JPS59183855A - 被覆のため基体上に粉体製品を均一に分配する方法および装置 - Google Patents
被覆のため基体上に粉体製品を均一に分配する方法および装置Info
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- B05B7/1486—Spray pistols or apparatus for discharging particulate material for spraying particulate material in dry state
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/02—Spray pistols; Apparatus for discharge
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、特に光学的または電気的に特殊な性質を有す
る被膜を被覆するため、スリットを介して基体（特に、
ガラス）上に粉体製品を分配する操作に関する。
る被膜を被覆するため、スリットを介して基体（特に、
ガラス）上に粉体製品を分配する操作に関する。
基体（例えば、ガラスリボン）上に、ガラス上の上方に
設けた分配スリットを介して、ガス中に懸濁させた粉体
製品を連続的に分配することは、４弗国特許第２．Ｉ１
．２７．／１１／号がら公知である。上記スリットハ、
ノズルの下端である。ノズルハノズルの全長にわたって
延び、ガス中に慝濁させた粉体（粉体／ガスサスペンシ
ョン）の唯一の供給導管を分割して成る等長の複数の基
本導管から供給を受ける、断面がベンチュリ状のキャビ
ティとノズルの全長にわたって延び、ベンチュリ状キャ
ビティに接続し、粉体／ガス混合物を均一化する高圧空
気を受容する、はぼ平行六面体形状の太き／：Ｃ均一化
チャンバとを含む。この場合、上記キャビティはノズル
の全長にわたって延び、はじめは拡散し、分配口側で収
斂する細い通路を介して均一化チャンバに連通している
。
設けた分配スリットを介して、ガス中に懸濁させた粉体
製品を連続的に分配することは、４弗国特許第２．Ｉ１
．２７．／１１／号がら公知である。上記スリットハ、
ノズルの下端である。ノズルハノズルの全長にわたって
延び、ガス中に慝濁させた粉体（粉体／ガスサスペンシ
ョン）の唯一の供給導管を分割して成る等長の複数の基
本導管から供給を受ける、断面がベンチュリ状のキャビ
ティとノズルの全長にわたって延び、ベンチュリ状キャ
ビティに接続し、粉体／ガス混合物を均一化する高圧空
気を受容する、はぼ平行六面体形状の太き／：Ｃ均一化
チャンバとを含む。この場合、上記キャビティはノズル
の全長にわたって延び、はじめは拡散し、分配口側で収
斂する細い通路を介して均一化チャンバに連通している
。
上記ノズルは、好ましい結果を与えるが、詰り易く、正
しい機能を保持するには定期的にりＩＪ−ニングする必
要があり、従って生産損失が生ずる。
しい機能を保持するには定期的にりＩＪ−ニングする必
要があり、従って生産損失が生ずる。
一方、上記ノズルの分配口の長さは２３０〜乙、ｔＯｍ
ｍに設計してあり、ｒｉｒ数ｍのガラスリボンを処理す
るには、１］方向へ複数のノズルを配置する必要がある
。従って、ガラスの金山にわたって均一な分布を達成す
るには、使用する各ノズルを絶対的に同一とするか、平
衡させなければならない。数ｍのガラスリボンの巾に等
しい長さの分配口を有する唯一のノズルを配置するのが
好ましいが、ノズルの長さを大巾に増加すると、分布の
均一性が乱され、特にガラス上にまたら模様が生じ、詰
りが迷くなる。
ｍに設計してあり、ｒｉｒ数ｍのガラスリボンを処理す
るには、１］方向へ複数のノズルを配置する必要がある
。従って、ガラスの金山にわたって均一な分布を達成す
るには、使用する各ノズルを絶対的に同一とするか、平
衡させなければならない。数ｍのガラスリボンの巾に等
しい長さの分配口を有する唯一のノズルを配置するのが
好ましいが、ノズルの長さを大巾に増加すると、分布の
均一性が乱され、特にガラス上にまたら模様が生じ、詰
りが迷くなる。
本発明の目的は、上記欠点を排除することにある。この
ため本発明にもとづき数ｍの基体中、特にフロート法で
製造したガラスの金山を被うことができ、詰りか生ずる
ことがなく、時間的、空間的に分布の均一性が得られる
方法および装置を提案する。
ため本発明にもとづき数ｍの基体中、特にフロート法で
製造したガラスの金山を被うことができ、詰りか生ずる
ことがなく、時間的、空間的に分布の均一性が得られる
方法および装置を提案する。
複数の別個の供給路を介して、被覆すべき基体の方向に
のみ開放した密閉区画の入口に粉体を導入して、基体上
に粉体を均一に分配する本方法では、Ｆ記密封区画の入
口から上記密閉区画の全容積内にガスを均一に吹込んで
乱流を形成し、区画の対向する壁の間を粉体／ガスサス
ペンションを通過＝＞せて、基体の金山にわたって延び
る長さを存する薄いサスペンションフィルムを形成し、
全長にわたって実質的に基体の方向へ向きサスペンショ
ンフィルムと同一の速度−を有する２つの補助ガス噴射
流で上記サスペンションフィルムラ包ミ、上記ナスペン
ションフィルムを含む上記区画の壁をＪＩＭ 斂させる
ことによって、基体の方向へ区制の出ｌＪまで上記サス
ペンションフィルムを加速する。
のみ開放した密閉区画の入口に粉体を導入して、基体上
に粉体を均一に分配する本方法では、Ｆ記密封区画の入
口から上記密閉区画の全容積内にガスを均一に吹込んで
乱流を形成し、区画の対向する壁の間を粉体／ガスサス
ペンションを通過＝＞せて、基体の金山にわたって延び
る長さを存する薄いサスペンションフィルムを形成し、
全長にわたって実質的に基体の方向へ向きサスペンショ
ンフィルムと同一の速度−を有する２つの補助ガス噴射
流で上記サスペンションフィルムラ包ミ、上記ナスペン
ションフィルムを含む上記区画の壁をＪＩＭ 斂させる
ことによって、基体の方向へ区制の出ｌＪまで上記サス
ペンションフィルムを加速する。
本方法では、更に区画の入１］Ｋ吹込んで乱流を形成す
るためのガスは、実質的に基体に向う粉体の進行方向に
対して垂直な方向へ向ける。
るためのガスは、実質的に基体に向う粉体の進行方向に
対して垂直な方向へ向ける。
複数の供給路を介して密閉区画に粉体を送る場合は、粉
体の通路断面積を保持するのが有利である。
体の通路断面積を保持するのが有利である。
本発明にもとづき更に基体の全寸法にわたって延びる長
さを有する、基体上に粉体を噴射するノズルを提案する
。このノズルは、ノズルの全長さにわたって延び、ノズ
ルの全高さにわたってノズルを貫通し、分配口で終わる
区画を有し、上記区画は基体の方向へ規則的に収斂する
同心の２つの連続の部分から成り、入口部分は基体の方
向へ向く粉体供給導管を受容し、更に、粉体供給導管に
対して垂直（て、区画の全長にわたって均一に分布され
た均一化ガスを受容し、他端を分配口に接続した第２部
分の始端まで両側に全長にわたって延びる２つの加速ガ
ス供給口に同時に接続している。
さを有する、基体上に粉体を噴射するノズルを提案する
。このノズルは、ノズルの全長さにわたって延び、ノズ
ルの全高さにわたってノズルを貫通し、分配口で終わる
区画を有し、上記区画は基体の方向へ規則的に収斂する
同心の２つの連続の部分から成り、入口部分は基体の方
向へ向く粉体供給導管を受容し、更に、粉体供給導管に
対して垂直（て、区画の全長にわたって均一に分布され
た均一化ガスを受容し、他端を分配口に接続した第２部
分の始端まで両側に全長にわたって延びる２つの加速ガ
ス供給口に同時に接続している。
添付の図面を参照して以下に本発明の詳細な説明する。
第１図に本発明に係る粉体分配ノズル／の横断面を示し
た。粉体を被覆ずべき基体λの上方に基体の金山（例え
ばｓｏｃｍ〜数ｍ）にわたって延びている。基体および
ノズルは相対的に並進運動される。この基体２は特に固
定のノズル／の上方を定速で移動するガラスリボンであ
る。
た。粉体を被覆ずべき基体λの上方に基体の金山（例え
ばｓｏｃｍ〜数ｍ）にわたって延びている。基体および
ノズルは相対的に並進運動される。この基体２は特に固
定のノズル／の上方を定速で移動するガラスリボンであ
る。
このノズル／は粉体を通過せしめる細い区画ｌが全長さ
および全高さにわたって貫通しているボデー３から成る
。上記区画は、図示の実施例では分配口Ｓで終わってい
る。上記区画の巾は、その高さの／／！；Ｏ〜１７ｉｏ
ｏのオーダであり、巾の変化は比較的小さく、連続的で
規則的である。この区画の上端には、分配すべき粉体お
よび各種ガス流れが供給される。
および全高さにわたって貫通しているボデー３から成る
。上記区画は、図示の実施例では分配口Ｓで終わってい
る。上記区画の巾は、その高さの／／！；Ｏ〜１７ｉｏ
ｏのオーダであり、巾の変化は比較的小さく、連続的で
規則的である。この区画の上端には、分配すべき粉体お
よび各種ガス流れが供給される。
ノズルボデー３には、更に詳細に言えば、その下部には
粉体被覆のため一般に基体２を高温に保持するので近傍
のノズル先端が過熱されるのを防止するため、冷却機構
乙（例えば給水回路）が設けである。ノズルボデー３は
更に変形を防止する補強材または横梁７を有している。
粉体被覆のため一般に基体２を高温に保持するので近傍
のノズル先端が過熱されるのを防止するため、冷却機構
乙（例えば給水回路）が設けである。ノズルボデー３は
更に変形を防止する補強材または横梁７を有している。
第１図に示したノズルｌは、区画グが貫通する」−下の
２つのゾーン、即ち上部のいわゆる均一化ゾーンざと、
下部のいわゆる加速ゾーン９とを有する。区画の上部に
は、ノズルボデー３の−に部壁１３を貫通し、ノズルの
長さ方向へ規則的に（例えば、ｓｃｍ間隔て）分布させ
た複数の供給導管１０を介して、一般に１次ガス（例え
ば空気）中に懸濁させた粉体が供給される。上記導管Ｉ
Ｏのまわりの密封は、有孔蓋／２で行う。上記導管ＩＯ
はノズルボデー３の上部壁ｌ／を貫通してノズルの全長
にわたって延び区画ゲのゾーンどの上部を構成する比較
的大きいチャンバ／３に貫入している。
２つのゾーン、即ち上部のいわゆる均一化ゾーンざと、
下部のいわゆる加速ゾーン９とを有する。区画の上部に
は、ノズルボデー３の−に部壁１３を貫通し、ノズルの
長さ方向へ規則的に（例えば、ｓｃｍ間隔て）分布させ
た複数の供給導管１０を介して、一般に１次ガス（例え
ば空気）中に懸濁させた粉体が供給される。上記導管Ｉ
Ｏのまわりの密封は、有孔蓋／２で行う。上記導管ＩＯ
はノズルボデー３の上部壁ｌ／を貫通してノズルの全長
にわたって延び区画ゲのゾーンどの上部を構成する比較
的大きいチャンバ／３に貫入している。
いわゆる、均一化ガス（一般に空気）は、チャンバ１３
の両側にその全長にわたって設けてあって共通の側壁／
乙を介して上記チャンノ（に連通し、多孔バイブｌＳか
ら高圧ガスの供給を受ける２つの同形のタンク／グから
上記チャンノくに供給される。」二記側壁／乙は、ＩＰ
Ｏｒ ａ １ 〃タイプの多孔質材料から成る。チャ
ンバ／３の出口では区画ｑの巾は狭くなっており、供給
導管ＩＯは狭い部分のレベルまでチャンバ／３内に下降
している。第２図に示した如く、横方向へ配置したプリ
ズム状部利／７は区画グ内に貫入する各導管ＩＯから噴
射された粉体噴射流を離隔し、通過断面積を実質的に一
定に保持し、従って粉体の速度変化およびこれに伴う基
体上の分布変化が避けられる。均一化ガスは、ノズル全
長にわたって粉体の分布を一様となし、１次空気／粉体
温合物を均一化し、粉体の堆積を防止する。
の両側にその全長にわたって設けてあって共通の側壁／
乙を介して上記チャンノ（に連通し、多孔バイブｌＳか
ら高圧ガスの供給を受ける２つの同形のタンク／グから
上記チャンノくに供給される。」二記側壁／乙は、ＩＰ
Ｏｒ ａ １ 〃タイプの多孔質材料から成る。チャ
ンバ／３の出口では区画ｑの巾は狭くなっており、供給
導管ＩＯは狭い部分のレベルまでチャンバ／３内に下降
している。第２図に示した如く、横方向へ配置したプリ
ズム状部利／７は区画グ内に貫入する各導管ＩＯから噴
射された粉体噴射流を離隔し、通過断面積を実質的に一
定に保持し、従って粉体の速度変化およびこれに伴う基
体上の分布変化が避けられる。均一化ガスは、ノズル全
長にわたって粉体の分布を一様となし、１次空気／粉体
温合物を均一化し、粉体の堆積を防止する。
導管１０から区画ｌ内に噴射された粉体は、均一化ガス
の作用を受けて、ノズルの長さに等しい長さを有し、区
画ゲのゾーンどの実質的に垂直な壁ｌざの間をノズル出
口の方向へ延びる粉体ｌガスリスペンションのフィルム
状流れ、即チ薄い連続的流れを形成する。均一化ガスの
作用により、供給）！７管から離れるにつれて、即ち粉
体の進行に１１ｈ、じてガス／空気混合物の均一性およ
び区画を内の混合物の分布の一様性が向上される。均一
化ゾーンざの区画ｔの２つ壁Ｖｇは、僅かにＩＵｙ、斂
させるのがイｆ利である。かくして、上記ゾーンざにお
いて、導管ｌＯから供給される別個の粉体噴射流の分布
が一様となる。
の作用を受けて、ノズルの長さに等しい長さを有し、区
画ゲのゾーンどの実質的に垂直な壁ｌざの間をノズル出
口の方向へ延びる粉体ｌガスリスペンションのフィルム
状流れ、即チ薄い連続的流れを形成する。均一化ガスの
作用により、供給）！７管から離れるにつれて、即ち粉
体の進行に１１ｈ、じてガス／空気混合物の均一性およ
び区画を内の混合物の分布の一様性が向上される。均一
化ゾーンざの区画ｔの２つ壁Ｖｇは、僅かにＩＵｙ、斂
させるのがイｆ利である。かくして、上記ゾーンざにお
いて、導管ｌＯから供給される別個の粉体噴射流の分布
が一様となる。
高速で移動する場合に、短時間で基体２に十分な被覆を
行い、基体上に粉体を良好に耐着させ、粉体がノズル出
口の分配口３から放射された時点ト粉体が基体に接触す
る時点との間の粉体の飛散を防止するため、ノズル出口
において少くともｌＯ〜／！；、ｍ／Ｓ の垂直速度を
粉体に与えることが肝要である。一方、基体上の粉体の
反応には高温が必要であるので、基体を過度に冷却しな
いことが肝要であり、従って粉体の担体ガスの流量を制
限しなければならない。
行い、基体上に粉体を良好に耐着させ、粉体がノズル出
口の分配口３から放射された時点ト粉体が基体に接触す
る時点との間の粉体の飛散を防止するため、ノズル出口
において少くともｌＯ〜／！；、ｍ／Ｓ の垂直速度を
粉体に与えることが肝要である。一方、基体上の粉体の
反応には高温が必要であるので、基体を過度に冷却しな
いことが肝要であり、従って粉体の担体ガスの流量を制
限しなければならない。
例えばＤＢＴＯ（酸化ジブチルスズ）またはＤＢＴＦに
フッ化ジブチルスズ）のタイプの有機金属化合物の粉径
２０μｍ以下の粉体をガラス基体上に噴射して、熱作用
により上記化合物を金属酸化物（特に、酸化スズ）に分
解して、特殊な光学的性質および／または電気的性質を
有する被膜を形成する場合、ガラスに対する粉体の衝突
速度を７３〜３３ｍ／Ｓとするのが有利である。
フッ化ジブチルスズ）のタイプの有機金属化合物の粉径
２０μｍ以下の粉体をガラス基体上に噴射して、熱作用
により上記化合物を金属酸化物（特に、酸化スズ）に分
解して、特殊な光学的性質および／または電気的性質を
有する被膜を形成する場合、ガラスに対する粉体の衝突
速度を７３〜３３ｍ／Ｓとするのが有利である。
このノズルｌの場合、フィルム状流れに含まれル粉体／
ガスサスペンションの加速は、加速ゾーン９において、
一方では区画ｌのゾーン９の壁ｌざの収斂部分／９によ
って行われ他方ではノズルの全長にわたってフィルム状
流れの側面に補助ガス（一般に空気）を噴射することに
よって行われる。
ガスサスペンションの加速は、加速ゾーン９において、
一方では区画ｌのゾーン９の壁ｌざの収斂部分／９によ
って行われ他方ではノズルの全長にわたってフィルム状
流れの側面に補助ガス（一般に空気）を噴射することに
よって行われる。
詰りを生じ、担体ガス中の混合物の分布の均一性を低下
する乱流を防止するため、一定の加速度が得られるよう
収斂度を一様にするのが有利である。
する乱流を防止するため、一定の加速度が得られるよう
収斂度を一様にするのが有利である。
即ち、壁／ワの２つの部分は、中心面に対して約ｊ″Ｃ
の角度をなし、端部に、巾約グｍｍ、即ち加速ゾーンの
入口／／３〜／／Ｉｌの分配口を形成する。
の角度をなし、端部に、巾約グｍｍ、即ち加速ゾーンの
入口／／３〜／／Ｉｌの分配口を形成する。
このノズルの場合、ノズルｌのボデー３に設置し７た有
孔バイブ２１がら高圧ガスの供給を受けるギャビティ２
０は、ノズルの高さのけぼｌ／、２の個所に配置してあ
り、ｔｔ ｐ Ｏｒ ａ １ ／／タイプの多孔質プレ
ート２２および開口２３を介して区画グに連通ずる。
孔バイブ２１がら高圧ガスの供給を受けるギャビティ２
０は、ノズルの高さのけぼｌ／、２の個所に配置してあ
り、ｔｔ ｐ Ｏｒ ａ １ ／／タイプの多孔質プレ
ート２２および開口２３を介して区画グに連通ずる。
２つの開口２３は、均一化ゾーンがら来るサスペンショ
ンフィルムの両側に開口しており、ガスは、サスペンシ
ョンフィルムと同一の速度で噴射される。これら３つの
流れを統合するには、均一化ゾーンの下端のほぼ３倍の
「１」口＋ｉｊが必要である。
ンフィルムの両側に開口しており、ガスは、サスペンシ
ョンフィルムと同一の速度で噴射される。これら３つの
流れを統合するには、均一化ゾーンの下端のほぼ３倍の
「１」口＋ｉｊが必要である。
これら３つの流れの統合は、加速ゾーンタの入口で行わ
れる。統合された３つの流れは、同一の速度を有するの
で、剪断が生ずることはなく、均一化ゾーンの出口で得
られた均一性が保持される。
れる。統合された３つの流れは、同一の速度を有するの
で、剪断が生ずることはなく、均一化ゾーンの出口で得
られた均一性が保持される。
次いで粉体は壁１９が収斂していることにより、ノズル
の出口端まで即ち分配口Ｓを介して噴射されるまで、加
速ゾーンに沿って加速される。この種のノズルは、その
下方を移動する広巾の基体を被うよう長くできる。側板
２５は区画の両端を閉鎖する。
の出口端まで即ち分配口Ｓを介して噴射されるまで、加
速ゾーンに沿って加速される。この種のノズルは、その
下方を移動する広巾の基体を被うよう長くできる。側板
２５は区画の両端を閉鎖する。
以上の説明では、ノズＪｋｌは被覆すべき基体の上方に
垂直に配置しであると記述してあり、用語〃上の、下の
、垂直な、水平な、ｅｔｃｌｌは、単なる実施例として
挙げた上記構成に関するものである。
垂直に配置しであると記述してあり、用語〃上の、下の
、垂直な、水平な、ｅｔｃｌｌは、単なる実施例として
挙げた上記構成に関するものである。
事実、ノズルｌは各種の位置、即ち被覆すべき基体の上
方の位置、下方の位置、完全に垂直な位置、垂直線に対
して傾斜した位置、あるいは、例えば基体が垂直である
場合は、水平方向に重ね合せた位置またはほぼ水平な位
置などを取ることができる。この場合、表現〃上の、下
の、垂直な、水平な、ｅｔＣ〃はノズルの位置に関して
使用する。
方の位置、下方の位置、完全に垂直な位置、垂直線に対
して傾斜した位置、あるいは、例えば基体が垂直である
場合は、水平方向に重ね合せた位置またはほぼ水平な位
置などを取ることができる。この場合、表現〃上の、下
の、垂直な、水平な、ｅｔＣ〃はノズルの位置に関して
使用する。
供給導管ＩＯは粉体／ガスサスベンジ目ンタンクから出
る１つまたは複数の等価の基体導管から分岐させること
ができ、あるいは粉体を充填したホッパの底面に設けて
あって、高圧ガス（一般に空気）を附加して粉体を希釈
、加速する無端の粉体エゼクタから構成できる。
る１つまたは複数の等価の基体導管から分岐させること
ができ、あるいは粉体を充填したホッパの底面に設けて
あって、高圧ガス（一般に空気）を附加して粉体を希釈
、加速する無端の粉体エゼクタから構成できる。
上述の装置は、所望の基体（例えばガラス、金属、木材
、紙、ｅｔｃ）上に各種粉体（有機金属化合物、プラス
チック、塗料、ワニス、エナメル、インキ、ピグメント
、ｅｔｃ）を一様に分布さゼることかできる。
、紙、ｅｔｃ）上に各種粉体（有機金属化合物、プラス
チック、塗料、ワニス、エナメル、インキ、ピグメント
、ｅｔｃ）を一様に分布さゼることかできる。
特殊な光学性を有する層を被覆したガラスを製膜する場
合、各種金属（スズ、インジウム、チタン、クロム、鉄
、コバルｈ、ｅｔｃ）ベースの各種粉体（例えば酸化ジ
ブチルスズ粉体、７０化ジブチルスズ粉体、アセルア七
トン酸金属粉体、ｅｔｃ）を分布させることができる。
合、各種金属（スズ、インジウム、チタン、クロム、鉄
、コバルｈ、ｅｔｃ）ベースの各種粉体（例えば酸化ジ
ブチルスズ粉体、７０化ジブチルスズ粉体、アセルア七
トン酸金属粉体、ｅｔｃ）を分布させることができる。
第１図は、本発明に係るノズルの横断面図、第２図は第
１図のノズルの粉体供給導管の範囲の部分断面図である
。 ｌ ノズル ２ 基体 ｔ 密閉区画Ｓ 分配口
ざ 均一化ゾーン ワ 加速ゾーン ｉｏ 供給
導管 ｌざ 壁
１図のノズルの粉体供給導管の範囲の部分断面図である
。 ｌ ノズル ２ 基体 ｔ 密閉区画Ｓ 分配口
ざ 均一化ゾーン ワ 加速ゾーン ｉｏ 供給
導管 ｌざ 壁
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ０）基体上に粉体を均一に分配する方法であって、別個
の複数の供給路を介して、被覆すべき基体の方向へのみ
開放した密閉区画の入口に分配すべき粉体を導入する形
式のものにおいて、上記密閉区画の入口から上記密閉区
画の全容積内にガスを均一に吹込んで乱流を形成し、区
画の対向する壁の間を粉体／ガスサスペンションを通過
させて、基体の金山にわたって延びる長さを有する薄い
フィルムを形成し、全長にわたって実質的に基体の方向
へ向きサスペンションフィルムと同一のｉｌ［ヲ有する
２つの補助ガス噴射流で上記サスペンションフィルムラ
包ミ、上記サスペンションフィルムを含む上記区画の壁
を収斂させることによって、基体の方向へ区画の出口ま
で上記サスペンションフィルムを加速することを特徴と
する基体上に粉体を均一に分配する方法。 （２シ）区画の人口から吹込んで乱流を形成するための
ガスは、実質的に基体に向う粉体の進行方向に垂直な方
向へ向けることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の方法。 （Ｊ＜）粉体ナスペンションを含む対向する壁を収斂さ
せて粉体ナスペンションを乱流ゾーンからガス噴射流で
包まれるまで僅かに加速することを特徴とする特、（１
・請求の範囲第１項または第２項記載の方法。 （４）複数の供給路を介して粉体を密閉区画に送る場合
は、粉体の通路断面積の和を実質的に保持することを特
徴とする特許請求の範ＥｊＮ第、／〜３項の１つに記載
の方法。 （：１） 、！−，（体に向う粉体の進行速度を７０
〜／ ｊ ｍ／ｓよりも大きく保持することを特徴とす
る特許請求の範囲第１−ψ項の１つに記載の方法。 （６）基体の全寸法にわたって延びる長さを有する、基
体上に粉体を噴射するノズルにおいて、ノズルの全高さ
および全長さにわたってノズルを貫通し、３分配口で終
わる区画を有し、上記区画は、基体の方向へ規則的′に
収斂する同心の２つの連結の部分から成り、入口部分は
、基体の方向へ向く粉体供給導管を受容し、更に粉体供
給導管に垂直に区画の全長にわたって均一１１こ分布さ
れた均一化カスを受容し、他端を分配口に接続した第２
部分の始端まで両側に全長にわたって延びる２つの加速
ガス供給口に同時に接続しであることを特徴とするノズ
ル。 （７）加速ガス供給口が基体の方向へ向いていることを
特徴とする特許請求の範囲第３項記載のノズル。 （８）加速ガス供給口の断面積は、加速ガスと粉体サス
ペンションとが等速で衝突するよう選択しであることを
特徴とする特許請求の範囲第に項または第７項記載のノ
ズル。 （９）粉体供給導管の引入部分が、横方向へ配置した尖
端が基体へ向くプリズム状部材によって区画されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第乙〜Ｊ項の／っに記
載のノズル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8304125A FR2542637B1 (fr) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | Distribution reguliere d'un solide pulverulent sur un support en vue de son revetement |
| FR8304125 | 1983-03-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59183855A true JPS59183855A (ja) | 1984-10-19 |
| JPH0448505B2 JPH0448505B2 (ja) | 1992-08-06 |
Family
ID=9286824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59048031A Granted JPS59183855A (ja) | 1983-03-14 | 1984-03-13 | 被覆のため基体上に粉体製品を均一に分配する方法および装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4533571A (ja) |
| JP (1) | JPS59183855A (ja) |
| FR (1) | FR2542637B1 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE3587294T2 (de) * | 1985-01-22 | 1993-09-30 | Saint Gobain Vitrage | Verfahren zur Herstellung einer dünnen Metalloxidbeschichtung auf einem Substrat, insbesondere Glas und deren Verwendung als Verglasung. |
| US5851642A (en) * | 1985-01-22 | 1998-12-22 | Saint-Gobain Vitrage | Product produced by coating a substrate with an electrically conductive layer |
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| US4948632A (en) * | 1985-05-21 | 1990-08-14 | Ppg Industries, Inc. | Alkytinfluoride composition for deposition of tin oxide films |
| JPS63184210A (ja) * | 1987-01-27 | 1988-07-29 | 日本板硝子株式会社 | 透明導電体の製造方法 |
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| FR2644840B1 (fr) * | 1989-03-23 | 1995-04-21 | Saint Gobain Vitrage | Fenetre chauffante |
| FR2701869B1 (fr) * | 1993-02-25 | 1995-06-09 | Saint Gobain Vitrage Int | Dispositif de distribution de solides pulvérulents à la surface d'un substrat afin de le revêtir. |
| GB9610821D0 (en) * | 1996-05-23 | 1996-07-31 | Glaxo Wellcome Inc | Metering apparatus |
| US20030037569A1 (en) * | 2001-03-20 | 2003-02-27 | Mehran Arbab | Method and apparatus for forming patterned and/or textured glass and glass articles formed thereby |
| AU2003241962A1 (en) * | 2002-06-07 | 2004-01-23 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Powder density-measuring device and automatic powder spray amount control system using the same |
| US6997018B2 (en) * | 2003-06-02 | 2006-02-14 | Ferro Corporation | Method of micro and nano texturing glass |
| JP4752725B2 (ja) * | 2005-11-17 | 2011-08-17 | 株式会社ニコン | ガラス基板およびその製造方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1507465A (en) * | 1974-06-14 | 1978-04-12 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
| JPS515324A (en) * | 1974-07-02 | 1976-01-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Garasuhyomenheno kinzokusankabutsuhimakukeiseisochi |
| NL7610560A (nl) * | 1976-09-23 | 1978-03-29 | Shell Int Research | Werkwijze en reactor voor de partiele ver- branding van koolpoeder. |
| DE2753268A1 (de) * | 1977-11-30 | 1979-06-07 | Hofmann Walter Maschf | Anordnung an spritzeinrichtungen fuer rieselfaehiges spritzgut |
| FR2427141B1 (ja) * | 1978-05-31 | 1980-10-10 | Saint Gobain | |
| DE3130098A1 (de) * | 1980-08-08 | 1982-05-27 | PPG Industries, Inc., 15222 Pittsburgh, Pa. | Verfahren und vorrichtung zum ueberziehen eines substrats |
| DE3117715C2 (de) * | 1981-05-05 | 1985-07-18 | Ransburg-Gema AG, St.Gallen | Pulverbeschichtungsvorrichtung |
| US4401695A (en) * | 1982-06-01 | 1983-08-30 | Ppg Industries, Inc. | Method of and apparatus for applying powder coating reactants |
-
1983
- 1983-03-14 FR FR8304125A patent/FR2542637B1/fr not_active Expired
-
1984
- 1984-03-12 US US06/588,330 patent/US4533571A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-03-13 JP JP59048031A patent/JPS59183855A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4533571A (en) | 1985-08-06 |
| FR2542637A1 (fr) | 1984-09-21 |
| JPH0448505B2 (ja) | 1992-08-06 |
| FR2542637B1 (fr) | 1985-07-12 |
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