JPS59190997A - 燐酸エステル誘導体 - Google Patents
燐酸エステル誘導体Info
- Publication number
- JPS59190997A JPS59190997A JP6327383A JP6327383A JPS59190997A JP S59190997 A JPS59190997 A JP S59190997A JP 6327383 A JP6327383 A JP 6327383A JP 6327383 A JP6327383 A JP 6327383A JP S59190997 A JPS59190997 A JP S59190997A
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- Japan
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- chlorophenyl
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- phosphate
- cyanoethyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、各種ヌクレオシドの燐酸化剤として有用なシ
クロヘキシルアンモニウム 0−クロロフェニル−β−
シアノエチルホスフェート(1)およびその製法ならび
にこれから成る燐酸化剤に関するものである。
クロヘキシルアンモニウム 0−クロロフェニル−β−
シアノエチルホスフェート(1)およびその製法ならび
にこれから成る燐酸化剤に関するものである。
1一
本発明の化合物(I)の製法は次の反応式によっ(式中
珈は低級アルキル基を意味する。)すなわち、0−クロ
ロフェニル−ビス(β−シアンエチル)ホスフェート偵
)またはトリアルキルアンモニウム 0−クロロフェニ
ル−β−シアンエチルホスフェ−)(IV)に、適当な
溶媒中でシクロヘキシルアミンを反応させれば目的物(
1)が生成する。反応は室温程度で充分に進行し。
珈は低級アルキル基を意味する。)すなわち、0−クロ
ロフェニル−ビス(β−シアンエチル)ホスフェート偵
)またはトリアルキルアンモニウム 0−クロロフェニ
ル−β−シアンエチルホスフェ−)(IV)に、適当な
溶媒中でシクロヘキシルアミンを反応させれば目的物(
1)が生成する。反応は室温程度で充分に進行し。
士数分乃至数十分で相当の収率に達する。生成物は通常
の後処理手段9例えば再結晶法により単離精製する。
の後処理手段9例えば再結晶法により単離精製する。
W 料化合’h は、o−クロロフェニルホスホロジク
ロリゾ−) (n)にβ−シアノエタノールヲ反応させ
て化合物(1)を製し、必要ならばこのものにトリアル
キルアミン(R2H)を反応させて化合物(IV)を製
造する。
ロリゾ−) (n)にβ−シアノエタノールヲ反応させ
て化合物(1)を製し、必要ならばこのものにトリアル
キルアミン(R2H)を反応させて化合物(IV)を製
造する。
本発明の化合物は安定性に優れているため用時調製の必
要がなく、かつ燐酸化後の保護基の除去が容易であるの
で各種のヌクレオシドの燐酸化剤として極めて有用であ
る。
要がなく、かつ燐酸化後の保護基の除去が容易であるの
で各種のヌクレオシドの燐酸化剤として極めて有用であ
る。
燐酸化されたヌクレオシド(ヌクレオチド)は、所望に
より適当な部分の保護基を除去した後適宜他の(または
同じ)ヌクレオチドやオリゴヌクレオチド、ポリヌクレ
オチド等と縮合せしめることにより種々のオリゴヌクレ
オチドやポリヌクレオチドに導くことができる。保護基
の除去は必要な段階において適当な反応を選んで行なう
ことができる。
より適当な部分の保護基を除去した後適宜他の(または
同じ)ヌクレオチドやオリゴヌクレオチド、ポリヌクレ
オチド等と縮合せしめることにより種々のオリゴヌクレ
オチドやポリヌクレオチドに導くことができる。保護基
の除去は必要な段階において適当な反応を選んで行なう
ことができる。
例えば、シアノエチル基の除去にはトリエチルアミンな
どの塩基類を、4.4’−ジメトキシトリチルの除去に
はベンゼンスルホン酸、トリクロロ酢酸あるいは臭化亜
鉛などの酸類を用いる。
どの塩基類を、4.4’−ジメトキシトリチルの除去に
はベンゼンスルホン酸、トリクロロ酢酸あるいは臭化亜
鉛などの酸類を用いる。
塩基部分のアシル基の除去には濃アンモニア水などを、
0−クロロフェニル基の除去にはテトラメチルグアニジ
ウム・ピリジンアルドキシムなどを用いる。
0−クロロフェニル基の除去にはテトラメチルグアニジ
ウム・ピリジンアルドキシムなどを用いる。
燐酸化の例として2種々の2′−デオキシリボヌクレオ
シドをEfimovらの方法(Tetrahsdron
Lett、、28961(1982))に従って2.4
.6−ドリイソブロビルフエニルスルホニルクロライド
(TPSOl) およびN−メチルイミダゾールの存
在下燐酸化した。詳細な条件は実験例に示すが反応式と
結果を次に示す。
シドをEfimovらの方法(Tetrahsdron
Lett、、28961(1982))に従って2.4
.6−ドリイソブロビルフエニルスルホニルクロライド
(TPSOl) およびN−メチルイミダゾールの存
在下燐酸化した。詳細な条件は実験例に示すが反応式と
結果を次に示す。
−8=
(DMTr : 4.4’−ジメトキシトリチル)Rf
ニジリカゲル薄層(クロロホルム−メタノール−10:
1) 実施例 5′−〇−ジメトキシトリチルー2′−デオギシリボヌ
クレオシドとシクロヘキシルアンモニウム 0−クロロ
フェニル−β−シアノエチルホスフェート(1,44g
、4.00ミリモル)にピリジン適当量を加え減圧乾固
する。この操作を三回行なう。残査にピリジン8−を加
え、ざら−5= 4 − に2,4.6−)リイソプロビルフェニルスルホニルク
ロライド(2,429,8ミリモル)およびN−メチル
イミダゾール(1,81り、16ミリモル)を加え室温
に30分または60分放置する。次いで、水冷下水l
calを加えて濃縮する。
ニジリカゲル薄層(クロロホルム−メタノール−10:
1) 実施例 5′−〇−ジメトキシトリチルー2′−デオギシリボヌ
クレオシドとシクロヘキシルアンモニウム 0−クロロ
フェニル−β−シアノエチルホスフェート(1,44g
、4.00ミリモル)にピリジン適当量を加え減圧乾固
する。この操作を三回行なう。残査にピリジン8−を加
え、ざら−5= 4 − に2,4.6−)リイソプロビルフェニルスルホニルク
ロライド(2,429,8ミリモル)およびN−メチル
イミダゾール(1,81り、16ミリモル)を加え室温
に30分または60分放置する。次いで、水冷下水l
calを加えて濃縮する。
これにクロロホルム50−および5%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液50−を加える。クロロホルム(50mX2)
で抽出し、クロロホルム層を水100−で洗浄した後濃
縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
。クロロボルム−メタノール(50/1.VI)で溶出
したフラクションを濃縮し、ルーペンタンを加え粉末化
した目的物を濾取する。
ム水溶液50−を加える。クロロホルム(50mX2)
で抽出し、クロロホルム層を水100−で洗浄した後濃
縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
。クロロボルム−メタノール(50/1.VI)で溶出
したフラクションを濃縮し、ルーペンタンを加え粉末化
した目的物を濾取する。
実施例1
0−クロロフェニルホスホロジクロリデート11.42
をジオキサン100−に溶解し、これにβ−シアンエタ
ノール10.7!;l’を加えて室温で80分攪拌する
。次いでこれにピリジン8.72をゆっくりと滴下する
。4時間後薄層クロマトグラフィーでチェックし、ビス
シアノエチル体(1’(fO,50,クロロホルム−メ
タノール−10:1)が生成しているのを確認して濃縮
する。得られた油状物に5%炭酸水素ナトリウム水溶液
200−および塩化メチレン2004を加え、さらに塩
化メチレン(200dX2)で抽出する。塩化メチレン
層を水300−で洗浄後渡Wd シ、 o−クロロフ
ェニル−ビス(β−シアノエチル)ホスフェート15.
42g(1)8%)を得る。
をジオキサン100−に溶解し、これにβ−シアンエタ
ノール10.7!;l’を加えて室温で80分攪拌する
。次いでこれにピリジン8.72をゆっくりと滴下する
。4時間後薄層クロマトグラフィーでチェックし、ビス
シアノエチル体(1’(fO,50,クロロホルム−メ
タノール−10:1)が生成しているのを確認して濃縮
する。得られた油状物に5%炭酸水素ナトリウム水溶液
200−および塩化メチレン2004を加え、さらに塩
化メチレン(200dX2)で抽出する。塩化メチレン
層を水300−で洗浄後渡Wd シ、 o−クロロフ
ェニル−ビス(β−シアノエチル)ホスフェート15.
42g(1)8%)を得る。
このものの8.099をアセトニトリル15−に溶解し
、シクロヘキシルアミン1.95gを加え、室温に80
分間放置しておくと結晶が析出する。冷蔵庫に放置後結
晶を濾取する。第二晶まで集めシクロヘキシルアンモニ
ウム 0−クロロフェニル−β−シアンエチルホスフェ
ート8.10g(87%)を得る。融点114〜116
℃。
、シクロヘキシルアミン1.95gを加え、室温に80
分間放置しておくと結晶が析出する。冷蔵庫に放置後結
晶を濾取する。第二晶まで集めシクロヘキシルアンモニ
ウム 0−クロロフェニル−β−シアンエチルホスフェ
ート8.10g(87%)を得る。融点114〜116
℃。
’H−NMR(ODC/3) δ:
2.66 (t、 2H,JHH−7Hz 0H2C;
iON )4.16 (d t、 2H,JHH−JH
p−7H2PO(E)t2 )6、(13〜7.58
(m、 4Marom )B、21 (bs、 l、
H3N −)I、R,(KBr)I/(cm )
。
iON )4.16 (d t、 2H,JHH−JH
p−7H2PO(E)t2 )6、(13〜7.58
(m、 4Marom )B、21 (bs、 l、
H3N −)I、R,(KBr)I/(cm )
。
2030 (N)I3)
2250 (ON)
1240 (P−0)
元素分析 GI5H220ノN20J Pとして計算値
G 49.98. Hft、15. N 7.7
6実験値 C49,82,H6,07,N 7.86実
施例2 実施例1の前段で得られる0−クロロフェニル−ビス(
β−シアノエチル)ホスフェートの3.14gにアセト
ニトリル5−およびトリエチルアミン5−を加える。室
温に一時間放置後原料の消失を薄層クロマトグラフィー
(クロロホルム−メタノール−10:1)でチェックし
て濃縮する。真空ポンプでよく乾燥後アセトニトリル1
0fn1.およびシクロヘキシルアミン1.73りを加
えて一40°Cに放置する。析出した結晶を濾取しアセ
トニトリルより再結晶させてシクロヘキシルアンモニウ
ム 0−クロロフェニル−β−シアノエチルホスフェー
ト2.649(78%)を得る。
G 49.98. Hft、15. N 7.7
6実験値 C49,82,H6,07,N 7.86実
施例2 実施例1の前段で得られる0−クロロフェニル−ビス(
β−シアノエチル)ホスフェートの3.14gにアセト
ニトリル5−およびトリエチルアミン5−を加える。室
温に一時間放置後原料の消失を薄層クロマトグラフィー
(クロロホルム−メタノール−10:1)でチェックし
て濃縮する。真空ポンプでよく乾燥後アセトニトリル1
0fn1.およびシクロヘキシルアミン1.73りを加
えて一40°Cに放置する。析出した結晶を濾取しアセ
トニトリルより再結晶させてシクロヘキシルアンモニウ
ム 0−クロロフェニル−β−シアノエチルホスフェー
ト2.649(78%)を得る。
−〇 −
手続補正書
1、事件の表示
昭和58年特許願第681!78号
2、発明の名称
燐酸エステル誘導体
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
〒103東京都中央区日本橋三丁目14番10号表 補
正の対象 明細書(発明の詳細な説明) 5、補正の内容 (1)明細書第2頁 構造式(1) と訂正する。
正の対象 明細書(発明の詳細な説明) 5、補正の内容 (1)明細書第2頁 構造式(1) と訂正する。
(2)同第2頁下から第6行
「式中R3は低級アルキル基を意味する。」とあるを
「式中Rは低級アルキル基を意味する。」と訂正する。
(2)同第7頁第8行
「得られた油状物」とあるを
[析出物を濾去し、濾液を濃縮し、得られた油状物」と
訂正する。
訂正する。
以上
Claims (1)
- (1) シクロヘキシルアンモニウム 0−クロロフ
ェニル−β−シアノエチルホスフェート(2) o−
クロロフェニルビス(β−シアノエチル)ホスフェート
またはトリアルキルアンモニウム o−クロロフェニル
−β−シアノエチルホスフェートにシクロヘキシルアミ
ンを反応させることを特徴とするシクロヘキシルアンモ
ニウム 0−クロロフェニル−β−シアノエチルホスフ
ェートの製法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6327383A JPS59190997A (ja) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | 燐酸エステル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6327383A JPS59190997A (ja) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | 燐酸エステル誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59190997A true JPS59190997A (ja) | 1984-10-29 |
JPH0373554B2 JPH0373554B2 (ja) | 1991-11-22 |
Family
ID=13224527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6327383A Granted JPS59190997A (ja) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | 燐酸エステル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59190997A (ja) |
-
1983
- 1983-04-11 JP JP6327383A patent/JPS59190997A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0373554B2 (ja) | 1991-11-22 |
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