−８Ｃを設定し、設定側平均値演算
器１２でその設定平均値成分Ａｓを求める。又、この設
定値３ａ〜ＳＣと設定平均値成分ＡＳとを設定側偏差演
算器１４ａ〜１４Ｃに入力して設定偏差成分△Ｓａ〜△
Ｓｃを求める。
そして設定平均値成分Ａｓを平均値調節器３２に入力し
、又、設定偏差成分△Ｓａ〜△ＳＣを偏差調節器３４ａ
〜３４Ｃに各々入力する。
、又、設定偏差成分△Ｓａ〜△ＳＣを偏差調節器３４ａ
〜３４Ｃに各々入力する。
−力測定側にあっては、層厚分布測定器２０ａ〜２０ｃ
で測定した測定値λａ〜Ｒａを測定側平均値演算器２２
に入力し測定平均値成分Ａｊ２を求める。又、この測定
値１ａ−λＣと測定平均値成分Ａ兎とを測定側偏差演算
器２４ａ〜２４ｃに入力して測定偏差成分△、Ｉ２ａ〜
△βＣを求める。そして測定偏差成分八！を平均値調節
器３２に入力し、又、測定偏差成分△ぶａ〜△ぶＣを偏
差調節器３４ａ〜３４ｃに各々入力する。
で測定した測定値λａ〜Ｒａを測定側平均値演算器２２
に入力し測定平均値成分Ａｊ２を求める。又、この測定
値１ａ−λＣと測定平均値成分Ａ兎とを測定側偏差演算
器２４ａ〜２４ｃに入力して測定偏差成分△、Ｉ２ａ〜
△βＣを求める。そして測定偏差成分八！を平均値調節
器３２に入力し、又、測定偏差成分△ぶａ〜△ぶＣを偏
差調節器３４ａ〜３４ｃに各々入力する。
平均値調節器３２は、設定、測定の各平均値成分Ａｓ１
Ａλを比較し、相応したゲイン出力にて、給鉱ドラムフ
ィーダ４２の回転速度を制御する。
Ａλを比較し、相応したゲイン出力にて、給鉱ドラムフ
ィーダ４２の回転速度を制御する。
この結果、パレット５３の全幅にわたる給鉱量のマクロ
的な制御が行なわれる。又、偏差調節器３４ａ〜３４Ｃ
は、設定、測定の各偏差成分△Ｓａ〜△ＳＣ及び△Ｊ２
ａ〜△βＣを比較し、相応したゲイン出力にて、小容量
ゲートたる給鉱ドラムゲート４４ａ〜４４０を夫々開閉
し、パレット５３の幅方向で意図した層厚分布となるよ
う給鉱量のミクロ的な制御をするものである。
的な制御が行なわれる。又、偏差調節器３４ａ〜３４Ｃ
は、設定、測定の各偏差成分△Ｓａ〜△ＳＣ及び△Ｊ２
ａ〜△βＣを比較し、相応したゲイン出力にて、小容量
ゲートたる給鉱ドラムゲート４４ａ〜４４０を夫々開閉
し、パレット５３の幅方向で意図した層厚分布となるよ
う給鉱量のミクロ的な制御をするものである。
ここで具体的な数値を用いて上記構成を説明する。今、
例えば層厚分布設定器１０ａ〜１０ＣをＳａ ＝１０．
’Ｓｂ ＝１２、Ｓｃ −８と設定したとする。この場
合設定側にあっては、設定側平均値演算器１２により設
定平均値成分ＡＳ＝１０か、又、設定側偏差演算器１４
ａ〜１４ｃによりこの設定平均値成分ＡＳ＝１０からの
設定偏差成分△５ａ＝Ｏ１△Ｓｂ−＋２、△３ｃ＝−２
が夫々演算される。一方、実測により層厚分布測定器２
０８〜２０Ｇに於いて、今、ｊ２ ａ、 ＝ ６、ｚｂ
＝５、Ｊ２Ｃ＝４が測定されたとする。この結果、測定
側にあっては測定側平均値演算器２２により測定平均値
成分Ａ、ｊ２＝５が、又、測定偏差演算器２４ａ〜２４
０によりこの測定平均値成分Ａｐ＝５からの測定偏差成
分△βａ＝＋１、Δｉ ＝Ｏ１△、ｌ２Ｃ＝−１が夫々
演算される。そしてこの測定平均値成分へλ＝５が設定
平均１＠成分ＡＳ＝１０と、又、測定偏差成分Δ、ｉｇ
ａ＝＋１、△λｂ＝ｏ、△λＣ＝−１が設定端差成分△
５ａ＝Ｏ１△Ｓｂ＝＋２、△３ｃ＝−２と、夫々比較さ
れ、平均値調節器３２から＋５、偏差調節器３４３〜３
４Ｃから−１、＋２、−１が夫々出力される。これによ
り給鉱ドラムフィーダ４２が＋５相当の回転速度を制御
し、給鉱ドラムゲート４４ａ〜４４Ｃが夫々−１、＋２
、−１相当の開閉動作をするものである。給鉱ドラムフ
ィーダ４２は、その性質上大容量ゲートとして＋５相当
の供給増大を、パレット幅方向の全幅にわたって一括的
に短時間に行なう機能を為し、一方給鉱ドラムゲート４
４ａ〜４４ｃは、小容量ゲートとして、夫々−１、＋２
、−１相当の供給補正をパレット幅方向で分割して正確
に行なう機能を為す。この結果、全体とじて供給口付近
に於いて＋４、＋７、＋４の供給制御が為されることと
なり、測定値ｆｌａ ＝６、兎ｂ＝５、Ｊ２ｃ ＝４が
設定値Ｓａ ＝１０．Ｓｂ ＝１２、Ｓｃ ＝８に近づ
くように短詩間で修正されるものである。
例えば層厚分布設定器１０ａ〜１０ＣをＳａ ＝１０．
’Ｓｂ ＝１２、Ｓｃ −８と設定したとする。この場
合設定側にあっては、設定側平均値演算器１２により設
定平均値成分ＡＳ＝１０か、又、設定側偏差演算器１４
ａ〜１４ｃによりこの設定平均値成分ＡＳ＝１０からの
設定偏差成分△５ａ＝Ｏ１△Ｓｂ−＋２、△３ｃ＝−２
が夫々演算される。一方、実測により層厚分布測定器２
０８〜２０Ｇに於いて、今、ｊ２ ａ、 ＝ ６、ｚｂ
＝５、Ｊ２Ｃ＝４が測定されたとする。この結果、測定
側にあっては測定側平均値演算器２２により測定平均値
成分Ａ、ｊ２＝５が、又、測定偏差演算器２４ａ〜２４
０によりこの測定平均値成分Ａｐ＝５からの測定偏差成
分△βａ＝＋１、Δｉ ＝Ｏ１△、ｌ２Ｃ＝−１が夫々
演算される。そしてこの測定平均値成分へλ＝５が設定
平均１＠成分ＡＳ＝１０と、又、測定偏差成分Δ、ｉｇ
ａ＝＋１、△λｂ＝ｏ、△λＣ＝−１が設定端差成分△
５ａ＝Ｏ１△Ｓｂ＝＋２、△３ｃ＝−２と、夫々比較さ
れ、平均値調節器３２から＋５、偏差調節器３４３〜３
４Ｃから−１、＋２、−１が夫々出力される。これによ
り給鉱ドラムフィーダ４２が＋５相当の回転速度を制御
し、給鉱ドラムゲート４４ａ〜４４Ｃが夫々−１、＋２
、−１相当の開閉動作をするものである。給鉱ドラムフ
ィーダ４２は、その性質上大容量ゲートとして＋５相当
の供給増大を、パレット幅方向の全幅にわたって一括的
に短時間に行なう機能を為し、一方給鉱ドラムゲート４
４ａ〜４４ｃは、小容量ゲートとして、夫々−１、＋２
、−１相当の供給補正をパレット幅方向で分割して正確
に行なう機能を為す。この結果、全体とじて供給口付近
に於いて＋４、＋７、＋４の供給制御が為されることと
なり、測定値ｆｌａ ＝６、兎ｂ＝５、Ｊ２ｃ ＝４が
設定値Ｓａ ＝１０．Ｓｂ ＝１２、Ｓｃ ＝８に近づ
くように短詩間で修正されるものである。
尚、本発明に係る制御方法において平均値調節器３２の
制御ゲインを偏差調節器３４ａ〜３４ｃのそれに対し１
１５〜１／８程度とし、また給鉱ドラムフィーダ［大容
量ゲートコ４２にお・ける制御範囲を給鉱ドラムゲート
［小容量ゲート］４４ａ〜４４０のそれの３〜６倍とし
て操業したところ、全制御範囲の５〜１００％の範囲に
亙って±５％の精度で制御することができるようになっ
た。
制御ゲインを偏差調節器３４ａ〜３４ｃのそれに対し１
１５〜１／８程度とし、また給鉱ドラムフィーダ［大容
量ゲートコ４２にお・ける制御範囲を給鉱ドラムゲート
［小容量ゲート］４４ａ〜４４０のそれの３〜６倍とし
て操業したところ、全制御範囲の５〜１００％の範囲に
亙って±５％の精度で制御することができるようになっ
た。
以上説明して来た如く、本発明によれば、層厚分布の測
定結果を平均値成分と偏差成分とに分離し、前者を給鉱
ドラムゲートの如きパレット全幅に於いて一括作０する
大容量ゲートで、後者を給鉱ドラムゲートの如きパレッ
ト幅方向で分割して作動する小容量ゲートで制御するよ
うにしたため、簡易な演算装置等の付加により、速い応
答性とパレット幅方向の高精度な制御性という相反する
要求を、両立させることができ、焼結操業の高速性と高
安定性が図れるという舖れた効果が得られる。
定結果を平均値成分と偏差成分とに分離し、前者を給鉱
ドラムゲートの如きパレット全幅に於いて一括作０する
大容量ゲートで、後者を給鉱ドラムゲートの如きパレッ
ト幅方向で分割して作動する小容量ゲートで制御するよ
うにしたため、簡易な演算装置等の付加により、速い応
答性とパレット幅方向の高精度な制御性という相反する
要求を、両立させることができ、焼結操業の高速性と高
安定性が図れるという舖れた効果が得られる。
第１図は、本発明に係る焼結原料の＠厚分布制御方法の
一実施例に採用された、連続焼結機の層厚分布制御装置
の一例を示す、一部に断面図を含むブロック線図である
。 １０ａ〜１０ｃ・・・層厚分布設定器、２０ａ〜２００
・・・層厚分布測定器、１２・・・設定側平均値演算器
、 ２２・・・測定側平均値演算器、 １４ａ〜１４ｃ・・・設定側偏差演算器、２４ａ〜２４
Ｃ・・・測定側偏差演算器、３２・・・平均値調節器、 ３４ａ〜３４ｃ・・・偏差調節器、 ４２・・・給鉱ドラムフィーダ（大容量ゲー１− ）、
４４ａ〜４４ｃ・・・給鉱ドラムゲート（小容量ゲート
）、 ５ａ−３ｃ・・・設定値、 λａ〜λＣ・・・測定値、 ＡＳ・・・設定平均値成分、 ＡＩ・・・測定平均値成分、 △３ａ〜ム３ｃ・・・設定偏差成分、 Δ！ａ〜△、Ｑ ｃ・・・測定蝙差成分、５５・・・焼
結原料、 ５３・・・パレット、 ５９・・・給鉱ホッパ。 代理人 高 矢 論 （ほか１名）
一実施例に採用された、連続焼結機の層厚分布制御装置
の一例を示す、一部に断面図を含むブロック線図である
。 １０ａ〜１０ｃ・・・層厚分布設定器、２０ａ〜２００
・・・層厚分布測定器、１２・・・設定側平均値演算器
、 ２２・・・測定側平均値演算器、 １４ａ〜１４ｃ・・・設定側偏差演算器、２４ａ〜２４
Ｃ・・・測定側偏差演算器、３２・・・平均値調節器、 ３４ａ〜３４ｃ・・・偏差調節器、 ４２・・・給鉱ドラムフィーダ（大容量ゲー１− ）、
４４ａ〜４４ｃ・・・給鉱ドラムゲート（小容量ゲート
）、 ５ａ−３ｃ・・・設定値、 λａ〜λＣ・・・測定値、 ＡＳ・・・設定平均値成分、 ＡＩ・・・測定平均値成分、 △３ａ〜ム３ｃ・・・設定偏差成分、 Δ！ａ〜△、Ｑ ｃ・・・測定蝙差成分、５５・・・焼
結原料、 ５３・・・パレット、 ５９・・・給鉱ホッパ。 代理人 高 矢 論 （ほか１名）
Claims (1)
- （１）パレット上の焼結原料のパレット幅方向に於ける
層厚分布を測定する手順と、 測定した層厚分布を、平均値成分と該平均値からの偏差
成分とに分ける手順と、 分けて得られた夫々の成分を設定成分と比較する手順と
、 平均値成分の比較に応じてパレット幅方向で一括して作
動する給鉱ドラムフィーダの回転速度を制御すると共に
、暗差成分の比較に応じてパレット幅方向で分割して作
動する小容量ゲートを開閉制御する手順と、 を含むことを特１歎とする焼結原料の層厚分布制御方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6955283A JPS59197529A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 焼結原料の層厚分布制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6955283A JPS59197529A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 焼結原料の層厚分布制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59197529A true JPS59197529A (ja) | 1984-11-09 |
Family
ID=13406003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6955283A Pending JPS59197529A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 焼結原料の層厚分布制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59197529A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102712964A (zh) * | 2010-01-29 | 2012-10-03 | 杰富意钢铁株式会社 | 烧结机的烧结原料层厚控制方法及装置 |
-
1983
- 1983-04-20 JP JP6955283A patent/JPS59197529A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102712964A (zh) * | 2010-01-29 | 2012-10-03 | 杰富意钢铁株式会社 | 烧结机的烧结原料层厚控制方法及装置 |
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