JPS59191973A - 単一ゲ−ト線インタ−レ−ス固体撮像素子 - Google Patents

単一ゲ−ト線インタ−レ−ス固体撮像素子

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Publication number
JPS59191973A
JPS59191973A JP59024455A JP2445584A JPS59191973A JP S59191973 A JPS59191973 A JP S59191973A JP 59024455 A JP59024455 A JP 59024455A JP 2445584 A JP2445584 A JP 2445584A JP S59191973 A JPS59191973 A JP S59191973A
Authority
JP
Japan
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electrode
lines
solid
wires
state imaging
Prior art date
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Pending
Application number
JP59024455A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiji Ochi
大地 成治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of JPS59191973A publication Critical patent/JPS59191973A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • H01L27/14645Colour imagers
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Color Television Image Signal Generators (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] コノ発明はカラー固体撮像装置、特にMO8IFKT型
の固体撮像装置に関する。
E従来技術] この発明が属するものと同形式の一般的な撮像装置の先
行技術の例が工II]1G  ’[’ranSaQ−t
ion  021  Electron  Devic
esVOl、ED−29,yo、4.April  1
982に青木氏らによって「2/3インチ形式MOSシ
ングルチップカラー撮像装置」という標題で掲載されて
いる。この論文で述べられている撮像装置は、本願では
第1図、第2図に示されるが、行列マトリックスに配置
された多数の画素がら成るアレイ100を含んでいる。
センサアレイ100は垂直ゲート線の役目をする第1電
極[21,2223,24,・・・とそれと直角に交差
する水平ゲート線の役目を果す第2電極線30,31゜
32.36.  ・・・を含んでいる。これらの電極線
のすべては電気的には互いに絶縁されている。
各々の画素10は光ダイオードとそれと並列に接続され
たコンデンサ16から成る光センサー素子と、’Fll
li’l”素子11で実現されるスイッチング素子を含
んでいる。F、1i1iT素子11のゲート15は対応
する第1′WL極線(第2図の左上部では画素1゜に対
して電極線21)に接続され、FET素子11のドレイ
ンは対応する第2電極線(第2図の左上部では画素10
に対して電極線30)に接続されている。FET素子1
1のソースは光ダイオード12のカソードに結合されて
いる。カラーフィルタが光ダイオード12の各々の上に
与えられる。
フィルタはカラー像を作るために適当なパターンで配置
される。第2図の例ではrWJはそれぞれの光ダイオー
ドの上に白フィルタがあることを示し、r、Y、Jは黄
フィルタ、「G」は緑フィルタ、royJはシアンフィ
ルタがあることを示している。この分野の通常の技術者
にはよく知られていることであるが、他のフィルタのパ
ターンも同様に使われる。
第2電極線(以下水平線ともいう。)60゜31.32
,33・・・は一つの色情報を運ぶ出力信号と結びつい
ている。特に、第2図では、Hwθ)eHGω)t H
y e (jL HOy(、+Lはj番目の白、緑、黄
、シアン出力信号をそれぞれ示している。この配置を達
成するために電極に30,31゜32.33・・・の各
々は対応する列の関連する色のすべての画素のFET素
子のドレインに接続されている。例えば、電11i31
は緑フィルタをもっている光ダイオード12と結合して
いるすべてのFF1iT素子11のドレインに接続され
ている。
第1電極線(以下垂直線ともいう。)21,22゜23
.24.  ・・・は各々の列のすべての画素のFET
素子11のゲート15に接続されている。
読atL期間のアレイの動作の間、光ダイオード12の
導電度はそこに注がれる光の強度に応じて変化する。従
って、読出し周期の終りにおけるコンデンサ13の電荷
は読出し期間中に光ダイオード12に注がれる光の平均
強度によって決定される。画素10の各々から発生した
色情報信号を読出すために第1電極線21,22,23
.24・・・が定められた順序に従って活性化、すなわ
ち、正電位に上げられる。第1電極線21,22゜23
.24・・・の活性化は垂直方向にセンサアレイを順に
スキャンするので、第1電極線は垂直線とよばれる。
第4A図、第4B図は第2図の回路を集積回路で実現し
たーセグメントを示している。第2電極線30.31は
第1電極線21.22と交差しているが、絶縁されてい
る。光センサー領域は第1電極線と第2電極線、例えば
電極線21,22゜30.31の交差点の間で規定され
る方形の開口部に形成される。ソース拡散領域19(一
点鎖線で示されている)が開口部の各々の方へ広がって
サブストレート41中に形成される。ダイオード接合形
成層(図示せず)は光ダイオードを形成する各々のソー
ス拡散領域の部分の上に与えられる。
ソース領域19の各々の他の部分は第2電極線のそれぞ
れの下に広がる。例えば、第4A図の中心に示される電
極線21,22,30,31を境界とする開口部内に一
部位置するソース拡散領域19の一部は第21!極線3
0の下に広がっている。ソース拡散領域19は対応する
第1電極線のわきの近くで下の位置にまで広がっている
。例えば、第4A図の中心のソース領域19は電極線2
1の下のわきまで広がっている。ソースコンタクト領域
17はこのようにして形成される。ドレイン領域18(
二点鎖線で示されている)はドレインコンタクト領域1
6で水平線のそれぞれと電気的に接触されているもので
あるが、これもまた対応する第2電極線の下に広がって
いる。ドレイン領域18は第11!極線と重なることは
なく対応するソース領域19と第1電極線をはさんで反
対側にほぼ第1電極線の巾だけ離れて位置する。ソース
領域19とドレイン領域18とが接近している。第2電
極線と第1電極線の交差点では第1電極線21゜229
4;[い酸化層によってのみサブストレートと分離され
ている。この方式ではゲート領域15はドレイン領域1
8とソース領域19との間に形成される。ドレイン領域
とソース領域とが第1電極線の近くに存在しない第1電
極線と第2電極線の交差点(例えば21と61の交差点
)に対しては、垂直線の電圧がデバイスの動作をじゃま
しないように垂直線をサブストレートの表面から分離す
るために厚い絶縁層40が与えられる。この配置は第4
B図の断面図に示されており、そこでは第1電極線21
はフィールド酸化層40によってサブストレート41の
表面から分離されている。
一方、電極線22はソース領域19とドレイン領域1.
80間の薄い酸化層のみによってサブストレート41の
表面から分離されている。
画素10からの色情報信号読出しと利用回路(ディスプ
レイ装置、録画装置等)へこれらの信号を伝達するため
に使われる回路が第1図に表わされている。垂直線21
,22,23.24・・・を活性化するために垂直シフ
トレジスタ106が与えられている。垂直シフトレジス
タはインタフェース回路104に用いられる正電位VS
(o)、  ・・。
V 5(i)、  ・・・V S (n−1) 、 V
 5(n)を出力線上に連続的かつ繰り返し的にセット
する。インターフェース[18104は二つのインター
レースされたフレームがスキャンされる信号FA(フィ
ールドA)と信号FE(フィールドB)指示信号を受け
る。インターフェース回路104の出力はバッファされ
、クロック信号$ v E tφv3の助けでバッファ
回路105によってセンサアレイ100の垂直線21,
22,23,24.  ・・・に印加される。電極1s
30.31等のセンサアレイ’Hw(jL”GO)等か
らの出力はアレイ出力スイッチング回路102に加えら
れ、水平シフトレジスタ101によって与えられる出力
に従って利用回路へ向けて母線107に伝達される。
第2図に示されるセンサアレイで完全な画素を形成する
のに必要な色情報を与えるためには、瞬接する4つの画
素、すなわち隣接しあう白、黄、緑、シアン感応画素か
らなる1区画に含まれる色情報信号を読出し、4つの水
平、!3(H,、θ)、HG(j)とHyeθ)、Ha
yθ))上に色信号を読出させることが必要である。
色情報を読出すために各ラインスキャン、すなわち’V
S(o)の各々、に対し、垂直線21,22゜23.2
4.  ・・・のうち2つを活性化する必要がある。更
に、インターレースのために垂直線対をフレーム毎に変
える必要がある。例えば、フレームAに対し、電極線2
1.22が同時に活性化され、続いて電極線23.24
が同時に活性化される。引続いて起こるフレームBに対
し、電極線22.23が同時に活性化され、続いて電極
線24と次の電極線(図示せず)が同時に活性化される
これは第2図の左側に信号VA(i)(垂直線、フレー
ムA、i番目のラインスキャン)、vA(i十1)、・
・・、VB(1)、VB (1+1)として示されてい
る。インターレーススキャンに対し、活性化シーケンス
は・・・VA(o)、  ・・・t VA (t)*v
A (1+l)t 00′t V’B(0)p ””e
vB(1) 、 v B (1+1) w ・・・とな
る。ここで二つの垂直線がV A(o)の各々に対し活
性化される。
回路104とバッファ回路105の一例が第6図に示さ
れており、そこには−っのインターレ−ス部60と一つ
のバッファ部65が示されている。
もちろん、インターレース回路104とバッファ回路1
05はこのようなものが複数から成る。しかし各々は同
じであるから、一つのものだけがここでは描かれている
。垂直シフトレジスタ106からの出力信号VS(t)
はインターレース部30の4つのFET素子91−94
のドレインに印加されている。信号FA(フレームA)
はデバイス91゜92のゲートに印加され、信号FBは
デバイス93゜94のゲートに印加されている。デバイ
ス92゜96の導電チャネルは並列に接続されている。
この理由はインターレーススキャンのために垂直線対は
オーバーラツプして活性化される必要があるからである
。デバイス91.94と対のデバイス92、iのソース
はバッファ部35の対応するドライバデバイス95のゲ
ートに接続されている。
デバイス95のドレインはクロック信号φv3の供給源
に共通に接続されている。ブートストラップコンデンサ
98はデバイス95のドレインとゲートの間に接続され
ている。クロック゛信号巾V。
はデバイス99を通して垂直線を放電させるように印加
される。
これより明らかなように、上述の従来技術ではセンサア
レイのスキャンの間二つの第1電極線を同時に活性化す
る必要があるという欠点をもっている。二つの電極線が
常に同時に活性化されねばならないためバッファ回路に
は高い駆動能力が要求される。また、比較的複雑な−r
ンターレースバツ7ア回路が必要である。
[発明の目的] 従って、この発明の主たる目的は上述した従来技術の欠
点を取除くことであり、特に、センサアレイのスキャン
に対し一度に一本の第1電極線だけを活性化するだけで
よいソリッドステートカラー撮像装置を与えることであ
り、また、簡単で物理的に小さな垂直インターレースと
バッファ回路で済む撮像装置を与えることである。
[発明の開示] この発明の主なる目的&ネ他の目的と同様に、互いに直
交する2つの電極線群から成る格子状に配列された電極
をもつ固体撮影装置を提供することによって達成される
。光センサー素子と信号スイッチング素子が前述のよう
に形成された格子状に配列された電極の各々の開口部に
対して与えられる。この発明の重要な特色によれば、ス
イッチング素子は第1、第2の2つ半導体スイッチから
成り各々が光センサー素子と第2電極線に導電チャンネ
ルにより並列に接続される。第1、第2の半導体スイッ
チの制御信号はそれらが存在するマトリックス開口部を
形成する第1電極線に属する二つの電極線に結合される
。第2電極線への接続は列方向で交互になされる。好ま
しくは半導体スイッチはMO3FET素子で実現される
。第1、第2の半導体スイッチは分離した素子で実現さ
れ得る。又、等測的にはそれらは一つの導電チャネルと
いずれかのゲートの活性化に応じて導電チャネルが開く
ように配置された二つのゲートとをもつ一つの素子で実
現され得る。
撮像装置を半導体の構造という点からみると、この発明
は半導体基体、この基体上にほぼ平行に配列された一組
の第2電極線およびこの電極線にほぼ直交し、かつはぼ
平行に配列された一組の第1電極線(これら第1電極線
と第2電極線とは互いに絶縁されている。)、半導体基
体上の2本の第1電極線と2本の第2電極線で囲まれた
開口部分に設けられたソース拡散領域並びに半導体基体
上に設けられたドレイン拡散領域を有する固体撮像装置
により実現される。各々のソース拡散領域は開口部の光
センサー領域から、対応する第2電極線の下方に拡がり
、その開口部を形成する2つの第1電極線に隣接する位
置まで拡がっている。
ドレイン拡散領域は上記の第2電極線の下に設けられ、
上記のソース拡散領域のある側とは第1電極線を中心に
して反対の側の開口部を形成する2つの第1電極線の端
部に陽接し、かつ第2電極線の下にある位置まで拡がる
。これらによりゲート部分はソース拡散領域とドレイン
拡散領域の間に形成される。ドレイン拡散領域は電気的
に対応する第2%極線に結合される。
ソース拡散領域は、列方向にある画素からとなりの画素
に、開口部の列方向にこれを規定する2つの第2電極線
のうちの交互的に選択される1つの電極線の下を経て広
がっており、ドレイン拡散領域も、前記の2つの第2電
極線のうちの交互的に選択される1つの電極線の下に形
成される。ダイオード接合層のような光センサ一層はソ
ース拡散領域の上に形成される。カラーフィルターは各
々の光センサ一層の上に設けられる。
第6図はこの発明に従って構成されたセンサアレイ10
0の一部を示す概略図である。第2図について述べられ
た先行技術の場合と同様、この発明のアレイは複数の水
平線61,62,63,64・・・と複数の垂直線51
,52.5:15.54・・・を含み、これらの番号は
先行技術におけるスキャニングラインの類似番号のセン
サに対する関係と同じである。画素70の光センス部は
先行技術と同様光ダイオード12とコンデンサ13を含
んでいる。
色情報信号スイッチングに対し、スイッチング素子71
は2つの並列接続されたrET73−L76−2から成
っている。デバイス73−1.7.3−2の導電チャネ
A/(ソースコンタクト74とドレインコンタクト72
の間)は光ダイオード12のカソードおよび対応する水
平線(第5図の左上の画素に対しては電極線61)の間
に接続される。
2つのスイッチング素子のドレインが共通接続されて1
つになった先端は列方向で交互にその列の画素の左端と
右端を決定する水平線のいずれか一方に接続される。デ
バイス76−1のゲートはセルの上端を形成する垂直線
に結合され、デバイス76−2のゲートはセルの下端を
形成する垂直線に接続される。カラーフィルタは先行技
術で使われるのと同じパターンで光ダイオードに対して
与えられる。
第7 A、 7 B図には第5図の概略図で表わされる
センサアレイの画素の物理的構造が示されてI、zる。
先行技術の配置と同様、アレイは水平線の役目をはだす
第2電極線61,62.  ・・・と垂直線の役目をは
だす第1電極線51,52.  ・・・を含んでおり、
方形開口部が上記の水平線と垂直線の対によって規定さ
iる。この発明によれば、ソース拡散領域75(一点鎖
線)は、水平線の1つの下部にまで広かり、例えば第7
A図の中心に示されるソース拡散75は水平線61の下
に広がっている。水平線61の下ではソース拡散領域7
5は隣接しあう2つの垂直1151.52のエツジの真
下の位置にまで達している。ドレイン拡散(二点鎖線)
は水平線の下に形成されるが、それはソース拡散領域が
ない水平線の下である。各々のドレイン拡散領域76は
2つの隣り合う垂直線(第7A図の中心布に示されるド
レイン拡散領域76に対しては電極M51.52)の端
にまで広がっている。ゲート73−L73−2は各ドレ
イン拡散領域760両端に形成される。各ドレイン拡散
領域76はコンタクト領域72において水平線に接続さ
れる。
この構造ではセンサアレイのスキャン動作中、一度に1
つの垂直線のみを活性化する必要がある。
第5図を参考にすると、電極線52が活性化されると白
、黄、緑、シアンの4つの画素のゲートが活性化される
。ここで関係するバッファ回路に必要な駆動能力は第2
図の先行技術より明らかに減少される。インターレース
スキャンを実行するために垂直線はV’A(o)−・・
+ MA(iL VA  (i+1) l  ” ” 
”l vB(o)” ’ ”VE  (i−1) IV
n(lt  ・・・、のように簡単なシーケンスで活性
化される。ここではy A (o)等の各々に対して1
つの垂直線が活性化される。垂直線を対で活性化する必
要がなく、フレームAとフレームBの間で垂直線の対を
変える必要もないためにインターレース回路の構造は非
常に簡単になる。
第6図には好適なインターレースとバッファ回路の一部
の例が示されている。インターレース回路部81は2個
のFET素子83,84のみでできており、そのゲート
は1つの垂直シフトレジスタ出力線V S (i)に接
続され、そのドレインはFA。
FB倍信号それぞれ受けている。素子83.84゜のヅ
ース出力はセンサアレイの対応する垂直線に直接に印加
される。デバイス85,86はクロック信号ψv2によ
って垂直線電位VA (i)、 VB (i)をそれぞ
れ放電するために使われる。以上のように本発明のセン
サーアレイではクロック信号中v3の必要性はなくなり
、これがこの発明のもう1つの利点である。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明が属するのと同じ一般的形式のカラー
撮像装置のブロック図である。 第2図は第1図のカラー撮像装置で使われる先行技術の
センサアレイの概略図である。 第6図は先行技術の撮像装置で用いられるインターレー
ス回路とバッファ回路の一部の概略図である。 第4 A+ 4 B図はそれぞれ先行技術のセンサアレ
イの物理的構造を表わす平面図を断面図である。 第5図はこの発明のセンサアレイの概略図である。 第6図はこの発明のセンサアレイで用いられるインター
レース回路とバッファ回路の一部の概略図である。 第7A、7E図はそれぞれこの発明のセンサアレイの物
理的構造を表わす平面図と断面図である。 10・・画 素     11・・FICT素子12・
・光ダイオード  16・・コンデンサー15・・ゲー
)       16・・ドレインコンタクト17・・
ソースコンタクト 18・・ドレイン拡散領域19・・
ソース拡散領域 21.22,23.24・・垂直線の役目をはたす第1
電極線 30.31,32,33・・水平線の役目をはたす第2
電極線 40・・フィールド酸化層 41・・サブストレート 51.52,53,54・・垂直線または第1電極線6
1.62,65.64・・水平線または第2電極線70
・・画 素 71・・スイッチング素子 72・・ドレインコンタクト 73−1.73−2・・IFICT素子74・・ソース
コンタクト 75・・ソース拡散領域 76・・ドレイン拡散領域 80・・サブストレート 81・・インターレース部 82・・バッファ部 100・・センサアレイ 101・・水平シフトレジスタ 102・・アレイ出力スイッチング回路106・・垂直
シフトレジスタ 104・・インターレース回路 105・・バッファ回路 第  4A 図 )1w(i))It、(i) 第  6  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、格子状に配列された電極線並びに電極線で囲まれた
    中に配列された二つ以上の光センサ一手段および二つ以
    上のスイッチング手段から成り、これらのスイッチング
    手段が一つの光センサ一手段に対して二つずつ組になっ
    て設けられ、該光センサ一手段と電極線の一つ(電極線
    ■)とを選択的に結合し、且つ上記の二つのスイッチン
    グ手段の各々は他の二つの電極線(電極線■、■)に別
    々に結合して、この電極線より制御入力を受けることを
    特徴とする固体撮像素子。 2、二つのスイッチング手段を交互に活性化させるよう
    に予め決定された順序で上記スイッチング手段を活性化
    させる手段を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    固体撮像素子。 6、格子状に配列された電@線が二つの電極線群から成
    り、電極線■と電極線■、■とが別々の電極線群に属す
    る特許請求の範囲第1項に記載の固体撮像素子。 4、格子状に配列された電極線がほぼ平行に並んだ電極
    線群とほぼ平行に並んだもう一つの電極線群カラナリ、
    二つの電極線群は互いにほぼ直角に交叉し、電極線のは
    二つの電極線群のうちの一方(第一電極線群)に属する
    ものの中の−っであり、電極線■、■はもう一方の電極
    線群(第二電極線群)に属するものの中の互いに隣接し
    あう二つの電極線であるような特許請求の範囲第1項に
    記載の固体撮像素子。 5、スイッチング手段が電界効果トランジスターから成
    るような特許請求の範囲第1項に記載の固体撮像素子。 6、第二電極線群に属する電極線の各々を予め決定され
    た順序で同時に一つだけ活性化させる手段を特徴とする
    特許請求の範囲第4項に記載の固体撮像素子。 Z第二電極線群に属する電極線のうちの偶数番のみ又は
    奇数番のみの活性化を交互に行わせるような手段を活性
    化手段が有する特許請求の範囲第6項に記載の固体撮像
    素子。
JP59024455A 1983-03-25 1984-02-14 単一ゲ−ト線インタ−レ−ス固体撮像素子 Pending JPS59191973A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/478,975 US4542409A (en) 1983-03-25 1983-03-25 Single gate line interlace solid-state color imager
US478975 1983-03-25

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JPS59191973A true JPS59191973A (ja) 1984-10-31

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ID=23902164

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59024455A Pending JPS59191973A (ja) 1983-03-25 1984-02-14 単一ゲ−ト線インタ−レ−ス固体撮像素子

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