JPS59195589A - 施釉方法 - Google Patents
施釉方法Info
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- JPS59195589A JPS59195589A JP6832183A JP6832183A JPS59195589A JP S59195589 A JPS59195589 A JP S59195589A JP 6832183 A JP6832183 A JP 6832183A JP 6832183 A JP6832183 A JP 6832183A JP S59195589 A JPS59195589 A JP S59195589A
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- JP
- Japan
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- parts
- weight
- glaze
- emulsion
- oil
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、省エネルギー、省力を目的とした施釉方法に
関する。従来、陶磁器は素焼を釉薬のスラリー中に浸漬
し、乾燥後約1.000〜1.350 ”Cに、焼成し
、その後、スライド転写、銅版印刷、 手描き、熱転写
等で絵付を行ないそれぞれ顔料に応じた温度、通常80
0〜1.350℃で本焼成を行なっている。
関する。従来、陶磁器は素焼を釉薬のスラリー中に浸漬
し、乾燥後約1.000〜1.350 ”Cに、焼成し
、その後、スライド転写、銅版印刷、 手描き、熱転写
等で絵付を行ないそれぞれ顔料に応じた温度、通常80
0〜1.350℃で本焼成を行なっている。
また、琺瑯は、金属成形基材に防錆、密着性向上等を目
的として下釉掛けを行ない、通常750〜900℃で規
成し、その上に仕上げの為の上釉掛けを少なくとも1回
から数回に分けて行ない、更に750〜900℃で再焼
成し、その上にスライド転写等で絵付を行ない、750
〜900℃で本焼成を行なう方法が採用されている。
的として下釉掛けを行ない、通常750〜900℃で規
成し、その上に仕上げの為の上釉掛けを少なくとも1回
から数回に分けて行ない、更に750〜900℃で再焼
成し、その上にスライド転写等で絵付を行ない、750
〜900℃で本焼成を行なう方法が採用されている。
しかし乍ら、このような方法では、施釉後の焼成工程と
絵付後の本焼成工程を経る為、多量の熱エネルギーを必
要とし、従って施釉後の焼成、絵付の為の本焼成を1回
で行なうことによって、省エネルギー化を図る試みがな
されてきた。しかし乍ら施釉後、焼成を行なうことな(
絵付を行なう場合には、釉薬が十分に固定されていない
為、正常の絵付作業が非常に困難である。また未焼成釉
薬の流動を低減させる為に、ポリビニルアルコール、カ
ルボキシメチルセルロースの如き水溶性高分子の水溶液
を釉薬のスラリー中に混合する方法も試みられているが
、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース
等は溶解に時間を要し、水溶敷を予じめ調整しておく事
により腐敗等の現象を生じたり、釉薬の素地に対する固
定も十分でないこと、更に乾燥あるいは焼成時に被膜の
破れ等をおこし、平滑な釉被膜が両雄い事か認められて
いる。また合成樹脂エマルションは、実験室小ロツト生
産に於いては可能であるが、塗付工程に於いて泡が生成
して塗付後も消滅しにくく、焼成した後も外屓上の欠点
を生じ易(実用性に乏しかった。また前記の発泡現象を
抑制する為に、シリコーン等の消泡剤を添加する試みも
なされているが、塗付時及びスライド転写時にハジキ等
の現象を惹起し、実用性に乏−しいのが実情であった。
絵付後の本焼成工程を経る為、多量の熱エネルギーを必
要とし、従って施釉後の焼成、絵付の為の本焼成を1回
で行なうことによって、省エネルギー化を図る試みがな
されてきた。しかし乍ら施釉後、焼成を行なうことな(
絵付を行なう場合には、釉薬が十分に固定されていない
為、正常の絵付作業が非常に困難である。また未焼成釉
薬の流動を低減させる為に、ポリビニルアルコール、カ
ルボキシメチルセルロースの如き水溶性高分子の水溶液
を釉薬のスラリー中に混合する方法も試みられているが
、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース
等は溶解に時間を要し、水溶敷を予じめ調整しておく事
により腐敗等の現象を生じたり、釉薬の素地に対する固
定も十分でないこと、更に乾燥あるいは焼成時に被膜の
破れ等をおこし、平滑な釉被膜が両雄い事か認められて
いる。また合成樹脂エマルションは、実験室小ロツト生
産に於いては可能であるが、塗付工程に於いて泡が生成
して塗付後も消滅しにくく、焼成した後も外屓上の欠点
を生じ易(実用性に乏しかった。また前記の発泡現象を
抑制する為に、シリコーン等の消泡剤を添加する試みも
なされているが、塗付時及びスライド転写時にハジキ等
の現象を惹起し、実用性に乏−しいのが実情であった。
本発明者らは、前記の“問題を解決すべく鋭意検罰した
結呆、特定組成物を釉薬のスラリー中に添加することに
よって、表面欠陥を起すことなく施釉、絵付の焼成を1
回で完了すれ施釉方法に到達・した。
結呆、特定組成物を釉薬のスラリー中に添加することに
よって、表面欠陥を起すことなく施釉、絵付の焼成を1
回で完了すれ施釉方法に到達・した。
すなわち本発明は、陶磁器、タイル、琺瑯に施釉するに
1(ヤして、囚合成樹脂エマルションおよび(B)鉱物
油、−動植物油脂またはワックスもしくはこれらの変成
物、およびまたは脂肪族アミド化合物よりなる組成物を
釉薬のスラリー中に添加して被施釉物に塗付し、釉薬の
焼結工程を行なうことなく絵付を行ない、しかる後に焼
結を行なって施釉及び絵付を同時に完了する施釉方法で
ある。
1(ヤして、囚合成樹脂エマルションおよび(B)鉱物
油、−動植物油脂またはワックスもしくはこれらの変成
物、およびまたは脂肪族アミド化合物よりなる組成物を
釉薬のスラリー中に添加して被施釉物に塗付し、釉薬の
焼結工程を行なうことなく絵付を行ない、しかる後に焼
結を行なって施釉及び絵付を同時に完了する施釉方法で
ある。
本発明に適用される陶磁器および琺瑯は、茶碗、皿、丼
、鉢等の食卓用品、瓦等の土木建築用品、花器、頭皿、
置物、飾タイル等の装飾用品、洗面器、便器、ガス湯沸
器、浴槽等の両生厨房用品、その地理化学用品、電気、
機械用品、工業用品等が含まれる。また、タイルは半磁
器タイル、磁器タイル等を含むタイル類等に適用される
。
、鉢等の食卓用品、瓦等の土木建築用品、花器、頭皿、
置物、飾タイル等の装飾用品、洗面器、便器、ガス湯沸
器、浴槽等の両生厨房用品、その地理化学用品、電気、
機械用品、工業用品等が含まれる。また、タイルは半磁
器タイル、磁器タイル等を含むタイル類等に適用される
。
本発明に用いる前記の囚合成樹脂エマルションは、例え
ば(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸エ
ステル−酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸エステル−ス
チレン、(メタ)アクリル酸エステル−塩化ビニル樹脂
等を主成分とするアクリル璃脂系エマルション、酢酸ビ
ニル樹脂等を主成分とする酢酸ビニル樹脂系エマルショ
ン、エチレンーイ[酸ビニル、エチレン−(メタ)アク
リル酸エステル、エチレン−塩化ヒニル等ノエチレン共
fli 合i#I 脂系エマルション、スチレン−ブタ
ジェン、メタクリル酸メチル−ブタジェン、アクリロニ
トリル−ブタジェン等の合成ゴム系エマルション等が用
いられる。なかでも(メタ)アクリル酸エステルを主成
分とするアクリル樹脂系合成樹脂エマルションが本発明
に好適である。而して施釉物上の釉薬の固定、即ち例え
ばスライド転写時の釉薬の流動を防止する観点等から、
ガラス転移温度10°C以下の共重合樹脂組成物の使用
が本発明に特に好適である。
ば(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸エ
ステル−酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸エステル−ス
チレン、(メタ)アクリル酸エステル−塩化ビニル樹脂
等を主成分とするアクリル璃脂系エマルション、酢酸ビ
ニル樹脂等を主成分とする酢酸ビニル樹脂系エマルショ
ン、エチレンーイ[酸ビニル、エチレン−(メタ)アク
リル酸エステル、エチレン−塩化ヒニル等ノエチレン共
fli 合i#I 脂系エマルション、スチレン−ブタ
ジェン、メタクリル酸メチル−ブタジェン、アクリロニ
トリル−ブタジェン等の合成ゴム系エマルション等が用
いられる。なかでも(メタ)アクリル酸エステルを主成
分とするアクリル樹脂系合成樹脂エマルションが本発明
に好適である。而して施釉物上の釉薬の固定、即ち例え
ばスライド転写時の釉薬の流動を防止する観点等から、
ガラス転移温度10°C以下の共重合樹脂組成物の使用
が本発明に特に好適である。
前記した(B)鉱物油、動植物油脂またはワックスもし
くはこれらの変成物としては、例えば流動パラフィン、
スピンドル油及び日本工業親格に2201−1980に
定鏡されている工業用ガソリン等のいわゆる鉱物油及び
これらの変成物、牛脂、啄脂、羊脂、耐油、魚油、ヤシ
油、オリーブ油、ヒマシ油、犬ヴ油、棉実油、ナタイ・
油、ゴマ油、キリ油、アマニ油等の動植物油脂及びこれ
らの水添物のような変成物、密ロウ、木ロウ等の動植物
系ワックス、直鎖状炭化水素を主成分とするパラフィン
ワックス、側鎖状炭化水素や環状炭化水素を主成分とす
るマイクロクリスタリンワックス、低分子量のポリエチ
レンワックス等の鉱物系ワックスまたはこれらの変成物
であっても良い。なかでもパラフィンワックス、流動パ
ラフィンおよびスピンドル油が、経済的理由で本発明に
好適である。
くはこれらの変成物としては、例えば流動パラフィン、
スピンドル油及び日本工業親格に2201−1980に
定鏡されている工業用ガソリン等のいわゆる鉱物油及び
これらの変成物、牛脂、啄脂、羊脂、耐油、魚油、ヤシ
油、オリーブ油、ヒマシ油、犬ヴ油、棉実油、ナタイ・
油、ゴマ油、キリ油、アマニ油等の動植物油脂及びこれ
らの水添物のような変成物、密ロウ、木ロウ等の動植物
系ワックス、直鎖状炭化水素を主成分とするパラフィン
ワックス、側鎖状炭化水素や環状炭化水素を主成分とす
るマイクロクリスタリンワックス、低分子量のポリエチ
レンワックス等の鉱物系ワックスまたはこれらの変成物
であっても良い。なかでもパラフィンワックス、流動パ
ラフィンおよびスピンドル油が、経済的理由で本発明に
好適である。
また(B)の脂肪族アミド化合物としては、例えば、ヘ
キシルアミド、オクチルアミド、ラウリルアミド、バル
ミチルアミド、ステアリルアミド等の飽和脂肪族アミド
、及びオレイルアミド、リルニルアミド、リノリルアミ
ド等の不飽和脂肪族アミド、あるいはこれらの混合物を
あげる事が出きる。
キシルアミド、オクチルアミド、ラウリルアミド、バル
ミチルアミド、ステアリルアミド等の飽和脂肪族アミド
、及びオレイルアミド、リルニルアミド、リノリルアミ
ド等の不飽和脂肪族アミド、あるいはこれらの混合物を
あげる事が出きる。
本発明を実7mするにあたって、fB)鉱物油、動植物
油脂またはワックスもしくはこれらの変成物、゛および
または脂肪族アミド化合物を合成側脂エマルションに均
一に混合分散する方法としては、あらかじめ界面活性剤
等で(B)鉱物油、動植物油脂またはワックスもしくは
これらの変成物、およびま。
油脂またはワックスもしくはこれらの変成物、゛および
または脂肪族アミド化合物を合成側脂エマルションに均
一に混合分散する方法としては、あらかじめ界面活性剤
等で(B)鉱物油、動植物油脂またはワックスもしくは
これらの変成物、およびま。
たは脂肪族アミド化合物の乳化分散液を調整し、これケ
合成“四脂エマルションに混合する方法や、(13)鉱
物油、動植物油脂またはワックスもしくはこれらの変成
物、およびまたは脂肪族アミド化合物を、合成樹脂エマ
ルション中に直接添加し、合成’t6 脂エマルション
中に存在する界面活性剤によって乳化させる方法がある
。また(Bl鉱物油、動植物油脂またはワックスもしく
はこれらの変成′吻、およびまたは脂肪族アミド化合物
とモノマー類とを混合して乳化重合を行ないエマルショ
ン粒子中に含有せしめる方法でも良い。
合成“四脂エマルションに混合する方法や、(13)鉱
物油、動植物油脂またはワックスもしくはこれらの変成
物、およびまたは脂肪族アミド化合物を、合成樹脂エマ
ルション中に直接添加し、合成’t6 脂エマルション
中に存在する界面活性剤によって乳化させる方法がある
。また(Bl鉱物油、動植物油脂またはワックスもしく
はこれらの変成′吻、およびまたは脂肪族アミド化合物
とモノマー類とを混合して乳化重合を行ないエマルショ
ン粒子中に含有せしめる方法でも良い。
本発明において合成樹脂エマルションと併用される(B
)鉱物油、動植物油脂またはワックスもしくはこれらの
変成物、およびまたは脂肪族アミド化合物の添加蓋は、
特に規定されないが本発明の本来の目的である釉薬の粒
子相互、及び釉薬粒子と基材、との結合力への影響を考
慮して合成イVf脂エマルション中の樹脂分に対して、
通常0.01〜30重量%、好ましくは0.1〜20重
量%の範囲で併用される。また釉薬のスラリー中に添加
される(5)合成rl 脂エマルション及び(B)鉱物
油、動植物油脂またはワックスもしくはこれらの変成物
、およびまたは脂肪族アミド化合物よりなる組成物の量
も特に規定されないが、釉薬スラリー固形分に対して固
形分として通常は0.1〜20重量%、好ましく番ま0
.2〜15重量%の範囲で添加される。
)鉱物油、動植物油脂またはワックスもしくはこれらの
変成物、およびまたは脂肪族アミド化合物の添加蓋は、
特に規定されないが本発明の本来の目的である釉薬の粒
子相互、及び釉薬粒子と基材、との結合力への影響を考
慮して合成イVf脂エマルション中の樹脂分に対して、
通常0.01〜30重量%、好ましくは0.1〜20重
量%の範囲で併用される。また釉薬のスラリー中に添加
される(5)合成rl 脂エマルション及び(B)鉱物
油、動植物油脂またはワックスもしくはこれらの変成物
、およびまたは脂肪族アミド化合物よりなる組成物の量
も特に規定されないが、釉薬スラリー固形分に対して固
形分として通常は0.1〜20重量%、好ましく番ま0
.2〜15重量%の範囲で添加される。
前記(’)CA合成樹脂エマルション及び(B)鉱物油
、動植物油脂またはワックスもしくはこれらの変成物、
およびまたは脂肪族アミド化合物を添加した釉薬スラリ
ーは、通常、素焼した基材、また(ま金属成形基材に浸
漬、スプレー等の方法によって塗付し、通常、常温また
は200℃以下の温度で水分を除去した後、スライド転
写、銅版印判、手描き、熱転写等の方法によって絵付を
行なった後、本焼成する方法が採用されろ。
、動植物油脂またはワックスもしくはこれらの変成物、
およびまたは脂肪族アミド化合物を添加した釉薬スラリ
ーは、通常、素焼した基材、また(ま金属成形基材に浸
漬、スプレー等の方法によって塗付し、通常、常温また
は200℃以下の温度で水分を除去した後、スライド転
写、銅版印判、手描き、熱転写等の方法によって絵付を
行なった後、本焼成する方法が採用されろ。
なお、前記釉薬スラリーを塗領した後、絵付の前に堀面
の平滑性を更に向上せしめる為、ポリビニルアルコール
、カルボキシメチルセルロ−スき水溶性高分子の水溶液
、前記の合成樹脂ニー2ルションあるいは(5)合成樹
脂エマルション及び(Bl鉱物油、動イlI!物油哨ま
たはワックスもしくはこれらの変成物、およびまたは脂
肪族アミド化合物よりなる組成物等を更に塗付してもさ
しつかえない。
の平滑性を更に向上せしめる為、ポリビニルアルコール
、カルボキシメチルセルロ−スき水溶性高分子の水溶液
、前記の合成樹脂ニー2ルションあるいは(5)合成樹
脂エマルション及び(Bl鉱物油、動イlI!物油哨ま
たはワックスもしくはこれらの変成物、およびまたは脂
肪族アミド化合物よりなる組成物等を更に塗付してもさ
しつかえない。
この様にして得られる施釉物は、スライド転写、銅版印
刷、手描き、熱転写等で絵付を行ない、それぞれ純利に
応じた温顔、通常750〜1, 5 5 0℃の温度範
囲で焼成を行ない、通常の方法によって宿られる陶磁器
、タイル、琺S製品と同等の製品をイ尋る虞が出きる。
刷、手描き、熱転写等で絵付を行ない、それぞれ純利に
応じた温顔、通常750〜1, 5 5 0℃の温度範
囲で焼成を行ない、通常の方法によって宿られる陶磁器
、タイル、琺S製品と同等の製品をイ尋る虞が出きる。
前記の如き本発明の施釉方法によって得られる1陶磁器
、琺瑯、タイル等は、外観上の欠陥はみられず、従来性
なわれていた2〜3回の焼成工程を1回で行なう事が可
能であり、大巾なエネルギーを削減することが出来る。
、琺瑯、タイル等は、外観上の欠陥はみられず、従来性
なわれていた2〜3回の焼成工程を1回で行なう事が可
能であり、大巾なエネルギーを削減することが出来る。
また琺瑯製品の場合においても、いわゆる下釉と上釉と
を、これ迄述べてきたと同様に、各々の軟化点を適当に
適合せしめる事により、例えば従来の2回塗付2回焼成
を2回塗付1回焼成に閉略化する事も可能である。
を、これ迄述べてきたと同様に、各々の軟化点を適当に
適合せしめる事により、例えば従来の2回塗付2回焼成
を2回塗付1回焼成に閉略化する事も可能である。
次に実施例によって本発明を具体的に説明する。
パラフィンワックスエマルション〔A〕の順製:パラフ
ィンワックス(日本製繊KK製、商品名「パラフィンワ
ックス130J 、融点55°c) i o。
ィンワックス(日本製繊KK製、商品名「パラフィンワ
ックス130J 、融点55°c) i o。
部を加熱熔融し、この中にポリオキシエチレンアルキル
エーテル14部、ソルビタンモノステアレート14部を
加え攪拌熔融する。この中に90−95℃の温水114
部を滴下し、均一に攪拌しながら温度を90−98℃と
する。この温度で攪拌した後、冷却し冷水57部で希釈
し、固形分40%のパラフィンワックスエマルション[
:A]#”41’:+れた。
エーテル14部、ソルビタンモノステアレート14部を
加え攪拌熔融する。この中に90−95℃の温水114
部を滴下し、均一に攪拌しながら温度を90−98℃と
する。この温度で攪拌した後、冷却し冷水57部で希釈
し、固形分40%のパラフィンワックスエマルション[
:A]#”41’:+れた。
パラフィンエマルショ/C B 〕ノM W :前記パ
ラフィンワックスエマルション〔A〕の製造方法に於い
て[パラフィンワックス160]を市販の流動パラフィ
ン(和光紬薬製)にかえて同様の方法でパラフィンエマ
ルション〔B〕を得り。
ラフィンワックスエマルション〔A〕の製造方法に於い
て[パラフィンワックス160]を市販の流動パラフィ
ン(和光紬薬製)にかえて同様の方法でパラフィンエマ
ルション〔B〕を得り。
実施例1
攪拌翼、温度計、速流冷却器、滴下ロート及び室累導入
管を取りつけた五目フラスコに、水500重量部および
アニオン系乳化剤4重量部を添加し、系内の温度を80
℃にして、過硫酸カリウム5部を添加し、溶解する迄攪
拌する。
管を取りつけた五目フラスコに、水500重量部および
アニオン系乳化剤4重量部を添加し、系内の温度を80
℃にして、過硫酸カリウム5部を添加し、溶解する迄攪
拌する。
次にメタクリル酸メチル230重量部、アクリル酸x
f ルア 20 li量置部メタクリル酸ヒドロキシエ
チル20重量部、メタアクリル1m 20 M置部、ア
クリルアミド10重量部、アニオン系乳化剤1型肯部及
び水500部からなる混合液を滴下ロートより4時間か
げて滴下する。滴下終了後さらに6時間80°Cの温度
を保った後冷却する。内温か30 ℃以下になった段階
でアンモニア水を添加し、PH9に調整した後、加水し
て樹脂分42%のアクリル樹脂エマルション〔C〕を得
た。
f ルア 20 li量置部メタクリル酸ヒドロキシエ
チル20重量部、メタアクリル1m 20 M置部、ア
クリルアミド10重量部、アニオン系乳化剤1型肯部及
び水500部からなる混合液を滴下ロートより4時間か
げて滴下する。滴下終了後さらに6時間80°Cの温度
を保った後冷却する。内温か30 ℃以下になった段階
でアンモニア水を添加し、PH9に調整した後、加水し
て樹脂分42%のアクリル樹脂エマルション〔C〕を得
た。
このアクリル樹脂エマルション〔C)1,000重i部
に、パラフィンワックスエマルション〔A〕ヲ40重量
部添加し、均一になる迄攪拌し、組成物〔D〕を得た。
に、パラフィンワックスエマルション〔A〕ヲ40重量
部添加し、均一になる迄攪拌し、組成物〔D〕を得た。
釉薬スラリー[5I(−’7、固形分50%)1,00
0重量部の中に組成物〔D〕を80重量部添加した釉薬
スラリー混合物中に、素焼した基材を1.00’0枚連
続でV漬し、乾燥後、スライド転写を行なった。
0重量部の中に組成物〔D〕を80重量部添加した釉薬
スラリー混合物中に、素焼した基材を1.00’0枚連
続でV漬し、乾燥後、スライド転写を行なった。
ソノ後、1.250℃で焼成を行なったが、1,000
枚、!:も夛面上に破泡痕や・・ジキ現象等の欠陥はな
(、実用に供し得る製品が得られた。
枚、!:も夛面上に破泡痕や・・ジキ現象等の欠陥はな
(、実用に供し得る製品が得られた。
比較例1
実施例1と同一の釉薬スラIJ−1.ODD重量部の中
に、アクリル樹−旨エマルション〔C〕のみを80重量
部添加し、実施例1と同(兼の操作を行なった。
に、アクリル樹−旨エマルション〔C〕のみを80重量
部添加し、実施例1と同(兼の操作を行なった。
最初の2枚は実用に供し得る顯品が得られたか、6枚目
以降は軸系スラリー混合物の発泡現象が見られ、また被
施釉物表面に破泡した痕が残り、実用に供し得る製品は
得られなかった。
以降は軸系スラリー混合物の発泡現象が見られ、また被
施釉物表面に破泡した痕が残り、実用に供し得る製品は
得られなかった。
比較例2
実施例1と同一の釉薬スラIJ−1,000重量部の中
ニパラフィンワソクスエマルションのみを3重量部添加
し、実施例1と同様の操作を行なったが、スライド転写
で絵付を行なう際、釉薬が流動し、絵付作業が正常に出
来なかった。その後1.250℃で焼成を行なったが表
面に凹凸が見られ、外観上実用に供し得る製品が得られ
なかった。
ニパラフィンワソクスエマルションのみを3重量部添加
し、実施例1と同様の操作を行なったが、スライド転写
で絵付を行なう際、釉薬が流動し、絵付作業が正常に出
来なかった。その後1.250℃で焼成を行なったが表
面に凹凸が見られ、外観上実用に供し得る製品が得られ
なかった。
実施例2
アクリル樹脂系エマルション(商品名[アルマテックス
E−1o5J、If脂分45%、三井東圧化学KKM
)1,000重量部に、前記パラフィンエマルション[
B)を20重量部添加し、組成物〔E〕を得た。
E−1o5J、If脂分45%、三井東圧化学KKM
)1,000重量部に、前記パラフィンエマルション[
B)を20重量部添加し、組成物〔E〕を得た。
実施例1と同一の釉薬スラ+) −1,000℃量部の
中に組成物〔E〕を30重量部添加した釉薬スラリー混
合物中に素焼した基材1,000枚を連続で浸漬し乾楳
した。その後表面を更に平滑にする為、組成物〔E〕の
5倍希釈分散液をスプレーガンで塗布し、乾燥後スライ
ド転写を行なった。その後1250℃で焼成を行なった
が、1.000枚とも表面上に破泡疲やハジキ現象等の
欠陥はなく、実用に供し得る製品が得られた。
中に組成物〔E〕を30重量部添加した釉薬スラリー混
合物中に素焼した基材1,000枚を連続で浸漬し乾楳
した。その後表面を更に平滑にする為、組成物〔E〕の
5倍希釈分散液をスプレーガンで塗布し、乾燥後スライ
ド転写を行なった。その後1250℃で焼成を行なった
が、1.000枚とも表面上に破泡疲やハジキ現象等の
欠陥はなく、実用に供し得る製品が得られた。
比較例3
アクリル4m HM 系エマルション(「アルマテック
ス E−1[]3J、剖脂分45%、三井東圧化学K
K製) 1.ODD 重量fBにシリコーンエマルショ
ン(商品名rKM−71J 、信越シリコーンKK製)
欠33重量部添加、組成物〔F〕を得た。実施例2と同
一の釉薬スラIJ−1,000重量部の中に、組成物C
F’)を30重量部添加した釉薬スラリー混合物を用い
て実施例2と同機の操作を行なった。その結果、釉薬ス
ラリー混合物の発泡現象はi、 o o o枚連続終了
後′も見られなかった。しかし乍ら施釉物の表面にハジ
キ現象が見られ、規成後の施釉物の表面にも欠陥が見ら
れ、実用に供し得る製品は得られなかった。
ス E−1[]3J、剖脂分45%、三井東圧化学K
K製) 1.ODD 重量fBにシリコーンエマルショ
ン(商品名rKM−71J 、信越シリコーンKK製)
欠33重量部添加、組成物〔F〕を得た。実施例2と同
一の釉薬スラIJ−1,000重量部の中に、組成物C
F’)を30重量部添加した釉薬スラリー混合物を用い
て実施例2と同機の操作を行なった。その結果、釉薬ス
ラリー混合物の発泡現象はi、 o o o枚連続終了
後′も見られなかった。しかし乍ら施釉物の表面にハジ
キ現象が見られ、規成後の施釉物の表面にも欠陥が見ら
れ、実用に供し得る製品は得られなかった。
実施例6
アクリル樹脂系エマルション(m 品名rアルマテック
ス K”3101 J 4114脂分42%、三井5東
圧化学KK製)1.ooo重量部に鉱物油および脂肪族
アミドを主成分とする組成・物(商品名rsN267A
J、サンノプコKK製)10重量部を加え、組成物〔G
〕を得た。琺瑯月下釉薬スラIJ−1,000重量部に
組成物CG)を50重量部添加した下釉薬スラリー混合
物中に、金属成形基材を浸漬、乾燥後830〜850°
Cで焼成した。その後琺瑯用上釉薬スラIJ −1,0
00重賞部に組成物〔G〕を60重量部添加した上釉薬
スラリー混合物中に下釉焼成を完了した金属成形基材を
浸漬乾燥した。ついで、組成物〔G〕の5倍希釈分散液
をスプレーガンで塗付後乾燥しスライド転写で絵伺を行
ない750〜850’Cで焼成した。。
ス K”3101 J 4114脂分42%、三井5東
圧化学KK製)1.ooo重量部に鉱物油および脂肪族
アミドを主成分とする組成・物(商品名rsN267A
J、サンノプコKK製)10重量部を加え、組成物〔G
〕を得た。琺瑯月下釉薬スラIJ−1,000重量部に
組成物CG)を50重量部添加した下釉薬スラリー混合
物中に、金属成形基材を浸漬、乾燥後830〜850°
Cで焼成した。その後琺瑯用上釉薬スラIJ −1,0
00重賞部に組成物〔G〕を60重量部添加した上釉薬
スラリー混合物中に下釉焼成を完了した金属成形基材を
浸漬乾燥した。ついで、組成物〔G〕の5倍希釈分散液
をスプレーガンで塗付後乾燥しスライド転写で絵伺を行
ない750〜850’Cで焼成した。。
この様にして得られた琺瑯容器は表面上に破泡痕や−・
ジキ現象等の欠陥もなく、実用に供し得る製品が得られ
た。
ジキ現象等の欠陥もなく、実用に供し得る製品が得られ
た。
比較例4
実施例乙において、前記の「sN 267AJを添加せ
ずに実施例3に準じて琺瑯容器の製造を試みたが、施釉
時に発泡現象が見られ、また;焼成物も表面上に破泡痕
の欠陥があり、実用に供し得る製品は得られなかった。
ずに実施例3に準じて琺瑯容器の製造を試みたが、施釉
時に発泡現象が見られ、また;焼成物も表面上に破泡痕
の欠陥があり、実用に供し得る製品は得られなかった。
実施例4
メチロールステアリルアミド(日本化成KK製、商品名
「メチロールアマイド」)をポリビニルアルコールと界
面活性剤で乳化し15%固形分の脂肪族アミド変成物の
分散液CI−I )を得た。
「メチロールアマイド」)をポリビニルアルコールと界
面活性剤で乳化し15%固形分の脂肪族アミド変成物の
分散液CI−I )を得た。
実施例1で得られたアクリル樹脂エマルション[C:]
1,000重市部に脂肪族アミド変成物の分散液(’I
−1,170 N置部添加し組成物〔J〕を得た。
1,000重市部に脂肪族アミド変成物の分散液(’I
−1,170 N置部添加し組成物〔J〕を得た。
実施例1と同一の釉薬クラ1J−1,000:i量部の
中に組成物〔J〕を40重量部添加し、実施例2と同様
の操作を行なった。実施例1と比較して発泡を抑制する
効果は、若干劣るが、表面上に被泡痕やハジキ現象等の
欠陥はなく実用に供し得る製品が得られた。
中に組成物〔J〕を40重量部添加し、実施例2と同様
の操作を行なった。実施例1と比較して発泡を抑制する
効果は、若干劣るが、表面上に被泡痕やハジキ現象等の
欠陥はなく実用に供し得る製品が得られた。
比較例5
実施例4において、前記の脂肪族アミド分散液〔H〕を
添加せずに実施例4に準じて同様の操作を行なったが、
施釉時に発泡現象が見られ、また焼成物も表面上に破泡
痕の欠陥があり、実用に供し得る製品は得られなかった
。
添加せずに実施例4に準じて同様の操作を行なったが、
施釉時に発泡現象が見られ、また焼成物も表面上に破泡
痕の欠陥があり、実用に供し得る製品は得られなかった
。
実施例5
オリーブ油20重量部、テトラオレイン酸ポリオキシエ
チレンソルビノト系界面活性剤(花王アトラスKK製、
酉品名[レオドール 430J)4重量部、水76重量
部を用いてオリーブ油エマルションCKIを得た。
チレンソルビノト系界面活性剤(花王アトラスKK製、
酉品名[レオドール 430J)4重量部、水76重量
部を用いてオリーブ油エマルションCKIを得た。
実施例1で得られたアクリル朗脂エマルション(c)1
.ooox量部に置部−ブ油エマルションCl050重
量部を添加し組成物〔L〕を得た。
.ooox量部に置部−ブ油エマルションCl050重
量部を添加し組成物〔L〕を得た。
実施例1と同一の釉薬スラ’J−1,000重量部の中
に組成物CL]を25重量部添加し、実施例2と同様の
操作を行なった。その結呆釉薬スラリー混合物の発泡現
象も少な(、焼成物の表面上に破泡戒やハジキ現象等の
欠陥はなく、実用に供し得る製品が得られた。
に組成物CL]を25重量部添加し、実施例2と同様の
操作を行なった。その結呆釉薬スラリー混合物の発泡現
象も少な(、焼成物の表面上に破泡戒やハジキ現象等の
欠陥はなく、実用に供し得る製品が得られた。
特許出願人
三井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 陶磁器、タイル、琺瑯に施釉するに際して、(3)合成
樹脂エマルションおよび (B)鉱物油、動植物油脂またはワックスもしくはこれ
らの変成物、およびまたは脂肪族アミド化合物よりなる
組成物を釉薬のスラリー中に添加して被施釉物に塗料し
、釉薬の焼結工程を行うことなく絵付を行ない、しかる
後に焼結を行なって施釉及び絵付を同時に完了すること
を特徴とする施釉方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6832183A JPS59195589A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 施釉方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6832183A JPS59195589A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 施釉方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59195589A true JPS59195589A (ja) | 1984-11-06 |
JPH0460955B2 JPH0460955B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=13370437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6832183A Granted JPS59195589A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 施釉方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59195589A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01208384A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-22 | Mitsubishi Yuka Badische Co Ltd | 絵付方法 |
JP2008032663A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-14 | Hironobu Ikeda | 腕時計 |
-
1983
- 1983-04-20 JP JP6832183A patent/JPS59195589A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01208384A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-22 | Mitsubishi Yuka Badische Co Ltd | 絵付方法 |
JPH0569074B2 (ja) * | 1988-02-15 | 1993-09-30 | Mitsubishi Yuka Badische | |
JP2008032663A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-14 | Hironobu Ikeda | 腕時計 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0460955B2 (ja) | 1992-09-29 |
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